JPH0275192A - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
- Publication number
- JPH0275192A JPH0275192A JP22500788A JP22500788A JPH0275192A JP H0275192 A JPH0275192 A JP H0275192A JP 22500788 A JP22500788 A JP 22500788A JP 22500788 A JP22500788 A JP 22500788A JP H0275192 A JPH0275192 A JP H0275192A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating chamber
- generating means
- high frequency
- insulating material
- frequency
- Prior art date
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- Pending
Links
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- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 11
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 101100008044 Caenorhabditis elegans cut-1 gene Proteins 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
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- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
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- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は被加熱物を誘伝加熱する加熱装置に関する。
従来の技術
従来、この種の加熱装置は電子レンジに代表される。こ
の電子レンジは、食品を収容する加熱室に高周波を給電
するものであり、加熱室は室胴共振器として作用する。
の電子レンジは、食品を収容する加熱室に高周波を給電
するものであり、加熱室は室胴共振器として作用する。
従って食品を含めた加熱室に効率よく高周波エネルギー
を給電するための各種設計がなされている。また給電さ
れた高周波エネルギーでもって均一加熱やスピード加熱
などを促進する工夫もなされてる。
を給電するための各種設計がなされている。また給電さ
れた高周波エネルギーでもって均一加熱やスピード加熱
などを促進する工夫もなされてる。
一方高周波発生手段にはマグネトロンが用いられている
。このマグネトロンは上記した高周波給電に即してその
出力構体はアンテナとして作用する構成がとられている
。また駆動電圧数1000ボルト、出力数100ワツト
の動作特性を有するマグネトロンが用いられている。
。このマグネトロンは上記した高周波給電に即してその
出力構体はアンテナとして作用する構成がとられている
。また駆動電圧数1000ボルト、出力数100ワツト
の動作特性を有するマグネトロンが用いられている。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、このような加熱室への給電方式は、加熱
室の設計自由度に限界を与える。また、数1000ボル
トで動作するマグネトロンを用いることは商用電源を数
10倍に昇圧させる必要があり、マグネトロンのような
大電力負荷の駆動のためには昇圧トランスが不可欠であ
る。このことは、装置全体の設計自由度に制限を与える
。
室の設計自由度に限界を与える。また、数1000ボル
トで動作するマグネトロンを用いることは商用電源を数
10倍に昇圧させる必要があり、マグネトロンのような
大電力負荷の駆動のためには昇圧トランスが不可欠であ
る。このことは、装置全体の設計自由度に制限を与える
。
そこで、本発明は加熱室を高周波電波の遮蔽手段として
作用させる高周波給電方式を採り、加熱室の設計自由度
を拡大させることを第1の目的とする。
作用させる高周波給電方式を採り、加熱室の設計自由度
を拡大させることを第1の目的とする。
第2の目的、昇圧トランスを除き装置の小形軽量化をは
かることである。
かることである。
また第3の目的は商用電源直結形装置の安全性確保をは
かることである。
かることである。
課題を解決するための手段
