JPH0268132A - バブリング装置 - Google Patents
バブリング装置Info
- Publication number
- JPH0268132A JPH0268132A JP22111188A JP22111188A JPH0268132A JP H0268132 A JPH0268132 A JP H0268132A JP 22111188 A JP22111188 A JP 22111188A JP 22111188 A JP22111188 A JP 22111188A JP H0268132 A JPH0268132 A JP H0268132A
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- Japan
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- bubbling
- gas
- temperature
- specified
- bubbling gas
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- Pending
Links
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J4/00—Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J7/00—Apparatus for generating gases
- B01J7/02—Apparatus for generating gases by wet methods
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、例えば結晶成長装置に用いられるバブリン
グ装置に関するものである。
グ装置に関するものである。
〔従来の技術］
第２図は従来のバブリング装置を示す断面図である。
図において、１はバブラ、２はバブリングガスを導入す
るガス導入管、３はバブリング後のガスを導出するガス
導出管、４はバブリングガス、例えば水素（ｌ（ｉのガ
ス導入口、５ζよ７＜ブーＪンク゛後のガスを次工程に
送るガス導出口、６は＋ｉｉｌ記バブラ１に収容された
液体材料（有機金属など）７は前記バブリングガスの気
泡、８は前記バブラ１がセットされた恒温槽、９は例え
ば−１０℃に冷却した冷媒、１０は前記ガス導入口４付
近のバブリングガス（Ｈ２）の流れ、１１は前記ガス導
出口５付近のバブリング後のガスの流れである。
るガス導入管、３はバブリング後のガスを導出するガス
導出管、４はバブリングガス、例えば水素（ｌ（ｉのガ
ス導入口、５ζよ７＜ブーＪンク゛後のガスを次工程に
送るガス導出口、６は＋ｉｉｌ記バブラ１に収容された
液体材料（有機金属など）７は前記バブリングガスの気
泡、８は前記バブラ１がセットされた恒温槽、９は例え
ば−１０℃に冷却した冷媒、１０は前記ガス導入口４付
近のバブリングガス（Ｈ２）の流れ、１１は前記ガス導
出口５付近のバブリング後のガスの流れである。
次に動作について説明する。
所定の温度に設定した恒温槽８中にセットしたバブラ１
内の液体材料６中に、バブリングガス、例えば水素をガ
ス導入口４からガス導入ｗ２を通して導入し、液体材料
６をバブリングすることにより、バブリングガス中に液
体材料６を蒸発・気化させて飽和させる。次いで、この
液体材料６が飽和したバブリングガスをガス導出管３を
通してガス導出口５から導出し、例えばＭＯ−ＣＶＤ結
晶成長装置の反応管（図示せず）に供給する。
内の液体材料６中に、バブリングガス、例えば水素をガ
ス導入口４からガス導入ｗ２を通して導入し、液体材料
６をバブリングすることにより、バブリングガス中に液
体材料６を蒸発・気化させて飽和させる。次いで、この
液体材料６が飽和したバブリングガスをガス導出管３を
通してガス導出口５から導出し、例えばＭＯ−ＣＶＤ結
晶成長装置の反応管（図示せず）に供給する。
従来のバブリング装置は以上のように構成されているの
で、バブラ１中の液体材料６の量が減少して（ると、バ
ブリング時間が短（なり、必ずしも液体材料６が飽和蒸
気圧に達しなくなり、バブリングガス中に含まれる液体
材料６の量が少なくなる。このため、例えばこのバブリ
ング装置を材料供給源として結晶成長を行い、成長回数
を重ねていくと、材料の供給が徐々に減少するから、結
晶の成長速度が徐々に減少してくるなどの問題が生じる
。
で、バブラ１中の液体材料６の量が減少して（ると、バ
