JPS6243620A - Semiconductor laser light source device - Google Patents

Semiconductor laser light source device

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Publication number
JPS6243620A
JPS6243620A JP18360685A JP18360685A JPS6243620A JP S6243620 A JPS6243620 A JP S6243620A JP 18360685 A JP18360685 A JP 18360685A JP 18360685 A JP18360685 A JP 18360685A JP S6243620 A JPS6243620 A JP S6243620A
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JP
Japan
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laser beams
beams
cross
laser
semiconductor lasers
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Application number
JP18360685A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masashi Yamamoto
将史 山本
Masaru Noguchi
勝 野口
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS6243620A publication Critical patent/JPS6243620A/en
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  • Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a composite beam which has a sectional shape close to a circle and high light intensity by making elliptically sectioned laser beams from two projection systems consisting of plural semiconductor lasers incident on a polarization beam splitter in different directions, and multiplexing two laser beams. CONSTITUTION:Elliptically sectioned beams 23a-23c from three semiconductor lasers 20a-20c of a beam projection system 25 are projected in parallel so that their short axes are in a line; and they becomes parallel beam flux 26 through collimator lenses 21a-23c and reflecting mirrors 22a-22c and enter a polarization beam splitter (PBS)40 which transmits P polarized light and reflects S polarized light. Similarly, laser beams from three semiconductor lasers 30a-30c of the 2nd beam projection system are incident on the PBS40 through collimator lenses 31a-31c and reflecting mirrors 32a-32c. The two incident beams polarized as shown by arrows A1 and A2 are multiplexed and projected, and then converted into a spot S on a scanning surface 44 through an optical polarizer 42 and a condenser lens 43, so that the spot is scanned as shown by an arrow C.

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の分野) 本発明は光ビーム走査装置等に用いられる半導体レーザ
光源装置、特に詳細には複数の半導体レーザから射出さ
れたレーザビームを1本に合成するようにした半導体レ
ーザ光源装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of the Invention) The present invention relates to a semiconductor laser light source device used in a light beam scanning device, etc., and more particularly, to a semiconductor laser light source device for combining laser beams emitted from a plurality of semiconductor lasers into one laser beam. The present invention relates to a semiconductor laser light source device.

(発明の技術的背景および先行技術) 従来より、光ビームを光偏向器により偏向して走査する
光ビーム走査装置が、例えば各種走査記録装置、走査読
取装置等において広く実用に供されている。このような
光ビーム走査装置において光ビームを発生する手段の1
つとして、半導体レーザが従来から用いられている。こ
の半導体レーザは、ガスレーザ等に比べれば小型、安価
で消費電力も少なく、また駆動電流を変えることによっ
て直接変調が可能である等、数々の長所を有している。
(Technical Background and Prior Art of the Invention) Conventionally, light beam scanning devices that scan a light beam by deflecting it with an optical deflector have been widely put into practical use, for example, in various scanning recording devices, scanning reading devices, and the like. One of the means for generating a light beam in such a light beam scanning device
As one example, semiconductor lasers have been conventionally used. This semiconductor laser has many advantages, such as being smaller, cheaper, and consumes less power than gas lasers, and can be directly modulated by changing the drive current.

しかしながら、その反面この半導体レーザは、連続発振
させる場合には現状では出力がたかだか20〜30mW
と小さく、したがって^エネルギーの走査光を必要とす
る光ビーム走査装置、例えば感度の低い記録材料(金属
膜、アモルファス膜等のDRAW材料等)に記録する走
査記録装置等に用いるのは極めて困難である。
However, on the other hand, when this semiconductor laser is continuously oscillated, the current output is only 20 to 30 mW.
Therefore, it is extremely difficult to use it in optical beam scanning devices that require energetic scanning light, such as scanning recording devices that record on recording materials with low sensitivity (such as DRAW materials such as metal films and amorphous films). be.

