JPH0260162B2 - - Google Patents

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JPH0260162B2
JPH0260162B2 JP13449384A JP13449384A JPH0260162B2 JP H0260162 B2 JPH0260162 B2 JP H0260162B2 JP 13449384 A JP13449384 A JP 13449384A JP 13449384 A JP13449384 A JP 13449384A JP H0260162 B2 JPH0260162 B2 JP H0260162B2
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JP
Japan
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semiconductor laser
combined
beams
light
scanning
Prior art date
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JP13449384A
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Japanese (ja)
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JPS6113211A (en
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Hiromi Ishikawa
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication of JPS6113211A publication Critical patent/JPS6113211A/en
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Description

【発明の詳細な説明】 (発明の分野) 本発明は複数の半導体レーザから出射したレー
ザビームを、共通のスポツトにおいて重なり合う
ように合成する半導体レーザビームの合成方法、
特に詳細には円形に近い断面形状の合成ビームが
得られるようにした半導体レーザビーム合成方法
に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of the Invention) The present invention relates to a semiconductor laser beam synthesis method for synthesizing laser beams emitted from a plurality of semiconductor lasers so that they overlap at a common spot;
In particular, the present invention relates to a semiconductor laser beam combining method that allows a combined beam with a cross-sectional shape close to a circle to be obtained.

(発明の技術的背景および先行技術) 従来より、光ビームを光偏向器により偏向して
走査する光ビーム走査装置が、例えば各種走査記
録装置、走査読取装置等において広く実用に供さ
れている。このような光ビーム走査装置において
光ビームを発生する手段の1つとして、半導体レ
ーザが従来から用いられている。この半導体レー
ザは、ガスレーザ等に比べれば小型、安価で消費
電力も少なく、また駆動電流を変えることによつ
て直接変調が可能である等、数々の長所を有して
いる。
(Technical Background and Prior Art of the Invention) Conventionally, light beam scanning devices that scan a light beam by deflecting it with an optical deflector have been widely put into practical use, for example, in various scanning recording devices, scanning reading devices, and the like. A semiconductor laser has conventionally been used as one of the means for generating a light beam in such a light beam scanning device. This semiconductor laser has many advantages, such as being smaller, cheaper, and consumes less power than gas lasers, and can be directly modulated by changing the drive current.

しかしながら、その反面この半導体レーザは、
連続発振させる場合には現状では出力がたかだか
20〜30mWと小さく、したがつて高エネルギーの
走査光を必要とする光ビーム走査装置、例えば感
度の低い記録材料(金属膜、アモルフアス膜等の
DRAW材料等)に記録する走査記録装置等に用
いるのは極めて困難である。
However, on the other hand, this semiconductor laser
Currently, the output is at most when generating continuous oscillation.
Light beam scanning devices that require small, high-energy scanning light of 20 to 30 mW, such as recording materials with low sensitivity (metal films, amorphous films, etc.)
It is extremely difficult to use it in scanning recording devices that record on DRAW materials, etc.).

