JPH0277585A - Palladium/nickel alloy layer as intermediate between metal base material having no or almost no corrosion resistance - Google Patents

Palladium/nickel alloy layer as intermediate between metal base material having no or almost no corrosion resistance

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JPH0277585A
JPH0277585A JP1061083A JP6108389A JPH0277585A JP H0277585 A JPH0277585 A JP H0277585A JP 1061083 A JP1061083 A JP 1061083A JP 6108389 A JP6108389 A JP 6108389A JP H0277585 A JPH0277585 A JP H0277585A
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ミヒャエル、バルツ
Klaus Schulze-Berge
クラウス、シュルツェーベルゲ
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ズィークフリート、バスティアン
Helmut Erhart
ヘルムート、エールハルト
Hartwig Petersen
ハルトヴィッヒ、ペテルゼン
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Abstract

PURPOSE: To improve the corrosion resistance and mechanical adhesive power of a film formed by a PVD method, by depositing a Pd/Ni alloy layer under specified conditions as an intermediate layer between a metallic base material having no corrosion resistance and this film.
CONSTITUTION: The Pd/Ni alloy layer is deposited as the intermediate layer on the metallic base material having no corrosion resistance or having substantially no corrosion resistance at the time of applying the film by the PVD method on the base material. The intermediate layer is deposited from an aq. electrolyte consisting of palladium amine and nickel amine contg. 2 to 20g/l Pd and 5 to 30g/l Ni adjusted in the Pd/Ni ratio to the extent of contg. 30 to 90% Pd and, in some cases, org. additives having a conductive salt and sulfur. The electrolyte components are so selected that the sulfur has bivalent or higher valence when the sulfur is deposited. The defect of the film to be formed is prevented by the formation of such intermediate layer.
COPYRIGHT: (C)1990,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、金属基材」二へのPVD法により製造される
被膜の施与に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to the application of coatings produced by the PVD method to metal substrates.

従来の技術 前記の場合には、工業的被覆ならびに装飾的被覆が重要
である。PVDとは、物理的蒸着(physical 
vapour deposition)のことである。
PRIOR ART In the above-mentioned cases, industrial as well as decorative coatings are important. PVD stands for physical vapor deposition (physical vapor deposition).
vapor deposition).

この場合、常用の被覆材料は、周期律表の第4副族〜第
6副族の元素チタン、ジルコニウム、ハフニウムもしく
はバナジウム、ニオブ、タンタルもしくはクロム、モリ
ブデン、タングステンの金属硼化物、金属炭化物、金属
窒化物、金属酸化物、金属珪化物の単独物質または組合
せ物である。この場合、特に重要なのは、周期律表の第
4副族の元素の炭化物、窒化物および酸化物である。そ
れというのも、これにより高い硬度および耐摩耗性を除
いて、硬質クロム被膜を数倍凌駕することができるよう
な被覆材料は、例えばTiN(金色)またはTiC(無
烟炭色)のような心をひく装飾的色合いをも達成するこ
とができるからである。このような被覆材料は、アルミ
ニウム、コバルト、金、炭素、銅、ニッケル、パラジウ
ムのような別の元素の相応する混和物を含有していても
よく、したがって青色、褐色、緑色、赤色または銀色の
装飾的色合いも得られる。更に、PVD法によれば、ア
ルミニウム、チタン、ジルコニウム、白金または金のよ
うな金属材料も析出することができ、したがって多数の
スパッター源を有する相応する装置中で層組合せ物を得
ることもできる。チタンは、例えば事後に化学的または
電気化学的に表面酸化することができ、したがって色合
いは、スペクトルの全ての方法で達成することができる
。しかし、例えば特に摩滅性および摩耗性に乏しい表面
を得るためにPVD法により無定形および/または金剛
石類縁の炭素を析出することもできる。
In this case, the commonly used coating materials are metal borides, metal carbides, metals of the elements titanium, zirconium, hafnium or vanadium, niobium, tantalum or chromium, molybdenum, tungsten from subgroups 4 to 6 of the periodic table. It is a single substance or a combination of nitrides, metal oxides, and metal silicides. Of particular importance in this case are carbides, nitrides and oxides of elements of the fourth subgroup of the periodic table. This is because coating materials such as TiN (gold-colored) or TiC (charcoal-free), which can outperform hard chrome coatings by several times, apart from their high hardness and wear resistance, are This is because attractive decorative shades can also be achieved. Such coating materials may contain corresponding admixtures of other elements such as aluminium, cobalt, gold, carbon, copper, nickel, palladium and thus have a blue, brown, green, red or silver color. Decorative shades can also be obtained. Furthermore, metallic materials such as aluminium, titanium, zirconium, platinum or gold can also be deposited using the PVD method, so that layer combinations can also be obtained in corresponding equipment with multiple sputter sources. Titanium can, for example, be surface oxidized chemically or electrochemically after the fact, so the tint can be achieved in all ways of the spectrum. However, it is also possible, for example, to deposit amorphous and/or aphrite-like carbon by means of a PVD method in order to obtain a particularly abrasive and abrasive surface.