また、ある種の螢光体に放射線(X線、α線、β線、γ
線、電子線、紫外線等)を照射すると、この放射線エネ
ルギーの一部が螢光体中に蓄積され、この螢光体に可視
光等の励起光を照射すると、蓄積されたエネルギーに応
じて螢光体が輝尽発光を示すことが知られており、この
ような蓄積性螢光体を利用して、人体等の被写体の放射
線画像情報を一旦蓄積性螢光体(1m尽性螢光体)から
なる層を有する蓄積性螢光体シートに記録し、この蓄積
性螢光体シートをレーザ光等の励起光で走査して輝尽発
光光を生ぜしめ、得られた輝尽発光光を光電的に読み取
って画像信号を得、この画像信号に基づき被写体の放射
線画像を写真感光材料等の記録材料、CRT等に可視像
として出力させる放射線画像情報記録再生システムが本
出願人により既に提案されている(特開昭55−124
29号、同55−116340号、同55−16347
2号、同56−11395号、同56−104645号
など)。このシステムにおいて放射線画像情報が蓄積記
録されたM活性螢光体シートを走査して画像情報の読取
りを行なうのに、半導体レーザを用いた光ビーム走査装
置の使用が考えられているが、蓄積性螢光体を輝尽発光
させるためには、十分に高エネルギーの励起光を該螢光
体に照射する必要があり、したがって前記半導体レーデ
を用いた光ビーム走査装置を、この放射線画像情報記録
再生システムにおいて画像情報読取りのために使用する
ことも極めて難しい。
Also, some types of fluorophores are exposed to radiation (X-rays, α-rays, β-rays, γ-rays, etc.).
When the phosphor is irradiated with rays, electron beams, ultraviolet rays, etc., a portion of this radiation energy is accumulated in the phosphor, and when the phosphor is irradiated with excitation light such as visible light, the phosphor emits light according to the accumulated energy. It is known that light bodies exhibit stimulated luminescence, and by using such stimulable fluorescers, radiation image information of a subject such as a human body can be transferred to a stimulable phosphor (1m stimulable fluorescer). ), and this stimulable phosphor sheet is scanned with excitation light such as a laser beam to generate stimulated luminescence light. The applicant has already proposed a radiation image information recording and reproducing system that photoelectrically reads an image signal and outputs the radiation image of the subject as a visible image to a recording material such as a photographic light-sensitive material, CRT, etc. based on this image signal. (Japanese Unexamined Patent Publication No. 55-124
No. 29, No. 55-116340, No. 55-16347
No. 2, No. 56-11395, No. 56-104645, etc.). In this system, it has been considered to use a light beam scanning device using a semiconductor laser to scan the M-activated phosphor sheet on which radiation image information is stored and read the image information, but In order to cause the phosphor to stimulate luminescence, it is necessary to irradiate the phosphor with excitation light of sufficiently high energy. It is also extremely difficult to use it for reading image information in a system.

そこで上記の通り光出力が低い半導体レーザから十分高
エネルギーの走査ビームを得るために、複数の半導体レ
ーザを使用し、これらの半導体レーザから射出されたレ
ーザビームを1本に合成することが考えられる。このよ
うに複数のレーザビームを合成する半導体レーザ光源装
置として、例えば特願昭59−121089号明細書に
示される゛ように、各レーザビームの光軸が互いに平行
となるように各半導体レーザを配置し、各レーザビーム
をそれぞれコリメータレンズによって平行ビームとした
上で互いに平行に1列に配列して、1本に合成するよう
にしたものが考えられている。
Therefore, as mentioned above, in order to obtain a sufficiently high-energy scanning beam from a semiconductor laser with low optical output, it is possible to use multiple semiconductor lasers and combine the laser beams emitted from these semiconductor lasers into one beam. . As shown in Japanese Patent Application No. 59-121089, a semiconductor laser light source device that synthesizes a plurality of laser beams in this way is constructed such that the optical axes of each laser beam are parallel to each other. It has been considered that the laser beams are arranged in parallel to each other, each made into a parallel beam by a collimator lens, and then arranged in a line parallel to each other to be combined into one beam.