ブリング時間が短（なり、必ずしも液体材料６が飽和蒸
気圧に達しなくなり、バブリングガス中に含まれる液体
材料６の量が少なくなる。このため、例えばこのバブリ
ング装置を材料供給源として結晶成長を行い、成長回数
を重ねていくと、材料の供給が徐々に減少するから、結
晶の成長速度が徐々に減少してくるなどの問題が生じる
。
この発明は、上記のような問題点を解消するためになさ
れたもので、規定温度で必ず液体材料が飽和蒸気圧に達
するようなバブリング装置を得ることを目的とする。
れたもので、規定温度で必ず液体材料が飽和蒸気圧に達
するようなバブリング装置を得ることを目的とする。
［課題を解決するための手段］
との発明に係るバブリング装置は、液体材料を規定温度
より高温に設定してバブリングし、バブリングガス中に
液体材料を蒸発・気化させて飽和させるバブラと、蒸発
・気化した材料ガスが含まれているバブリング後のバブ
リングガスをバブリング温度より低い規定温度に冷却し
、バブリングガス中で過飽和となった材料ガスを液化さ
せてバブラ中にもどすことによりバブリングガス中の材
料ガスを規定湿度で飽和状態とするための冷却器とを備
えたものである。
より高温に設定してバブリングし、バブリングガス中に
液体材料を蒸発・気化させて飽和させるバブラと、蒸発
・気化した材料ガスが含まれているバブリング後のバブ
リングガスをバブリング温度より低い規定温度に冷却し
、バブリングガス中で過飽和となった材料ガスを液化さ
せてバブラ中にもどすことによりバブリングガス中の材
料ガスを規定湿度で飽和状態とするための冷却器とを備
えたものである。
この発明におけるバブリング装置は、バブリング後のガ
ス導出管に設置された冷却器により、バブリング中に多
めに含ませておいた余分の材料ガスが取り除かれ、規定
温度でバブリングガス中の材料ガスが飽和蒸気圧になる
。
ス導出管に設置された冷却器により、バブリング中に多
めに含ませておいた余分の材料ガスが取り除かれ、規定
温度でバブリングガス中の材料ガスが飽和蒸気圧になる
。
以下、この発明の一実施例を第１図について説明する。
第１図において、第２図と同一符号は同一構成部分を示
し、２１は冷却器、２２はバブリング後のガスの出口、
２３はバブリング後のガスを冷却器２１へ導く配管、２
４は前記冷却器２１がら反応管へガスを導く配管、２５
はその出口、２６は前記出口２５付近の規定量の材料ガ
スを含んだバブリングガスの流れである。１ 次に上記実施例の動作を第１図を参照しながら説明する
。
し、２１は冷却器、２２はバブリング後のガスの出口、
２３はバブリング後のガスを冷却器２１へ導く配管、２
４は前記冷却器２１がら反応管へガスを導く配管、２５
はその出口、２６は前記出口２５付近の規定量の材料ガ
スを含んだバブリングガスの流れである。１ 次に上記実施例の動作を第１図を参照しながら説明する
。
第１図はこの発明のバブリング装置を使用してバブリン
グを行っている時の模式図である。
グを行っている時の模式図である。
バブリングガス（Ｈ２）をガス導入官２を通し規定温度
より高温に設定した液体材Ｍ （ＴＭＧ。
より高温に設定した液体材Ｍ （ＴＭＧ。
Ｔ Ｍ Ａ 、 Ｄ ＨＺ ｎ 、 Ｄ Ｅ Ｚ ｎな
ど）６中に導き、バブリングしてバブリングガス（Ｈり
中に材料ガスを規定量より多めに含ませる。バブリング
後のバブリングガスを配管２３を通し、規定温度に設定
した冷却器２１中に導き、バブリングガス（Ｈ２）中に
多めに含ませておいた材料ガスのうち、規定量より余分
に含まれている材料ガスを液化させて取り除くことによ
り、規定温度で必ず液体材料６が飽和蒸気圧になる。
ど）６中に導き、バブリングしてバブリングガス（Ｈり
中に材料ガスを規定量より多めに含ませる。バブリング
後のバブリングガスを配管２３を通し、規定温度に設定
した冷却器２１中に導き、バブリングガス（Ｈ２）中に
多めに含ませておいた材料ガスのうち、規定量より余分
に含まれている材料ガスを液化させて取り除くことによ
り、規定温度で必ず液体材料６が飽和蒸気圧になる。
以上説明したようにこの発明は、バブリングにより規定
量より多めに液体材料をバブリングガス中に含ませるバ
ブラと、バブリングガス中で過飽和となった材料ガスを
液化させて前記バブラ中にもどしバブリングガス中の材
料ガスを所定の冷却温度で過飽和とする規定量にするた
めの冷却器とを備えてバブリング装置を構成したので、
必ず材料ガスを規定量に設定できる効果が得られる。
量より多めに液体材料をバブリングガス中に含ませるバ