PVD法は、工業の数多くの分野で有効であることが判
明しており(英国特許第2123039号明細書)、か
つ被覆された対象が耐蝕性であることが要求される際に
基材それ自体が十分に耐蝕性であることを前提条件下に
被覆される製品の品質の注目すべき改答を導く。このこ
とは、P V D法により施こされた被膜、例えば炭化
チタンまたは窒化チタンの場合に、例えば基材としての
オーステナイト系クロム/ニッケル鋼またはチタンそれ
自体に当てはまる。しかし、基材がそれぞれ耐蝕条件に
依存して非耐蝕性であるかまたは殆ど耐蝕性でない場合
には、後に実際に使用した際に腐蝕現象をまね(。この
ことは、例えばアルミニウム、鉛、銅、マグネシウム、
ニッケル、銀、鋼、亜鉛またはこれらを基礎とする多数
の合金材料、例えば黄銅、青銅、洋銀、モネルメタル、
アルバカ、亜鉛板鋳造合金、鉛遠心鋳造合金等のような
金属基材に当てはまる。腐蝕現象は、このような基材が
付加的に鍍金によるかまたは無電流で析出した無光沢、
光沢、半光沢または鈍い光沢の下部層をクロム層、銅層
、銅合金層、ニッケル層、ニッケル合金層、銀層もしく
は錫合金層またはこれらの層系として備えている場合に
は、同様に起こる。同じことは、通常無電流の金属化後
に無電流で析出した桐またはニッケル燐もしくはニッケ
ル硼素を用いて差力たり光沢銅層および光沢または鈍い
光沢のニッケル層ならびに場合によっては光沢クロム被
膜が設けられている、例えばABS(アクリルニトリル
−ブタジェン−スチロール)またはポリカーボネート/
ABSからの共重合体(例えばペイブレンド(Bayb
lend)−バイエル社(Bayer)、レバークーゼ
ン(Leverkusen)在)、ポリプロピレン等の
ような鍍金したプラスチックにも当てはまる。
The PVD method has been found to be effective in many areas of industry (UK Patent No. 2,123,039) and is suitable for the substrate itself when the coated object is required to be corrosion resistant. The premise that the coating is sufficiently corrosion resistant leads to a remarkable improvement in the quality of the coated product. This applies, for example, to austenitic chromium/nickel steel or titanium itself as a substrate in the case of coatings applied by the PVD method, such as titanium carbide or titanium nitride. However, if the substrate is non-corrosion resistant or hardly corrosion resistant, depending on the respective corrosion resistance conditions, it may mimic corrosion phenomena later in actual use (for example, aluminum, lead, copper ,magnesium,
Nickel, silver, steel, zinc or numerous alloy materials based on these, such as brass, bronze, German silver, Monel metal,
This applies to metal substrates such as Alvaca, zinc sheet casting alloys, lead centrifugal casting alloys, etc. Corrosion phenomena can be caused by matte, dull, or currentless deposits on such substrates, either by additional plating or by currentless deposition.
The same thing happens if a bright, semi-gloss or dull gloss lower layer is provided as a chromium layer, a copper layer, a copper alloy layer, a nickel layer, a nickel alloy layer, a silver layer or a tin alloy layer or a layer system thereof. . The same is usually applied with currentless metallization followed by currentless deposited paulownia or nickel phosphorus or nickel boron with a bright copper layer and a bright or dull nickel layer and possibly a bright chrome coating. e.g. ABS (acrylonitrile-butadiene-styrene) or polycarbonate/
Copolymers from ABS (e.g. Bayb
This also applies to plated plastics such as Lend - Bayer, Leverkusen, polypropylene, etc.

腐蝕現象は、PVD法により施こされた被膜が特に低い
被覆温度および非純粋空間条件下で屡々常用の層厚範囲
0.3〜1μm内で多孔質であるかまたは微小亀裂を有
し、高いピンホール密度を有し、かつ極めて豊富な電気
化学的可能性を有することができることに基づく。高い
ピンホール密度の原因は、PVD法により製造された被
膜が基板表面に対して垂直に有利に竿状に成長すること
にあり、この場合には、この茎が同時に厚さの点で十分
に成長することもなければ、ひいては閉鎖された均質表
面を生じることもない。この層の欠陥は、実際に層厚が
成長するにつれて減少しうるが、しかしこのような方法
は、PVD法のまさに緩徐な析出速度のために専ら装置
技術的に既に費用がかかりすぎるであろう。また更に、
多くの場合には特に鍍金されたプラスチックのように、
プラスチックのビカー軟化温度が達成されないようにす
るために100〜120℃の範囲内の極めて低いPVD
処理温度のみを使用すべきである。それにも拘わらず、
このように極めて低い処理温度の場合には、多くの場合
にそれ自体で完全な層はPVD法により析出することが
できない。
Corrosion phenomena may occur because coatings applied by the PVD method are often porous or have microcracks within the customary layer thickness range of 0.3 to 1 μm, especially under low coating temperatures and non-pure air conditions. It is based on its ability to have pinhole density and extremely rich electrochemical possibilities. The reason for the high pinhole density is that the coating produced by the PVD method advantageously grows in the form of a rod perpendicular to the substrate surface, which at the same time has a sufficient thickness in terms of thickness. There is no growth and thus no closed homogeneous surface. Defects in this layer can indeed be reduced as the layer thickness grows, but such a method would already be too expensive in terms of equipment technology solely due to the very slow deposition rate of the PVD method. . Furthermore,
In many cases, especially plated plastics,
Extremely low PVD in the range of 100-120°C to ensure that the Vicat softening temperature of the plastic is not achieved
Only processing temperatures should be used. Despite that,
At such extremely low processing temperatures, it is often not possible to deposit a complete layer per se by the PVD method.

支障ある腐蝕現象は、金または白金のように極めて貴重
な金属からなる中間層によって不利に作用するものと考
えることができ、この中間層は、勿論常用の鍍金法では
少なくとも付着強さをもってクロム鍍金表面上に析出す
ることができないであろう。これは、−面で経費の面で
費用がかかり、他面特に金のような中間層は、極めて軟
質であり、このことは、PVD法による被膜の施与の後
経過の場合に極めて容易に損傷をまねく。更に、多くの
場合には、僅かなミクロ硬度の中間層は、硬質材料被覆
層の下で特に不利である。更に、試験により、金のよう
な中間層は、PVD法により施こされた被膜が機械的に
剪断応力を生じる場合に付着問題を惹起することが判明
した。
Disturbing corrosion phenomena can be considered to be adversely affected by an intermediate layer consisting of a very precious metal such as gold or platinum, which of course cannot be chromium-plated with at least an adhesive strength in the conventional plating process. It will not be possible to deposit on the surface. This is expensive on the one hand and on the other hand the intermediate layer, such as gold in particular, is very soft, which is very easy to do in the later stages of applying the coating by the PVD method. May cause damage. Furthermore, intermediate layers of low microhardness are often particularly disadvantageous below hard material covering layers. Additionally, testing has shown that interlayers such as gold cause adhesion problems when the PVD applied coating is mechanically subjected to shear stress.