ところが周知のように半導体レーザから出射するレーザ
ビームは、半導体レーザのpn接接合に平行な方向と直
角な方向とでそれぞれ発散角が異なり、その断面形状は
惰円状となっているので、第4図図示のように、複数の
レーザビーム10を配列合成すると、合成ビーム11の
断面形状は縁部が欠けたものとなってしまう。このよう
な合成ビーム11の縁部は光走査のために有効に利用さ
れ得ず、したがってこのような合成ビームを用いる光走
査装置は、エネルギー利用効率が低いものとなってしま
う。
However, as is well known, the laser beam emitted from a semiconductor laser has different divergence angles in the direction parallel to and perpendicular to the p-n junction of the semiconductor laser, and its cross-sectional shape is circular. As shown in FIG. 4, when a plurality of laser beams 10 are arrayed and synthesized, the cross-sectional shape of the synthesized beam 11 ends up having a chipped edge. The edge of such a composite beam 11 cannot be effectively used for optical scanning, and therefore, an optical scanning device using such a composite beam has low energy utilization efficiency.

また合成ビームの強度を高めるためには、合成するレー
ザビームの数を増やせばよいが、多数本のレーザビーム
を1列に配列合成すると合成ビームの断面形状が細長く
なり、実際の光走査に利用できなくなるという問題が生
じる。
In addition, in order to increase the intensity of the combined beam, it is possible to increase the number of laser beams to be combined, but when multiple laser beams are arranged and combined in a row, the cross-sectional shape of the combined beam becomes elongated, which can be used for actual optical scanning. The problem arises that it cannot be done.

(発明の目的) 本発明は上記のような事情に鑑みてなされたものであり
、正円に近い断面形状を有し、しかも極めC光強度が高
い合成ビームを得ることができる半導体レーザ光源装置
を提供することを目的とするものである。
(Object of the Invention) The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a semiconductor laser light source device that has a cross-sectional shape close to a perfect circle and can obtain a composite beam with extremely high C light intensity. The purpose is to provide the following.

(発明の構成) 本発明の半導体レーザ光源装置は、複数の半導体レーザ
から発せられた断面惰円状のレーザビームをコリメート
した土でビーム断面短軸が略一線にlidうように配列
して、断面の縦横の長さが略等しいビーム束として射出
する第1のビーム射出系と、これとli′i1様に形成
され上記ビーム束と略同じ断面形状のビーム束を射出す
る第2のビーム射出系と、t=tビームスプリッタとを
、第1のビーム射出系から射出されたビーム束はビーム
スプリッタの偏光膜を透過し、一方第2のビーム射出系
から射出されたど−ム束は上記偏光膜において反射する
ように配置して各ビーム射出系からのビーム束を合成す
るとともに、第1のビーム射出系からのビーム束と第2
のビーム射出系からのビーム束とを、上記偏光膜上にお
いてそれぞれのビーム配列方向が略直交し、かつそれぞ
れのビーム東中心が略重なり合うように偏光ビームスプ
リッタに入射させるようにしたことを特徴とするもので
ある。
(Structure of the Invention) The semiconductor laser light source device of the present invention comprises collimating laser beams emitted from a plurality of semiconductor lasers and having a circular cross section, and arranging the laser beams so that the short axes of the beam cross sections lie substantially in a straight line. A first beam emitting system that emits a beam bundle whose cross-sectional lengths are approximately equal in length and width, and a second beam emitting system that is formed in the same manner as li′i1 and emits a beam bundle that has approximately the same cross-sectional shape as the beam bundle. system and a t=t beam splitter, the beam beam emitted from the first beam exit system is transmitted through the polarizing film of the beam splitter, while the beam beam emitted from the second beam exit system is transmitted through the polarizing film of the beam splitter. The beams from each beam exiting system are combined by being arranged so as to be reflected by a polarizing film, and the beams from the first beam exiting system and the second beam exiting system are combined.
The beam bundle from the beam exit system is made to enter the polarizing beam splitter so that the respective beam arrangement directions are substantially perpendicular to each other on the polarizing film and the east centers of the respective beams substantially overlap. It is something to do.

(実施態様) 以下、図面に示す実施態様に基づいて本発明の詳細な説
明する。
(Embodiments) Hereinafter, the present invention will be described in detail based on embodiments shown in the drawings.