また、ある種の螢光体に放射線(X線、α線、
β線、γ線、紫外線等)を照射すると、この放射
線エネルギーの一部が螢光体中に蓄積され、この
螢光体に可視光等の励起光を照射すると、蓄積さ
れたエネルギーに応じて螢光体が輝尽発光を示す
ことが知られており、このような蓄積性螢光体を
利用して、人体等の被写体の放射線画像情報を一
旦蓄積性螢光体からなる層を有する蓄積性螢光体
シートに記録し、この蓄積性螢光体シートをレー
ザ光等の励起光で走査して輝尽発光光を生ぜし
め、得られた輝尽発光光を光電的に読み出して画
像信号を得、この画像信号に基づき被写体の放射
線画像を写真感光材料等の記録材料、CRT等に
可視像として出力させる放射線画像情報記録再生
システムが本出願人により既に提案されている
(特開昭55−12429号、同55−116340号、同55−
163472号、同56−11395号、同56−104645号な
ど)。このシステムにおいて放射線画像情報が蓄
積記録された蓄積性螢光体シートを走査して画像
情報の読取りを行なうのに、半導体レーザを用い
た光ビーム走査装置の使用が考えられているが、
蓄積性螢光体を輝尽発光させるためには十分に高
エネルギーの励起光を該螢光体に照射する必要が
あり、したがつて前記半導体レーザを用いた光ビ
ーム走査装置を、この放射線画像情報記録再生シ
ステムにおいて画像情報読取りのために使用する
ことは極めて難しい。
Also, some types of fluorophores are exposed to radiation (X-rays, alpha rays,
When irradiated with beta rays, gamma rays, ultraviolet rays, etc., some of this radiation energy is accumulated in the phosphor, and when this phosphor is irradiated with excitation light such as visible light, it It is known that phosphors exhibit stimulated luminescence, and by using such stimulable phosphors, radiation image information of a subject such as a human body can be stored in a storage layer containing a layer of stimulable phosphors. This stimulable phosphor sheet is scanned with excitation light such as a laser beam to generate stimulated luminescent light, and the resulting stimulated luminescent light is read out photoelectrically to produce an image signal. The applicant has already proposed a radiation image information recording and reproducing system that outputs the radiation image of the subject as a visible image to a recording material such as a photographic light-sensitive material, CRT, etc. based on this image signal (Japanese Patent Application Laid-Open No. No. 55-12429, No. 55-116340, No. 55-
(No. 163472, No. 56-11395, No. 56-104645, etc.) In this system, the use of a light beam scanning device using a semiconductor laser is considered to scan the stimulable phosphor sheet on which radiation image information is stored and read the image information.
In order to stimulate a stimulable phosphor to emit light, it is necessary to irradiate the phosphor with excitation light of sufficiently high energy. It is extremely difficult to use it for reading image information in an information recording and reproducing system.

そこで半導体レーザを光ビーム走査装置に用い
るに際して、上記の通り光出力が低い半導体レー
ザから十分高エネルギーの走査ビームを得るため
に、複数の半導体レーザを使用し、これらの半導
体レーザから出射されたレーザビームを走査点に
おいて重なり合うように合成することが考えられ
る。
Therefore, when using a semiconductor laser in an optical beam scanning device, in order to obtain a sufficiently high-energy scanning beam from a semiconductor laser with a low optical output as described above, multiple semiconductor lasers are used, and the laser emitted from these semiconductor lasers is It is conceivable to combine the beams so that they overlap at the scanning point.

一方前述のような光ビーム走査装置において
は、主走査方向と副走査方向の解像力をほぼ合わ
せるために、走査ビームの断面形状が正円状であ
ることが望まれる。ところが周知のように半導体
レーザから出射するレーザビームは、半導体レー
ザのpn接合面に平行な方向と直角な方向とでそ
れぞれ拡がり角が異なり、その断面形状は惰円状
となつている。そこで従来上記のように断面形状
が正円状の光ビームが必要とされる場合におい
て、半導体レーザを使用するに当たつては、半導
体レーザから出射したレーザビームを例えばプリ
ズム等の光学系を用いて、断面正円状に整形して
いた。
On the other hand, in the above-mentioned light beam scanning device, it is desirable that the cross-sectional shape of the scanning beam be a perfect circle in order to substantially match the resolution in the main scanning direction and the sub-scanning direction. However, as is well known, a laser beam emitted from a semiconductor laser has different divergence angles in a direction parallel to and perpendicular to the pn junction surface of the semiconductor laser, and its cross-sectional shape is circular. Conventionally, when using a semiconductor laser, when a light beam with a circular cross-sectional shape is required as described above, the laser beam emitted from the semiconductor laser is processed using an optical system such as a prism. The cross section was shaped into a perfect circle.