発明が解決しようとする課題 従って、本発明の課題は、非耐蝕性または殆ど耐蝕性で
ない基材と、PVD法により施こされた被膜とからなる
集合体の場合にPVD被膜の耐蝕性および機械的付着力
を改善することにある。
OBJECTS TO BE SOLVED BY THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to improve the corrosion resistance and mechanical properties of PVD coatings in the case of assemblies consisting of non-corrosion-resistant or hardly corrosion-resistant substrates and coatings applied by the PVD method. The objective is to improve the adhesion of the target.

課題を解決するための手段 この課題は、鍍金により析出される合金が30〜90重
童%のパラジウム含量を有するような程度にパラジウム
/ニッケル比が調節されている2〜20v/Qの範囲内
のパラジウム含量、5〜30g/12の範囲内のニッケ
ル含量を有するパラジウムアミンおよびニッケルアミン
ならびに場合によっては導電性塩および硫黄を有するこ
とができる有機添加剤からなる水性電解液から析出され
たパラジウム/ニッケル合金層を、耐蝕性でないかまた
は殆ど耐蝕性でない金属基材とPVD法により施こされ
た被膜との間の中間層として使用し、この場合電解液成
分は、硫黄が一緒に析出される際に硫黄が2価よりも高
い原子価を有するように選択されていることによって解
決される。
Means for Solving the Problem The problem is achieved by adjusting the palladium/nickel ratio to such an extent that the alloy deposited by plating has a palladium content of 30 to 90% by weight within the range of 2 to 20 v/Q. palladium/nickel amine with a palladium content in the range from 5 to 30 g/12 and an aqueous electrolyte consisting of a nickel amine and optionally conductive salts and organic additives which may have sulfur. A nickel alloy layer is used as an intermediate layer between a non-corrosion-resistant or barely corrosion-resistant metal substrate and a coating applied by a PVD method, in which case the electrolyte components are co-deposited with sulfur. This is achieved in that the sulfur is selected to have a valence higher than divalence.

電解液は、脂肪族スルホン酸塩、不飽和スルホン酸塩お
よび/または複素環式スルホン酸塩の添加剤ならびに場
合によっては引張り応力減少剤もしくは耐蝕添加剤とし
ての芳香族スルホンイミドおよびさらに非イオノゲン湿
潤剤および/または陰イオン活性湿潤剤から選択された
導電性塩を有することができ、実際にこの場合には、脂
肪族スルホン酸塩、不飽和スルホン酸塩および/または
複素環式スルポン酸塩の添加剤は、ビニルスルホン酸、
アリルスルホン酸、プロピオンスルホン酸、メタリルス
ルホン酸、N〜ベンジルピリジニウム−2−エチル−ス
ルホン酸、N−ピリジニウムプロピルスルホベタイン、
N−ピリジニウムメチルスルホベタインまたは多数のこ
れらの物質のアルカリ金属塩(殊にナトリウム塩)から
なる。
The electrolyte contains additives of aliphatic sulfonates, unsaturated sulfonates and/or heterocyclic sulfonates and optionally aromatic sulfonimides as tensile stress reducers or anti-corrosion additives and also non-ionogenic wetting agents. conductive salts selected from agents and/or anionically active wetting agents, and indeed in this case aliphatic sulfonates, unsaturated sulfonates and/or heterocyclic sulfonates. Additives include vinyl sulfonic acid,
Allylsulfonic acid, propionesulfonic acid, methallylsulfonic acid, N-benzylpyridinium-2-ethyl-sulfonic acid, N-pyridiniumpropylsulfobetaine,
It consists of N-pyridinium methylsulfobetaine or the alkali metal salts (especially the sodium salts) of a number of these substances.

金属基材は、アルミニウム、鉛、銅、マグネシウム、ニ
ッケル、銀、鋼、亜鉛またはこれらを基礎とする合金材
料、例えば黄銅、青銅、洋銀、モネルメタル、アルバカ
、亜鉛版鋳造合金または鉛遠心鋳造合金であることがで
き、例えばこれらは、工業的に実地において常用されて
いる。これらの材料は、基材または望ましい光学的効果
もしくは工業的条件に応じて付加的に鍍金によるかまた
は無電流で銅層、銅合金層、ニッケル層、ニッケル合金
層、銀層または錫合金層ないしはこれらの層系としての
無光沢、光沢、半光沢または鈍い光沢の外見を有する下
部層を備えていてもよい。ニッケル層およびニッケル合
金層の定義は、分散液ニッケル被膜ならびにN1−P被
膜またはN1−B被膜をも包括するはずである。また、
金属基材の場合には、鍍金可能なプラスチ・ツタ構成部
材上に鍍金により施こされた表面層、殊に無光沢、光沢
、半光沢または鈍い光沢の銅層、銅合金層、ニッケル層
、ニッケル合金層、銀層または錫合金層が単独または層
組合せ物で重要である。パラジウム/ニッケル合金は常
用の鍍金法で少なくともクロム鍍金下部層上に付着強さ
をもって析出することができないことは、自明のことで
ある。
The metal substrate is aluminum, lead, copper, magnesium, nickel, silver, steel, zinc or alloy materials based on these, such as brass, bronze, German silver, Monel metal, Alba, zinc plate casting alloy or lead centrifugal casting alloy. For example, these are commonly used in industrial practice. Depending on the substrate or the desired optical effect or industrial conditions, these materials can be coated with additional plating or currentless copper, copper alloy, nickel, nickel alloy, silver or tin alloy layers. These layer systems may also have a lower layer with a matte, glossy, semi-gloss or dull gloss appearance. The definition of nickel layer and nickel alloy layer should also encompass dispersion nickel coatings and N1-P or N1-B coatings. Also,
In the case of metal substrates, surface layers applied by plating on plateable plasti-vine components, in particular matte, bright, semi-bright or dull copper layers, copper alloy layers, nickel layers, A nickel alloy layer, a silver layer or a tin alloy layer, alone or in a layer combination, is of interest. It is self-evident that palladium/nickel alloys cannot be deposited with adhesion strength by conventional plating methods, at least on a chromium plating bottom layer.