第1図は本発明の半導体レーザ光源装置の一実施態様を
示すものである。−例として3つの半導体レーザ20a
 、 20b 、 20cは互いにビーム射出軸を平行
に揃えて配置され、これらの半導体レーザ20a 、 
20b 、 20cのそれぞれに対してコリメータレン
ズ21a121b、21cと、反1if122a 、 
22b 。
FIG. 1 shows one embodiment of a semiconductor laser light source device of the present invention. - As an example, three semiconductor lasers 20a
, 20b, and 20c are arranged with their beam emission axes parallel to each other, and these semiconductor lasers 20a,
20b, 20c, collimator lenses 21a121b, 21c, anti-1if122a,
22b.

22cが設けられて、第1のビーム射出系25が形成さ
れている。各半導体レーザ20a、20b、20cから
射出されたレーザビーム23a 、23b、23Cは上
記コリメータレンズ21a、21b、21cによって平
行ビームとされ、これらの平行ビームは上記反射鏡22
a、22b、22cにおいて反射し、互いに密接するよ
うに間隔を狭めビーム束26となってP@光ビームを透
過し、S偏光ビームを反射する偏光膜40△を有する偏
光ビームスプリッタ40に入射する。
22c is provided to form a first beam exit system 25. The laser beams 23a, 23b, 23C emitted from the respective semiconductor lasers 20a, 20b, 20c are made into parallel beams by the collimator lenses 21a, 21b, 21c, and these parallel beams are turned into parallel beams by the reflecting mirror 22.
a, 22b, and 22c, the beams are narrowed so that they come close to each other, become a beam bundle 26, transmit the P@ light beam, and enter a polarizing beam splitter 40 having a polarizing film 40△ that reflects the S-polarized beam. .

ここで上記第1のビーム射出系25の各半導体レ−’、
F20a〜Gは、pn接合面が第1図においてX−y平
面と平行となるように配置されており、したがって各半
導体レー+f20a〜Cから射出されたレーザビーム2
3a〜Cは矢印A1で示すように、x−y平面と平行な
面内で直線偏光するものとなっている。偏光ビームスプ
リッタ40の偏光11Q40Aは、上記の向きに偏光(
P偏光)したレーザビーム23a〜Cを透過さけるよう
に配置されている。
Here, each semiconductor ray' of the first beam emitting system 25,
F20a-G are arranged so that the pn junction plane is parallel to the X-y plane in FIG.
3a to 3C are linearly polarized light in a plane parallel to the xy plane, as shown by arrow A1. The polarized light 11Q40A of the polarizing beam splitter 40 is polarized in the above direction (
P-polarized) laser beams 23a to 23C are disposed so as not to pass therethrough.

偏光ビームスプリッタ40に入射フるレーザビーム23
a”Cは周知の通り半導体レージ゛20a−cのpn接
合面に平行な方向と直角な方向とでそれぞれ光故角が冑
なり、ぞの断面形状は楕円状となっているが、本実施態
様においては上記断面の短軸と長軸との比が1:3稈度
のビーム23a〜C@射出する半導体レーザ20a〜C
が用いられている。
Laser beam 23 incident on polarizing beam splitter 40
As is well known, the optical loss angle of a"C increases in the direction parallel to and perpendicular to the pn junction surface of the semiconductor lasers 20a-c, and the cross-sectional shape thereof is elliptical, but in this implementation In an embodiment, the semiconductor lasers 20a to C emit beams 23a to C with a ratio of the short axis to the long axis of the cross section of 1:3.
is used.

そして偏光ビームスプリッタ40に入射するレーザビー
ム23a〜Cは、それぞれの短軸が略一線に揃うように
配列されているので、これらレーザビーム23a −C
からなるビーム束26の断面形状は、縦横の良さが略等
しいものとなっている。
The laser beams 23a to 23C incident on the polarizing beam splitter 40 are arranged so that their short axes are substantially aligned, so these laser beams 23a to 23C
The cross-sectional shape of the beam bundle 26 made up of the following is approximately equal in length and width.

一方上記第1のビーム射出系25とは別に、3つの半導
体レーザ30a 、 30b 、 30cが互いにビー
ム射出軸を平行に揃えて配置され、これらの半導体レー
ザ30a、30b、30Cのそれぞれに対してコリメー
’) し>731a 、 31b 、 31c ト、反
射1i32a。
On the other hand, apart from the first beam emitting system 25, three semiconductor lasers 30a, 30b, and 30c are arranged with their beam emitting axes parallel to each other, and a collimator is provided for each of these semiconductor lasers 30a, 30b, and 30C. ') 731a, 31b, 31c, reflection 1i32a.