ブラと、バブリングガス中で過飽和となった材料ガスを
液化させて前記バブラ中にもどしバブリングガス中の材
料ガスを所定の冷却温度で過飽和とする規定量にするた
めの冷却器とを備えてバブリング装置を構成したので、
必ず材料ガスを規定量に設定できる効果が得られる。
第１図はこの発明の一実施例によるバブリング装置を示
す模式図、第２図は従来のバブリング装置を示す模式図
である。 図において、１はバブラ、２はガス導入管、３はガス導
出管、４はガス導入口、５はガス導出口、６は液体材料
、７は気泡、８は恒温槽、９は冷媒、１０はガス導入口
付近のバブリングガス（Ｈ２）の流れ、２１は冷却器、
２２はバブリング後のガスの出口、２３はバブリング後
のガスを冷却器へ導く配管、２４は冷却器から反応管へ
ガスを導く配管、２５はその出口、２６は出口付近の規
定性の材料ガスを含んだバブリングガスの流れである。 なお、各図中の同一符号は同一または相当部分を示す。 代理人 大 岩 増 雄 （外２名）５ ’ ＋ｉ
ｌＮ過槽 ９浄１ １つ フ゛スの出口
す模式図、第２図は従来のバブリング装置を示す模式図
である。 図において、１はバブラ、２はガス導入管、３はガス導
出管、４はガス導入口、５はガス導出口、６は液体材料
、７は気泡、８は恒温槽、９は冷媒、１０はガス導入口
付近のバブリングガス（Ｈ２）の流れ、２１は冷却器、
２２はバブリング後のガスの出口、２３はバブリング後
のガスを冷却器へ導く配管、２４は冷却器から反応管へ
ガスを導く配管、２５はその出口、２６は出口付近の規
定性の材料ガスを含んだバブリングガスの流れである。 なお、各図中の同一符号は同一または相当部分を示す。 代理人 大 岩 増 雄 （外２名）５ ’ ＋ｉ
ｌＮ過槽 ９浄１ １つ フ゛スの出口
Claims (1)
- 所定の温度のバブリングガス中に、液体材料を蒸発・気
化させて飽和させるバブリング装置において、前記液体
材料を規定温度より高温に設定してバブリングし、バブ
リングガス中に前記液体材料を蒸発・気化させて飽和さ
せるバブラと、蒸発・気化した材料ガスが含まれている
バブリング後のバブリングガスをバブリング温度より低
い前記規定温度に冷却し、バブリングガス中で過飽和と
なった材料ガスを液化させて前記バブラ中にもどすこと
によりバブリングガス中の材料ガスを前記規定温度で飽
和状態とするための冷却器とを備えたことを特徴とする
バブリング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22111188A JPH0268132A (ja) | 1988-09-01 | 1988-09-01 | バブリング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22111188A JPH0268132A (ja) | 1988-09-01 | 1988-09-01 | バブリング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0268132A true JPH0268132A (ja) | 1990-03-07 |
Family
ID=16761654
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22111188A Pending JPH0268132A (ja) | 1988-09-01 | 1988-09-01 | バブリング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0268132A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000319095A (ja) * | 1999-04-30 | 2000-11-21 | Komatsu Electronic Metals Co Ltd | トリクロロシランガス気化供給装置及び方法 |
-
1988
- 1988-09-01 JP JP22111188A patent/JPH0268132A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000319095A (ja) * | 1999-04-30 | 2000-11-21 | Komatsu Electronic Metals Co Ltd | トリクロロシランガス気化供給装置及び方法 |
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