意外なことに、本発明による方法の範囲内で前記方法で
構成されかつ製造されたパラジウム/ニッケル合金層は
、何らの損傷も受けず、実際にこの中間層が極めて薄手
に施こされている場合であっても損傷を受けない。パラ
ジウム/ニッケル層の遥かに高いミクロ硬度は、後続の
PVD被覆法の際にほぼ比較可能な純金中間層の場合よ
りも良好に予想される損傷に抵抗する。使用の際に通常
著しい腐蝕問題を示す基材の場合であっても、この問題
は、本発明による方法を実現した場合には消滅する。本
発明により特殊な方法で使用されるパラジウム/ニッケ
ル合金層は、自体公知である(ドイツ連邦共和国特許第
3108508号明細書および同第3232735号明
細書)。また、PVD法により施こされた被膜が機械的
に剪断応力を受ける場合には、何首の問題はもはや起こ
らない。
Surprisingly, the palladium/nickel alloy layer constructed and produced in accordance with the method according to the invention does not suffer from any damage, and in fact this intermediate layer is applied very thinly. will not be damaged even if The much higher microhardness of the palladium/nickel layer resists damage expected during subsequent PVD coating methods better than in the case of a nearly comparable pure gold interlayer. Even in the case of substrates which normally exhibit significant corrosion problems during use, this problem disappears when implementing the method according to the invention. The palladium/nickel alloy layer used in a special manner according to the invention is known per se (DE 31 08 508 and DE 3 232 735). Also, if the coating applied by the PVD method is mechanically subjected to shear stress, the question of number of necks no longer arises.

本発明の対象は、有利な構成要件によれば、すなわち、
耐蝕性でないかまたは殆ど耐蝕性でない金属基村上にP
VD被膜を施こす方法であり、この場合には、基材上に
差力たり、2〜209/Qの範囲内のパラジウム含量、
5〜309/Qの範囲内のニッケル含量を有するパラジ
ウムアミンおよびニッケルアミン、および脂肪族スルホ
ン酸塩、不飽和スルホン酸塩および/または複素環式ス
ルホン酸塩の添加剤ならびに場合によっては引張り応力
減少剤もしくは耐蝕添加剤としての芳香族スルホンイミ
ド(安息香酸スルホンイミドまたはペンゾールスルホニ
ル尿素)およびさらに非イオノゲン湿潤剤および/また
は陰イオン活性湿潤剤から選択された導電性塩からなる
、鍍金により析出される合金が30〜90重量%、有利
に60〜85重量%のパラジウム含Mを有するような程
度にパラジウム/ニッケル比が調節されている水性電解
液から析出されているパラジウム/ニッケル合金からな
る中間層を施こし、この場合この添加剤は、アルカリ金
属塩としての脂肪族スルホン酸塩、不飽和スルホン酸塩
および/または複素環式スルホン酸塩、例えば殊にビニ
ルスルホン酸、アリルスルホン酸、プロピオンスルホン
酸、メタリルスルホン酸、N−ベンジルピリジニウム−
2−エチル−スルホン酸、N−ピリジニウムプロピルス
ルホベタイン、N−ピリジニウムメチルスルホベタイン
または多数のこれらの物質のナトリウム塩からなる。
According to advantageous features, the object of the invention is characterized in that:
P on a metal substrate that is not or barely corrosion resistant
This is a method of applying a VD coating, in which case the palladium content within the range of 2 to 209/Q,
Palladium amines and nickel amines with a nickel content in the range from 5 to 309/Q, and additives of aliphatic, unsaturated and/or heterocyclic sulfonates and optionally tensile stress reduction A conductive salt selected from aromatic sulfonimides (benzoic acid sulfonimide or penzole sulfonylurea) as agents or anti-corrosion additives and furthermore nonionic wetting agents and/or anionically active wetting agents, deposited by plating. intermediate consisting of a palladium/nickel alloy deposited from an aqueous electrolyte in which the palladium/nickel ratio is adjusted to such an extent that the alloy has a palladium content of 30 to 90% by weight, preferably 60 to 85% by weight; layer, the additives being aliphatic sulfonates, unsaturated sulfonates and/or heterocyclic sulfonates as alkali metal salts, such as especially vinylsulfonic acid, allylsulfonic acid, propionic sulfonates, etc. Sulfonic acid, methallylsulfonic acid, N-benzylpyridinium-
2-ethyl-sulfonic acid, N-pyridiniumpropylsulfobetaine, N-pyridiniummethylsulfobetaine or the sodium salts of a number of these substances.

PVD法により施与可能の公知の被膜は、既に首記した
。本発明の範囲内でPVD法により施こされた被膜の場
合には、周期律表の第4副族〜第6副族の元素の金属硼
化物、金属炭化物、金属窒化物、金属酸化物、金属珪化
物としてのものが単独または組合せ物で重要であること
ができる。殊に、周期律表の第4副族の元素の炭化物、
窒化物および酸化物、例えばTjOもしくはYiCまた
は種々の物質の混合物が重要であり、この混合物は、さ
らにアルミニウム、コバルト、金、炭素、銅、ニッケル
、パラジウムの混和物を含有していてもよい。しかし、
PVD法による被膜は、アルミニウム、チタン、ジルコ
ニウム、金、白金等のような金属の性質を有していても
よい。その上、この被膜は、無定形炭素および/または
金剛石類縁の炭素であることができる。
Known coatings that can be applied by the PVD method have already been mentioned above. In the case of coatings applied by the PVD method within the scope of the present invention, metal borides, metal carbides, metal nitrides, metal oxides of elements in subgroups 4 to 6 of the periodic table, Metal silicides can be of interest alone or in combination. In particular, carbides of elements of subgroup 4 of the periodic table,
Nitrides and oxides, such as TjO or YiC, or mixtures of various substances are of interest, which may also contain mixtures of aluminium, cobalt, gold, carbon, copper, nickel, palladium. but,
The PVD coating may have metallic properties such as aluminum, titanium, zirconium, gold, platinum, etc. Moreover, the coating can be amorphous carbon and/or aphrite-related carbon.