32b、32cが設けられて、第2のビーム射出系35
が形成されている。上記半導体レーザ30a、30b1
30cから射出されたレーザビーム33a 、33b、
33Cはコリメータレンズ31a、31b、31cによ
って平行ビームとされ、これらの平行ビームは上記反射
鏡32a、32b、32cにおいて反射し、互いに密接
するように間隔を狭めビーム束36となって偏光ビーム
スプリッタ40に入射する。ここで第2のビーム射出系
35の半導体レーザ30a−cは、前記第1のビーム射
出系25の半導体レーザ20a〜Cと同様のものが使用
され、そして偏光ビームスプリッタ40に入射するレー
ザビーム33a−cも、それぞれの短軸が略一線に揃う
ように配列されているので、これらレーザビーム33a
〜Cからなるビーム束36の断面形状は、第1のビーム
射出系25からのビーム束26の断面形状と同じものと
なっている。
32b and 32c are provided, and the second beam injection system 35
is formed. The semiconductor lasers 30a, 30b1
Laser beams 33a, 33b, emitted from 30c,
The beams 33C are made into parallel beams by the collimator lenses 31a, 31b, and 31c, and these parallel beams are reflected by the reflecting mirrors 32a, 32b, and 32c, narrowed in distance so that they come close to each other, and become a beam bundle 36, which is sent to the polarizing beam splitter 40. incident on . Here, the semiconductor lasers 30 a - c of the second beam emitting system 35 are similar to the semiconductor lasers 20 a - C of the first beam emitting system 25 , and a laser beam 33 a that enters the polarizing beam splitter 40 is used. -c are also arranged so that their short axes are substantially aligned, so these laser beams 33a
The cross-sectional shape of the beam bundle 36 consisting of ~C is the same as the cross-sectional shape of the beam bundle 26 from the first beam injection system 25.

しかしここで偏光ビームスプリッタ40に入射するビー
ム束26においては、各レーザビーム238〜C′If
iy軸方向に配列されているのに対し、偏光ビームスプ
リッタ40に入射するビーム束36においては、上記y
軸に対して直角な2軸方向に並べられている。つまり半
導体レーザ30a〜Cは、pn接合面がy−z平面と平
行となるように配されており、偏光ビームスプリッタ4
0に入射するレーザビーム33a−cは矢印A2で示ず
ように、y−z平面と平行な面内で直線偏光するものと
なっている。
However, in the beam bundle 26 incident on the polarizing beam splitter 40, each of the laser beams 238 to C'If
In contrast, in the beam bundle 36 incident on the polarizing beam splitter 40, the y-axis direction is
They are arranged in two axes perpendicular to the axis. In other words, the semiconductor lasers 30a to 30C are arranged so that their pn junction surfaces are parallel to the yz plane, and the polarizing beam splitter 4
The laser beams 33a to 33c incident on the laser beam 33 are linearly polarized in a plane parallel to the yz plane, as shown by arrow A2.

偏光ビームスプリッタ40の偏光膜40Aは、このよう
に前記レーザビーム23a −cの偏光面に対して90
°回転した面内で偏光(S偏光)しているレーザビーム
33a −cを反射するので、偏光ビームスプリッタ4
0からは、これらレーザビーム338〜Cとからなるビ
ーム束36と、前記レーザビーム23a〜Cからなるビ
ーム束26が合成されてなる合成ビーム41が射出され
る。
In this way, the polarizing film 40A of the polarizing beam splitter 40 has an angle of 90° with respect to the polarization plane of the laser beams 23a to 23c.
The polarizing beam splitter 4 reflects the polarized (S-polarized) laser beams 33a-c within the rotated plane.
0, a beam bundle 36 made up of these laser beams 338-C and a combined beam 41 formed by combining the beam bundle 26 made up of the laser beams 23a-C are emitted.