そして上記第1の目的を達成するために本発明は、加熱
室の壁面近傍に高周波エネルギーを集約させる給電手段
として同軸線出力構造を有する高周波発生手段と高周波
エネルギーを伝送しつつ放射する放射手段で構成してい
る。
室の壁面近傍に高周波エネルギーを集約させる給電手段
として同軸線出力構造を有する高周波発生手段と高周波
エネルギーを伝送しつつ放射する放射手段で構成してい
る。
また第2の目的を達成するために本発明は出力100ワ
ツト程度、駆動電圧数100ボルトのマグネトロンを高
周波発生手段にし、商用電源を整流し数倍電圧回路でも
ってマグネトロンを駆動するように構成している。
ツト程度、駆動電圧数100ボルトのマグネトロンを高
周波発生手段にし、商用電源を整流し数倍電圧回路でも
ってマグネトロンを駆動するように構成している。
さらに第3の目的を達成するために本発明は装置本体の
内外周を絶縁材で構成している。
内外周を絶縁材で構成している。
作用
本発明の高周波加熱装置は、上記した構成により高周波
エネルギーの大部分が加熱室の壁面近傍に集約でき、加
熱室は単に電磁気遮蔽手段として作用する。またこれに
より加熱室は空胴共振器の作用は不要となり、その内壁
面を絶縁材で構成できる。さらに装置全体を絶縁材で構
成したことにより装置のアース対策が不要となる。
エネルギーの大部分が加熱室の壁面近傍に集約でき、加
熱室は単に電磁気遮蔽手段として作用する。またこれに
より加熱室は空胴共振器の作用は不要となり、その内壁
面を絶縁材で構成できる。さらに装置全体を絶縁材で構
成したことにより装置のアース対策が不要となる。
実施例
以下、本発明の一実施例の添付図面にもとづいて説明す
る。
る。
第1図、第2図において、1は被加熱物を収容する加熱
室で、この加熱室の底部に放射手段である交叉指型電極
2.3が配され、この電極2.3は低誘電損失特性を有
したセラミック板4で上方からカバーされている。
室で、この加熱室の底部に放射手段である交叉指型電極
2.3が配され、この電極2.3は低誘電損失特性を有
したセラミック板4で上方からカバーされている。
また5は、駆動電圧数100ボルト、出力100ワツト
程度の高周波発生手段であるマグネトロンである。この
マグネトロン5の出力構造6は、同軸線路構成からなり
中心導体7と外部導体8は交叉指型電極のそれぞれに接
続されている。
程度の高周波発生手段であるマグネトロンである。この
マグネトロン5の出力構造6は、同軸線路構成からなり
中心導体7と外部導体8は交叉指型電極のそれぞれに接
続されている。
なお交叉指型電極2.3は、電極支持部9と所定の間隔
で配設されている。またマグネトロン5は、この電極支
持部9の一側面に取付けられる。
で配設されている。またマグネトロン5は、この電極支
持部9の一側面に取付けられる。
この時、マグネトロン出力構体の中心導体は、電極支持
部9に既設した同軸線路の中心導体とはめあい接続され
る。10は金属メツシュのガスケットである。
部9に既設した同軸線路の中心導体とはめあい接続され
る。10は金属メツシュのガスケットである。
11は本体ボディであり、電極支持部9に接する面には
接合面から所定深さ位置に金属板12を埋設配設させ電
極支持部とともに電波遮蔽路を形成させている。
接合面から所定深さ位置に金属板12を埋設配設させ電
極支持部とともに電波遮蔽路を形成させている。
また13は、加熱室開閉扉であり、透光樹脂で構成され
、かつパンチング孔を有した金属板14が埋設されてい
る。また本体ボディ11と開閉扉13との接合面にも金
属板15が埋設されている。この場合対面するいずれか
の金属板はソリッド構造としている。金属板埋設で電波
遮蔽路を形成している。
、かつパンチング孔を有した金属板14が埋設されてい
る。また本体ボディ11と開閉扉13との接合面にも金
属板15が埋設されている。この場合対面するいずれか
の金属板はソリッド構造としている。金属板埋設で電波
遮蔽路を形成している。
なおこの金属板は絶縁材と一体成形してもよいし、サン
ドインチ構造でも構わない。さらには、金属蒸着でも構
わない。
ドインチ構造でも構わない。さらには、金属蒸着でも構
わない。
16は操作スイッチ、17は把手、18は電源コード、
19は本体裏板、20はマグネトロン5の駆動電源、2
1、22はリード線、23は開閉扉開閉回転軸部である
。なお図中、操作スイッチ部16と駆動電源20とを結
線するリード線は省略している。
19は本体裏板、20はマグネトロン5の駆動電源、2
1、22はリード線、23は開閉扉開閉回転軸部である
。なお図中、操作スイッチ部16と駆動電源20とを結
線するリード線は省略している。
マグネトロン駆動電源部の構成を第3図に示す。
同図は、商用電源として単相3線式の200ボルト電源
に対する実施例である。マグネトロン5には全波整流の
約400ボルトが供給される。24は、マグネトロンの