基材の型に応じてパラジウム/ニッケル中間層の施与前
に、例えばパラジウム/ニッケル層の申し分のない付着
力を保証するか、特に鈍い光沢の表面効果を達成するか
、またはプラスチックの場合にできるだけ厚手の銅下部
層によって複合プラスチック被膜での温度交換安定性を
達成する、平らにされた層によって基材の荒さを改善す
るために、鍍金により施こすべき他の下部層が必要であ
ることは自明のことである。
Before applying the palladium/nickel interlayer depending on the type of substrate, e.g. to ensure perfect adhesion of the palladium/nickel layer or to achieve a particularly dull gloss surface effect or in the case of plastics. Achieving temperature exchange stability in the composite plastic coating by means of a copper lower layer as thick as possible, another lower layer to be applied by plating to improve the roughness of the substrate by a flattened layer. is self-evident.

このためには、例えば特に硬質の下部層を製造する目的
で同様に分散液ニッケル被膜、N1−P被膜またはN1
−B被膜が挙げられる。更に、鍍金したプラスチックを
使用した場合には、ビカー軟化温度に関連して材料型が
PVD法の処理温度に適合すべきであることは、自明の
ことである。パラジウム/ニッケル層は、常用の鍍金法
では少なくとも不足する付着力のためにクロム鍍金した
下部層上に施こすことはできない。
For this purpose, dispersion nickel coatings, N1-P coatings or N1
-B coating is mentioned. Furthermore, it is self-evident that when using plated plastics, the material type should be adapted to the processing temperature of the PVD method in relation to the Vicat softening temperature. A palladium/nickel layer cannot be applied on a chromium-plated lower layer by conventional plating methods, at least because of insufficient adhesion.

本発明によれば、無孔または少なくとも十分に孔貧打の
パラジウム/ニッケル中間層の製造のためにこの中間層
は、その層厚の点で基材および/またはその上に鍍金に
より析出された下部層の荒さに適合し、かつ0.1μm
の最小厚さを有する。層厚は、基材またはその上に析出
された下部層の荒さに適合することができる。
According to the invention, for the production of a non-porous or at least substantially porous palladium/nickel interlayer, this interlayer, in terms of its layer thickness, can be applied to the substrate and/or to the lower layer deposited by plating on it. Compatible with layer roughness and 0.1μm
has a minimum thickness of The layer thickness can be adapted to the roughness of the substrate or of the underlying layer deposited thereon.

換言すれば、パラジウム/ニッケル中間層は、基材の荒
さが大きくなればなるほど、ますます厚く析出しなけれ
ばならない。平均的層厚は、0.5〜5μmの範囲内に
ある。Ij V D法により施こされた被膜は、0,1
〜5μmの範囲内、殊に0.3〜1μmの範囲内の厚さ
を存する。PVD?&膜の処理パラメーターはこの被膜
ができるだけ僅かな層欠陥密度(多孔度、微小亀裂およ
びピンホール)を有するように調整すべきであることは
、自明のことである。
In other words, the palladium/nickel interlayer has to be deposited thicker and thicker the rougher the substrate. The average layer thickness is in the range from 0.5 to 5 μm. The coating applied by Ij V D method has 0,1
5 μm, in particular 0.3 to 1 μm. PVD? It is self-evident that the processing parameters of the membrane should be adjusted in such a way that the coating has as low a layer defect density as possible (porosity, microcracks and pinholes).

実施例 次に、本発明および得られた利点を実施例につき詳説す
る。
EXAMPLES The invention and the advantages obtained will now be explained in more detail by means of examples.

友1」(−ユ 黄銅薄板M s 58を鍍金法の公知の規則により前浄
化し、電気分解により脱脂し、酸洗いし、シアン化物銅
電解液中で約1μmで銅鍍金し、引続き約7μmで光沢
ニッケル鍍金し、かつ硫酸クロム電解液中で約0.3μ
mで光沢クロム鍍金する。
A thin brass sheet M s 58 is precleaned according to the known rules for plating, electrolytically degreased, pickled, copper plated in a copper cyanide electrolyte to a thickness of about 1 μm and then copper plated to a thickness of about 7 μm. Bright nickel plated, and about 0.3μ in chromium sulfate electrolyte
Bright chrome plated with m.

次に、PVD被覆のために、この薄板を乳化剤含有フレ
オン(Freon)(デュポン社(Du Pont)の
製品TWD 602)中で超音波の作用により前浄化し
、引続きPVD法により厚さ約0.5μmの1” i 
N層を施こす前にフレオン(Preor+)TF中およ
び超音波で後浄化する。従って、I〕VD被覆前のフレ
オン(Freon)製品中での浄化は、PVD被覆で特
殊な運搬用枠に固定する際の全ての汚染物および指跡の
汚れを除去しようとするために望ましい。
For the PVD coating, the sheet is then precleaned under the action of ultrasound in emulsifier-containing Freon (product TWD 602 from Du Pont) and subsequently coated by the PVD method to a thickness of approx. 1”i of 5μm
Post-clean in Freon (Preor+) TF and ultrasound before applying the N-layer. Therefore, I] Cleaning in the Freon product prior to VD coating is desirable in order to attempt to remove all contaminants and finger prints when securing the PVD coating to a special transport frame.

引続き、この種の試験薄板にそれぞれ72時間 SO7含有雰囲気での露点腐蝕試験(Schvitzv
asser−rechselklisa) S F W
  2. OD I N 50018または 酢酸−塩水噴霧試験ESS  DIN50021のよう
な種々の腐蝕試験を行なう。試験薄板上に孔約2〜3個
/ c m 2を有する激しい孔蝕を確認することがで
きる。このような試験薄板は、部分的に規則正しく腐蝕
して穿孔することができる。
Subsequently, test sheets of this type were each subjected to a dew point corrosion test (Schvitzv) in an SO7-containing atmosphere for 72 hours.
asser-rechselklisa) S F W
2. Various corrosion tests are carried out such as OD I N 50018 or Acetic Acid-Salt Spray Test ESS DIN 50021. Severe pitting with approximately 2-3 holes/cm2 can be seen on the test sheet. Such a test sheet can be corroded and perforated in a regular manner in parts.

実施例 2 実施例1に記載の試験薄板上で光沢クロム被膜のみをと
にか(層構造を変えずに厚さ1〜1.5μmの本発明に
よるパラジウム/ニッケル合金中間層によって代える。
Example 2 On the test sheets described in Example 1, only the bright chrome coating is replaced (without changing the layer structure) by an interlayer of a palladium/nickel alloy according to the invention with a thickness of 1 to 1.5 μm.