しかしながら前記のように高エネルギーの走査
ビームを得るために複数の半導体レーザを用いる
場合には、上記プリズム等の光学系を当然半導体
レーザの数だけ使用しなければならず、走査装置
が大型化してしまうし、また走査装置のコストも
高くなる。
However, when multiple semiconductor lasers are used to obtain a high-energy scanning beam as described above, it is necessary to use optical systems such as the prisms for the number of semiconductor lasers, which increases the size of the scanning device. This also increases the cost of the scanning device.

(発明の目的) そこで本発明は、前述のプリズムのような光学
系を使用せずに、断面略正円状の光ビームを得る
ことができる複数の半導体レーザビームの合成方
法を提供とすることを目的とするものである。
(Objective of the Invention) Therefore, an object of the present invention is to provide a method for synthesizing a plurality of semiconductor laser beams, which can obtain a light beam having a substantially circular cross section without using an optical system such as the above-mentioned prism. The purpose is to

(発明の構成) 本発明の半導体レーザビーム合成方法は、前述
のように複数の半導体レーザから出射した断面惰
円状の各レーザビームを共通のスポツトにおいて
重ね合わせる場合に、各レーザビームを、それぞ
れのビーム断面の惰円軸が上記共通のスポツト上
で互いに略等角度間隔で交差するように合成する
ことを特徴とするものである。
(Structure of the Invention) As described above, the semiconductor laser beam combining method of the present invention allows each laser beam to be individually It is characterized in that the inertial circular axes of the beam cross sections are combined so that they intersect with each other at substantially equal angular intervals on the common spot.

(実施態様) 以下、図面に示す実施態様に基づいて本発明を
詳細に説明する。
(Embodiments) Hereinafter, the present invention will be described in detail based on embodiments shown in the drawings.

第1図は本発明の第1実施態様方法を実施する
装置を示すものである。一例として4つの半導体
レーザ11,12,13,14は互いにビーム出
射軸を平行に揃えて配置され、これらの半導体レ
ーザ11,12,13,14のそれぞれに対して
コリメータレンズ21,22,23,24と、反
射ミラー31,32,33,34が設けられてい
る。各半導体レーザ11,12,13,14から
出射した光ビームは、上記コリメータレンズ2
1,22,23,24によつて平行ビーム41,
42,43,44とされ、この平行ビーム41,
42,43,44は上記反射ミラー31,32,
33,34により反射されて、共通のガルバノメ
ータミラー5に入射する。
FIG. 1 shows an apparatus for implementing the first embodiment method of the present invention. As an example, four semiconductor lasers 11, 12, 13, 14 are arranged with their beam emission axes parallel to each other, and collimator lenses 21, 22, 23, 24, and reflecting mirrors 31, 32, 33, and 34 are provided. The light beams emitted from each semiconductor laser 11, 12, 13, 14 are directed to the collimator lens 2.
Parallel beam 41 by 1, 22, 23, 24,
42, 43, 44, and these parallel beams 41,
42, 43, 44 are the reflecting mirrors 31, 32,
It is reflected by 33 and 34 and enters a common galvanometer mirror 5.

ガルバノメータミラー5は図中矢印A方向に往
復回動し、上記平行ビーム41,42,43,4
4を偏向する。偏向された平行ビーム41,4
2,43,44は、共通の集束レンズ6によつて
1つのスポツトSに集中されるとともに、それぞ
れがこのスポツトSにおいて集束される。したが
つて上記スポツトSが照射される位置に被走査面
7を配置すれば、該被走査面7は、各半導体レー
ザ11,12,13,14が出射した光ビームが
合わせられて高エネルギーとなつた走査ビームに
よつて矢印B方向に走査される。なお通常上記被
走査面7は平面とされ、そのために上記集束レン
ズ6としてfθレンズが用いられる。
The galvanometer mirror 5 rotates back and forth in the direction of arrow A in the figure, and the parallel beams 41, 42, 43, 4
Deflect 4. Deflected parallel beam 41,4
2, 43, 44 are focused into one spot S by a common focusing lens 6, and each is focused at this spot S. Therefore, if the surface to be scanned 7 is placed at a position where the spot S is irradiated, the surface to be scanned 7 will be exposed to high energy light beams emitted by the respective semiconductor lasers 11, 12, 13, and 14. The scanning beam is scanned in the direction of arrow B. Note that the surface to be scanned 7 is usually a flat surface, and therefore an fθ lens is used as the focusing lens 6.