陰極部ヒータ電源用トランスである。
に対する実施例である。マグネトロン5には全波整流の
約400ボルトが供給される。24は、マグネトロンの
陰極部ヒータ電源用トランスである。
なお駆動電源部は、倍電圧全波整流回路を示したが、こ
れに限定されるものではなく、たとえば3倍電圧回路、
4倍電圧回路で構成しても構わない。
れに限定されるものではなく、たとえば3倍電圧回路、
4倍電圧回路で構成しても構わない。
また、交叉指型電極はセラミック板4の裏面に蒸着形成
させてもよい。
させてもよい。
以上の構成において、加熱室内壁面および装置本体の外
周はすべて絶縁材で構成したことにより、商用電源直結
形装置の安全性を確保させている。
周はすべて絶縁材で構成したことにより、商用電源直結
形装置の安全性を確保させている。
一方、電磁波シールドの観点から絶縁材に金属を埋設さ
せて電波遮蔽路を形成している。
せて電波遮蔽路を形成している。
発明の効果
以上のように本発明は、同軸線出力構造を有する高周波
発生手段とこの出力に結線した交叉指型電極からなる放
射手段とを用いたものであり、高周波エネルギーをこの
放射手段の近傍に集約させることにより加熱室を空胴共
振器として作用させなくし加熱室設計自由度を大きくす
るとともにコンパクトな加熱室を有する装置を提供でき
る。
発生手段とこの出力に結線した交叉指型電極からなる放
射手段とを用いたものであり、高周波エネルギーをこの
放射手段の近傍に集約させることにより加熱室を空胴共
振器として作用させなくし加熱室設計自由度を大きくす
るとともにコンパクトな加熱室を有する装置を提供でき
る。
また本発明は駆動電圧数100ボルトのマグネトロンを
高周波発生手段に採用し、商用電源を整流n倍電圧して
この高周波発生手段を駆動させたものであり、昇圧トラ
ンスを除いた小型軽量の装置を提供できる。
高周波発生手段に採用し、商用電源を整流n倍電圧して
この高周波発生手段を駆動させたものであり、昇圧トラ
ンスを除いた小型軽量の装置を提供できる。
さよに本発明は、加熱室全体を共振させない給電機構を
採用したことにより加熱室の内壁面を絶縁化でき、かつ
本体全体も絶縁化することにより、商用電源直結型電源
部採用における安全な装置を提供できる。
採用したことにより加熱室の内壁面を絶縁化でき、かつ
本体全体も絶縁化することにより、商用電源直結型電源
部採用における安全な装置を提供できる。
第1図は本発明の一実施例を示す高周波加熱装置の断面
図、第2図は第1図のA−A’線一部切1・・・・・・
加熱室、2.3・・・・・・高周波放射手段、5・・・
・・・高周波発生手段、11・・・・・・本体ボディ(
本体)、13・・・・・・開閉扉(本体)、20・・・
・・・電源部。
図、第2図は第1図のA−A’線一部切1・・・・・・
加熱室、2.3・・・・・・高周波放射手段、5・・・
・・・高周波発生手段、11・・・・・・本体ボディ(
本体)、13・・・・・・開閉扉(本体)、20・・・
・・・電源部。
Claims (1)
- 内壁が絶縁材で構成された被加熱物を収容する加熱室と
、同軸線出力構造を有する高周波発生手段と、前記加熱
室の底部に配されるとともに前記高周波発生手段の出力
が給電される高周波放射手段と、商用電源を整流n倍電
圧(ここでn≧2の整数)し、前記高周波発生手段の駆
動源を生成する電源部と、外周全体が絶縁材で構成され
た本体とを備えた高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22500788A JPH0275192A (ja) | 1988-09-08 | 1988-09-08 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22500788A JPH0275192A (ja) | 1988-09-08 | 1988-09-08 | 高周波加熱装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0275192A true JPH0275192A (ja) | 1990-03-14 |
Family
ID=16822619
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22500788A Pending JPH0275192A (ja) | 1988-09-08 | 1988-09-08 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0275192A (ja) |
-
1988
- 1988-09-08 JP JP22500788A patent/JPH0275192A/ja active Pending
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