ところで、それぞれ72時間に亘る記載した腐蝕試験は
、申し分のないものである。
Incidentally, the corrosion tests described, each lasting 72 hours, are satisfactory.

本発明によるパラジウム/ニッケル電解液は、次の組成
を有することができる: [Pd(N113)4]CI2としてのパラジウム  
 69、[N1(NH3)[i]SO+としてのニッケ
ル    9g、(NH+hSO4トL T、 cD導
電性塩    tooy、ナトリウムアリルスルホネー
ト   2.59場合によっては付加的に: 安息香酸スルホンイミド、Na塩   1gまたは ペンゾールスルホニル尿素2g さらに湿潤剤として ノニルフェ/−ルエト牛シレー)(23EO)0.52
. 1)F(値8〜8.5を調節するためのNH4OH。
The palladium/nickel electrolyte according to the invention can have the following composition: Palladium as [Pd(N113)4]CI2
69, nickel as [N1(NH3)[i]SO+ 9 g, (NH+hSO4 tLT, cD conductive salt tooy, sodium allylsulfonate 2.59 optionally additionally: benzoic acid sulfonimide, Na salt 1 g or 2 g of penzol sulfonylurea, and as a wetting agent, nonylfe/-ruet beef sill) (23EO) 0.52
.. 1) F (NH4OH to adjust the value 8-8.5.

Iσの浴のための水、 電解液温度25〜30℃、 容易な製品の移動、 陰極電流密度I A / d m 2、暴露時間4〜6
分間、 陽極:白金鍍金したチタンまたは黒鉛。
Water for bath of Iσ, electrolyte temperature 25-30℃, easy product transfer, cathode current density IA/dm2, exposure time 4-6
Anode: Platinized titanium or graphite.

非イオノゲン湿潤剤の代わりにアルキルスルホネートお
よびアルキルアリールエーテルスルホネートを基礎とす
る選択された陰イオン活性界面活性剤を使用することも
できる、例えば:H3C−(CH2)12/14−0−
(CH2−CH2−0−) n −CI 2−C412
−CH2−3O3K  ly/Q但し、n = 11 
Instead of non-ionogenic wetting agents it is also possible to use selected anionically active surfactants based on alkyl sulfonates and alkylaryl ether sulfonates, for example: H3C-(CH2)12/14-0-
(CH2-CH2-0-) n -CI 2-C412
-CH2-3O3K ly/Q However, n = 11
.

このような湿潤剤は混濁点を有しないので、今や電解液
温度は、例えば40〜50℃を使用することができる。
Since such wetting agents have no clouding point, electrolyte temperatures of, for example, 40-50° C. can now be used.

同時に析出物の光沢度はなお改善されている。At the same time the gloss of the deposit is still improved.

実施例 3 実施例1および2による基材を鋼C45WN  1.0
503によって代える。同様の結果、すなわちPd/N
i中間層は耐蝕法の理由から必要であることが得られる
Example 3 The base material according to Examples 1 and 2 was made of steel C45WN 1.0
Replaced by 503. Similar results, i.e. Pd/N
It turns out that the i-interlayer is necessary for corrosion protection reasons.

実施例 4 PVD法により施こされた窒化チタン層上に付加的に0
.1μmの23et−金/ニッケルをスパッタする。実
施例1による腐蝕感受性はむしろなお強化され、光沢ク
ロム被膜の代わりにPd/Ni中間層を用いる実施例2
によれば腐蝕現象は全く起こらない。
Example 4 Addition of 0 on a titanium nitride layer applied by PVD
.. Sputter 1 μm of 23et-gold/nickel. The corrosion susceptibility according to Example 1 is even further enhanced, with Example 2 using a Pd/Ni interlayer instead of a bright chrome coating.
According to this, no corrosion phenomenon occurs at all.

足旌例 5 窒化チタンは、炭化チタン、チタン−アルミニウムー窒
化炭素、金属チタンによって代えることができる。再び
実施例1と2との同様の腐蝕の相違を認めることができ
る。
Example 5 Titanium nitride can be replaced by titanium carbide, titanium-aluminum-carbon nitride, or metallic titanium. Again similar corrosion differences between Examples 1 and 2 can be observed.

7X、@fjA+  6 ペイブレンド(Bayblend)T  45  M 
Nからの試験板を常用の鍍金法によりまず無電流でニッ
ケル鍍金し、無電流で析出したN1−P層を電気分解に
よりワッツ(llatts)の電界液中で前強化し、次
に硫酸電界液中で20〜30μmで光沢銅鍍金し、引続
き10μmで鈍い光沢でニッケル鍍金する。この鈍い光
沢のニッケル層上に直接に?!ff1層をPVD法によ
り施こした場合には、実施例1の試験による耐蝕性は全
く得られない。しかし、耐蝕性は、中間層を実施例2の
パラジウム/ニッケルから施こした場合には、直ちに再
び与えられている。
7X, @fjA+ 6 Bayblend T 45 M
The test plates from N were first plated with nickel using a conventional plating method without electric current, and the N1-P layer deposited without electric current was pre-strengthened by electrolysis in a Watts electrolyte and then in a sulfuric acid electrolyte. Bright copper plating is carried out in a thickness of 20 to 30 .mu.m, followed by nickel plating with a dull luster of 10 .mu.m. Directly on top of this dull shiny nickel layer? ! When the ff1 layer was applied by the PVD method, no corrosion resistance was obtained according to the test of Example 1. However, the corrosion resistance is immediately given again when the intermediate layer is made of palladium/nickel in Example 2.

χに遍−−J 実施例1による厚さ0.3μmの光沢クロム被膜の代わ
りに、電気分解により0.1μmの純金を市販の電解液
から施こし、その上に被覆層をPVD法により施こす。
Instead of the 0.3 μm thick glossy chrome film according to Example 1, a 0.1 μm thick pure gold film was applied by electrolysis from a commercially available electrolyte, and a coating layer was applied on top of it by the PVD method. Rub.