第2図は上記スポツトSにおいて4本の平行ビ
ーム41,42,43,44が合成された様子を
詳しく示すものである。この第2図に示されるよ
うに、各半導体レーザ11,12,13,14か
ら出射した平行ビーム41,42,43,44は
それぞれ、断面惰円状となつているが、各平行ビ
ーム41,42,43,44は、それぞれの惰円
軸P1,P2,P3,P4が等角度間隔(すなわ
ちこの場合は45゜間隔)で交差するように合成さ
れている。したがつて合成された光ビームの断面
形状は、周部で多少の凹凸が有るものの略正円形
となつている。
FIG. 2 shows in detail how the four parallel beams 41, 42, 43, and 44 are combined at the spot S. As shown in FIG. 2, the parallel beams 41, 42, 43, and 44 emitted from the semiconductor lasers 11, 12, 13, and 14 each have a circular cross section; 42, 43, and 44 are combined so that their respective inertia circle axes P1, P2, P3, and P4 intersect at equal angular intervals (that is, in this case, at 45° intervals). Therefore, the cross-sectional shape of the combined light beam is approximately a perfect circle, although there are some irregularities at the periphery.

なお上記実施態様においては、ガルバノメータ
ミラー5から出射した平行ビーム41,42,4
3,44は互いに、ビームの偏向方向と直角な方
向に並ぶようになつているが、これらの平行ビー
ム41,42,43,44は勿論互いに平行とし
た上で上記以外の方向に並べられてもよい。
In the above embodiment, the parallel beams 41, 42, 4 emitted from the galvanometer mirror 5
3 and 44 are arranged in a direction perpendicular to the beam deflection direction, but these parallel beams 41, 42, 43, and 44 are of course parallel to each other and arranged in a direction other than the above. Good too.

第3図は本発明の第2実施態様方法を実施する
装置を示すものである。本装置において3つの半
導体レーザ11,12,13と反射ミラー31,
32,33は、それぞれのビーム軸が1つのスポ
ツトSにおいて集中するように配置されている。
また各半導体レーザ11,12,13のそれぞれ
に対して、出射した光ビームを上記スポツトSに
おいて集束する集れんビーム51,52,53と
する集束レンズ61,62,63が設けられてい
る。上記集れんビーム51,52,53はガルバ
ノメータミラー5によつて偏向され、上記スポツ
トSは円弧Rを描いて走査する。したがつてこの
場合も、上記円弧Pに沿つて配された被走査面7
は、各半導体レーザ11,12,13が出射する
光ビームが合成された高エネルギーの走査ビーム
によつて走査されるようになる。
FIG. 3 shows an apparatus for implementing the second embodiment method of the present invention. In this device, three semiconductor lasers 11, 12, 13 and a reflection mirror 31,
32 and 33 are arranged so that their respective beam axes are concentrated at one spot S.
Furthermore, for each of the semiconductor lasers 11, 12, 13, focusing lenses 61, 62, 63 are provided which turn the emitted light beams into convergent beams 51, 52, 53 which are focused on the spot S mentioned above. The focused beams 51, 52, 53 are deflected by the galvanometer mirror 5, and the spot S scans in a circular arc R. Therefore, in this case as well, the scanned surface 7 arranged along the arc P
The light beams emitted by the semiconductor lasers 11, 12, and 13 are combined and scanned by a high-energy scanning beam.

そしてこの場合も第4図に示されるように、断
面惰円状の集れんビーム51,52,53を、各
惰円軸P1,P2,P3が互いに略等角度間隔
(この場合は60゜間隔)で交差するように合成する
ことにより、合成された光ビームの断面形状を略
正円状のものとすることができる。
In this case as well, as shown in FIG. ), the cross-sectional shape of the combined light beam can be made approximately circular.