耐蝕性が劣悪であることを論外として、ドラム研磨法お
よび市販の研磨体を用いて摩滅挙動を試験した場合には
、硬質材料被覆層は全中間層から規則的に下方へ移動す
ることが判明する。本発明によるノくラジウム/ニッケ
ル中間層を使用した場合には、PVD被覆層は、顕著に
付着している、すなわち全中間層は、剪断応力に対して
極めて敏感である。
When the wear behavior was tested using the drum polishing method and a commercially available polishing body, leaving aside the fact that the corrosion resistance was poor, it was found that the hard material coating layer regularly moved downward from the entire intermediate layer. do. When using the radium/nickel interlayer according to the invention, the PVD coating layer is significantly adhered, ie the entire interlayer is extremely sensitive to shear stresses.

実施例 8 殊に多数の工業的使用に対してノでラジウム/ニッケル
中間層の顕著に高い装飾的光沢度への特別の要求なしに
使用するためには、脂肪族スルホン酸塩、不飽和スルホ
ン酸塩および/または複素環式スルホン酸塩なしに、な
らびに芳香族スルホンイミドなしにパラジウム/二・ツ
ケル電解液も同様に使用することができる。ノくラジウ
ム/ニッケル中間層は、同様に必要とされる耐蝕性を生
ぜしめ、かつ硫黄が一緒に析出される際にこの硫黄が2
価よりも高い原子価を有することが保証されている場合
には同時に事後に施こすべきPVD被膜の良好な付着を
生せしめる。電解液の組成: [Pd(NH3)4]C12としてのノでラジウム  
 6g、[N1(NH3)[i]SO4または(H2N
 S O3)2N i・4H20としてのニッケル  
      10g、(NI+4)2SO4または82
NS03NH4としての導電性塩          
 50〜100g、場合によっては付加的に湿潤剤とし
て:II 3cm(c H2)12/14−0−(CH
2−CH2−0−)n −CH2−CH2−CH2−3
O3K     Iy但し、n=11゜ p H値8〜8,5を調節するためのN H4o H1
Iσの浴のための水、 電解液温度40〜50℃、 容易な製品の移動、 陰極電流密度I A / d m 2、暴露時間4〜6
分間、 陽極:白金鍍金したチタンまたは黒鉛。
EXAMPLE 8 Aliphatic sulfonates, unsaturated sulfones, etc. can be used without special requirements for a significantly higher decorative gloss of the radium/nickel interlayer, especially for many industrial applications. Palladium/di-Tschel electrolytes can be used as well without acid salts and/or heterocyclic sulfonates and without aromatic sulfonimides. The radium/nickel interlayer also provides the necessary corrosion resistance and also provides the sulfur when it is co-deposited.
If it is ensured that the valence is higher than the valence, this also results in better adhesion of the subsequently applied PVD coating. Composition of electrolyte: Radium as [Pd(NH3)4]C12
6g, [N1(NH3)[i]SO4 or (H2N
Nickel as SO3)2Ni・4H20
10g, (NI+4)2SO4 or 82
Conductive salt as NS03NH4
50-100 g, optionally additionally as wetting agent: II 3 cm (c H2) 12/14-0-(CH
2-CH2-0-)n -CH2-CH2-CH2-3
O3K Iy However, n=11゜p N H4o H1 to adjust the H value 8 to 8,5
Water for bath of Iσ, electrolyte temperature 40-50℃, easy product transfer, cathode current density IA/dm2, exposure time 4-6
Anode: Platinized titanium or graphite.

実施例2の場合と同様の試験実施。実施例2に記載の腐
蝕試験が構成されている。
Test run as in Example 2. The corrosion test described in Example 2 was constructed.

代理人 弁理士 1)代 黒 治Agent: Patent Attorney 1) Osamu Kuro

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、鍍金により析出される合金が30〜90重量%のパ
ラジウム含量を有するような程度にパラジウム/ニッケ
ル比が調節されている2〜20g/lの範囲内のパラジ
ウム含量、5〜30g/lの範囲内のニッケル含量を有
するパラジウムアミンおよびニッケルアミンならびに場
合によっては導電性塩および硫黄を有することができる
有機添加剤からなる水性電解液から析出されたパラジウ
ム/ニッケル合金層を、耐蝕性でないかまたは殆ど耐蝕
性でない金属基材とPVD法により施こされた被膜との
間の中間層として使用し、この場合電解液成分は、硫黄
が一緒に析出される際に硫黄が2価よりも高い原子価を
有するように選択されていることを特徴とする、パラジ
ウム/ニッケル合金層。 2、電解液が脂肪族スルホン酸塩、不飽和スルホン酸塩
および/または複素環式スルホン酸塩の添加剤ならびに
場合によっては引張り応力減少剤もしくは耐蝕添加剤と
しての芳香族スルホンイミドおよびさらに非イオノゲン
湿潤剤および/または陰イオン活性湿潤剤から選択され
た導電性塩を有し、脂肪族スルホン酸塩、不飽和スルホ
ン酸塩および/または複素環式スルホン酸塩の添加剤が
ビニルスルホン酸、アリルスルホン酸、プロピオンスル
ホン酸、メタリルスルホン酸、N−ベンジルピリジニウ
ム−2−エチル−スルホン酸、N−ピリジニウムプロピ
ルスルホベタイン、N−ピリジニウムメチルスルホベタ
インまたは多数のこれらの物質のアルカリ金属塩(殊に
ナトリウム塩)からなる、請求項1記載のパラジウム/
ニッケル合金層。 3、金属基材がアルミニウム、鉛、銅、マグネシウム、
ニッケル、銀、鋼、亜鉛またはこれらを基礎とする合金
材料であり、この材料が付加的に鍍金によるかまたは無
電流で銅層、銅合金層、ニッケル層、ニッケル合金層、
銀層または錫合金層ないしはこれらの層系としての無光
沢、光沢、半光沢または鈍い光沢の下部層を備えていて
もよい、請求項1または2に記載のパラジウム/ニッケ
ル合金層。 4、金属基材の場合には、鍍金可能なプラスチック構成
部材上に鍍金により施こされた表面層、殊に無光沢、光
沢、半光沢または鈍い光沢の銅層、銅合金層、ニッケル
層、ニッケル合金層、銀層または錫合金層が単独または
層組合せ物で重要である、請求項1または2に記載のパ
ラジウム/ニッケル合金層。 5、PVD法により施こされた被膜の場合には、周期律
表の第4副族〜第6副族の元素の金属硼化物、金属炭化
物、金属窒化物、金属酸化物、金属珪化物の物質のから
のものが単独または組合せ物で重要である、請求項1か
ら4までのいずれか1項に記載のパラジウム/ニッケル
合金層。 6、PVD法により施こされた被膜が付加的にアルミニ
ウム、コバルト、金、炭素、銅、ニッケル、パラジウム
の相応する混和物を含有していてもよい、請求項5記載
のパラジウム/ニッケル合金層。 7、PVD法により施こされた被膜が金属アルミニウム
、チタン、ジルコニウムまたはタンタルからのものであ
り、これは事後に化学的または電気化学的に表面酸化さ
れていてもよい、請求項1から4までのいずれか1項に
記載のパラジウム/ニッケル合金層。 8、PVD法により施こされた被膜が無定形炭素および
/または金剛石類縁の炭素からのものである、請求項1
から4までのいずれか1項に記載のパラジウム/ニッケ
ル合金層。9、無孔または少なくとも十分に孔貧有のパ
ラジウム/ニッケル中間層の製造のためにこの中間層が
層厚の点で基材および/またはその上に鍍金により析出
された下部層の荒さに適合されておりかつ0.1μmの
最小厚さを有する、請求項1から8までのいずれか1項
に記載のパラジウム/ニッケル合金層。 10、パラジウム/ニッケル中間層の平均的層厚が0.
5〜5μmの範囲内にある、請求項9記載のパラジウム
/ニッケル合金層。 11、PVD法により施こされた被膜が0.1〜5μm
の範囲内、殊に0.3〜1μmの範囲内の厚さを有する
、請求項1から10までのいずれか1項に記載のパラジ
ウム/ニッケル合金層。 12、殊に工業的に機能的な層系の場合にパラジウム/
ニッケル中間層とPVD法により施こされた被覆層とか
らなる組合せ物が硬質クロム被膜の代用をしている、請
求項1から11までのいずれか1項に記載のパラジウム
/ニッケル合金層。
[Scope of Claims] 1. Palladium content in the range of 2 to 20 g/l, where the palladium/nickel ratio is adjusted to such an extent that the alloy deposited by plating has a palladium content of 30 to 90% by weight; A palladium/nickel alloy layer deposited from an aqueous electrolyte consisting of palladium and nickel amines with a nickel content in the range from 5 to 30 g/l and optionally conductive salts and organic additives which may have sulfur. , as an interlayer between a non-corrosion-resistant or poorly corrosion-resistant metal substrate and a coating applied by a PVD process, where the electrolyte component is such that the sulfur is present when the sulfur is co-deposited. Palladium/nickel alloy layer, characterized in that it is selected to have a valence higher than divalence. 2. The electrolyte contains additives of aliphatic sulfonates, unsaturated sulfonates and/or heterocyclic sulfonates and optionally aromatic sulfonimides as tensile stress reducers or anti-corrosion additives and also non-ionogens. conductive salts selected from wetting agents and/or anionically active wetting agents, with additives of aliphatic sulfonates, unsaturated sulfonates and/or heterocyclic sulfonates including vinyl sulfonic acid, allyl sulfonic acid, propionosulfonic acid, methallylsulfonic acid, N-benzylpyridinium-2-ethyl-sulfonic acid, N-pyridiniumpropylsulfobetaine, N-pyridiniummethylsulfobetaine or a number of the alkali metal salts of these substances, especially palladium according to claim 1, consisting of a sodium salt)
Nickel alloy layer. 3. Metal base material is aluminum, lead, copper, magnesium,
Nickel, silver, steel, zinc or alloy materials based on these materials, which can be coated with copper layers, copper alloy layers, nickel layers, nickel alloy layers, by additional plating or without electric current.
3. The palladium/nickel alloy layer as claimed in claim 1, which may be provided with a matte, glossy, semi-gloss or dull luster lower layer as a silver layer or a tin alloy layer or a layer system thereof. 4. In the case of metal substrates, surface layers applied by plating on plateable plastic components, in particular matte, bright, semi-bright or dull copper layers, copper alloy layers, nickel layers; Palladium/nickel alloy layer according to claim 1 or 2, in which a nickel alloy layer, a silver layer or a tin alloy layer is important alone or in a layer combination. 5. In the case of coatings applied by the PVD method, metal borides, metal carbides, metal nitrides, metal oxides, and metal silicides of elements in subgroups 4 to 6 of the periodic table are used. Palladium/nickel alloy layer according to any one of claims 1 to 4, in which the following substances are important alone or in combination. 6. Palladium/nickel alloy layer according to claim 5, wherein the coating applied by the PVD method may additionally contain corresponding mixtures of aluminum, cobalt, gold, carbon, copper, nickel, palladium. . 7. Claims 1 to 4, wherein the coating applied by the PVD method is made of metal aluminum, titanium, zirconium or tantalum, which may be surface oxidized afterwards chemically or electrochemically. The palladium/nickel alloy layer according to any one of the above. 8. Claim 1, wherein the coating applied by the PVD method is made of amorphous carbon and/or diamond-related carbon.
The palladium/nickel alloy layer according to any one of 4 to 4. 9. For the production of a nonporous or at least substantially porous palladium/nickel interlayer, which in terms of layer thickness is adapted to the roughness of the substrate and/or of the lower layer deposited on it by plating. Palladium/nickel alloy layer according to any one of claims 1 to 8, wherein the palladium/nickel alloy layer has a minimum thickness of 0.1 μm. 10. The average layer thickness of the palladium/nickel intermediate layer is 0.
Palladium/nickel alloy layer according to claim 9, which is in the range of 5 to 5 μm. 11. The film applied by PVD method has a thickness of 0.1 to 5 μm.
Palladium/nickel alloy layer according to any one of claims 1 to 10, having a thickness in the range of from 0.3 to 1 μm. 12, particularly in the case of industrially functional layer systems, palladium/
12. Palladium/nickel alloy layer according to claim 1, wherein a combination of a nickel intermediate layer and a PVD-applied coating layer replaces the hard chromium coating.
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