以上複数の半導体レーザビームを合成した光ビ
ームを走査する場合の実施態様について説明した
が、本発明は合成ビームを特に走査させない場合
においても、合成ビームの断面形状を略正円状に
するために適用されうるものである。また合成す
る半導体レーザビームの本数は4本や3本に限ら
れるものではなく、そして合成されるビーム数が
多いほど、合成ビームの断面形状はより正円に近
くなる。
The embodiment in which a light beam obtained by combining a plurality of semiconductor laser beams is scanned has been described above, but the present invention also provides a method for making the cross-sectional shape of the combined beam approximately circular even when the combined beam is not specifically scanned. applicable. Further, the number of semiconductor laser beams to be combined is not limited to four or three, and the larger the number of beams to be combined, the closer the cross-sectional shape of the combined beam becomes to a perfect circle.

(発明の効果) 以上詳細に説明した通り本発明の半導体レーザ
ビーム合成方法によれば、光出力の低い半導体レ
ーザビームを合成して高エネルギーの光ビームを
得ることができ、しかもプリズム等の光学系を用
いずに光ビームを断面略正円状とすることができ
るので、合成ビームを使用する装置を小型化し、
また安価に形成することが可能になる。
(Effects of the Invention) As explained in detail above, according to the semiconductor laser beam combining method of the present invention, semiconductor laser beams with low optical output can be combined to obtain a high-energy optical beam, and optical Since the light beam can be made to have a substantially circular cross section without using a system, the device that uses the composite beam can be miniaturized.
Furthermore, it can be formed at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の第1実施態様による半導体レ
ーザビーム合成方法を実施する装置を示す概略斜
視図、第2図は上記方法により合成された光ビー
ムの断面形状を示す説明図、第3図は本発明の第
2実施態様による半導体レーザビーム合成方法を
実施する装置を示す概略斜視図、第4図は上記第
2実施態様方法により合成された光ビームの断面
形状を示す説明図である。 6……集束レンズ、11,12,13,14…
…半導体レーザ、21,22,23,24……コ
リメータレンズ、41,42,43,44……平
行ビーム、51,52,53……集れんビーム、
61,62,63……集束レンズ、P1,P2,
P3,P4……ビームの惰円軸。
FIG. 1 is a schematic perspective view showing an apparatus for carrying out the semiconductor laser beam combining method according to the first embodiment of the present invention, FIG. 2 is an explanatory diagram showing the cross-sectional shape of the light beam combined by the above method, and FIG. 4 is a schematic perspective view showing an apparatus for carrying out the semiconductor laser beam combining method according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 4 is an explanatory diagram showing the cross-sectional shape of the light beam combined by the method of the second embodiment. 6...Focusing lens, 11, 12, 13, 14...
...Semiconductor laser, 21,22,23,24...Collimator lens, 41,42,43,44...Parallel beam, 51,52,53...Convergent beam,
61, 62, 63...Focusing lens, P1, P2,
P3, P4...beam inertia circle axis.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 複数の半導体レーザから出射した断面惰円状
の各レーザビームを共通のスポツトにおいて重ね
合わせる半導体レーザビーム合成法において、前
記各レーザビームを、それぞれのビーム断面の惰
円軸が前記共通のスポツト上で互いに略等角度間
隔で交差するように合成することを特徴とする半
導体レーザビーム合成方法。
1. In a semiconductor laser beam combining method in which laser beams each having a circular cross section emitted from a plurality of semiconductor lasers are superimposed at a common spot, the laser beams are combined so that the circular axis of each beam cross section is on the common spot. A semiconductor laser beam combining method characterized in that the semiconductor laser beams are combined so that they intersect with each other at approximately equal angular intervals.
JP13449384A 1984-06-29 1984-06-29 Semiconductor laser beam synthesizing method Granted JPS6113211A (en)

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