そして第2図に示すように、ビーム束26とビーム束3
6とは、偏光ビームスプリッタ40の偏光414゜A上
おいて各ビーム束中心が車なり合うようにして該偏光ビ
ームスプリッタ40に入射されるようになっている。し
たがって上記合成ビーム41は、6本のレーザビーム2
3a〜c、33a〜Cが高密度に合成され、しかも縁部
の欠けが無く正円に近い断面形状を有するものとなって
いる。
As shown in FIG. 2, the beam bundle 26 and the beam bundle 3
6, the beams are incident on the polarizing beam splitter 40 in such a way that the centers of the respective beams coincide with each other on the polarized light 414°A of the polarizing beam splitter 40. Therefore, the combined beam 41 is composed of the six laser beams 2
3a to 3c and 33a to C are synthesized with high density, and has a cross-sectional shape close to a perfect circle without chipping at the edges.

この合成ご一ム41は例えば第1図において矢印B方向
に往復回動する光偏向器42により偏向され、偏向され
た合成ビーム41は共通の集束レンズ43に入射し、該
集束レンズ43により1つの合成ビームスポットSに集
中されるとともに、それぞれがこのスポットSにおいて
集束される。したがって上記スポットSが照射される位
置に被走査面44を配置すれば、該被走査面44は、6
木のレーザビーム23a〜c、33a〜Cが合成されて
極めて高エネルギーとなった走査ビームによって矢印C
方向に走査されるゆなa3通常上記被走査面44は平面
とされ、そのために集束レンズ43としてfθレンズが
用いられる。
This composite beam 41 is deflected, for example, by an optical deflector 42 that rotates back and forth in the direction of arrow B in FIG. The beams are concentrated into one combined beam spot S, and each beam is focused at this spot S. Therefore, if the surface to be scanned 44 is placed at a position where the spot S is irradiated, the surface to be scanned 44 will be 6
The tree laser beams 23a to 33a to 33a are combined into an extremely high-energy scanning beam to produce an arrow C.
Normally, the scanned surface 44 is a flat surface, and therefore an fθ lens is used as the focusing lens 43.

上記半導体レーザ光源袋口においては、前述の通り合成
ビーム41が、縁部の欠けが無く正円に近い断面形状を
有し、強度分布が略均−なものとなっているので、6本
のレーザビーム23a〜C133a〜Cのエネルギーが
有効に光走査に利用されるようになる。
In the bag opening of the semiconductor laser light source, as mentioned above, the combined beam 41 has a cross-sectional shape close to a perfect circle with no chipped edges, and the intensity distribution is approximately uniform, so that the six The energy of the laser beams 23a-C133a-C can be effectively used for optical scanning.

なお以上説明した実施態様においては、第1および第2
のビーム射出系25.35から、それぞれ同数でまた断
面形状も等しいレーザビーム23a−cおよび33a 
−cが射出されるようになっているが、例えば第3図に
示すように、第1のビーム射出系からのビーム束50と
第2のビーム射出系からのビーム束60とを、それぞれ
異なる本数、異なる断面形状のレーザビーム51a、5
1b、51cおよび61a161bから構成するように
してもよい。このようにしても、ビーム束50とビーム
束60のそれぞれの断面形状が、縦横の長さが略等しく
、そして互いに略等しいものとなっていれば、前述した
ような効果が得られる。
Note that in the embodiment described above, the first and second
Laser beams 23a-c and 33a, which are the same in number and have the same cross-sectional shape, are emitted from the beam exit system 25.35.
For example, as shown in FIG. Laser beams 51a, 5 with different numbers and different cross-sectional shapes
1b, 51c and 61a161b. Even in this case, as long as the cross-sectional shapes of the beam bundles 50 and 60 have substantially equal vertical and horizontal lengths and are substantially equal to each other, the effects described above can be obtained.

また第1および第2のビーム射出系から射出させるレー
ザビームの本数は、勿論以上説明した本数に限られるも
のではなく、2本以上であれば何本であってもよい。そ
してli数の半導体レーデから射出されたレーザビーム
をそのまま配列してビーム束とする場合には、配列する
ビーム本数はレーザビームの断面形状(短軸と長軸の比
)によって自ずと決まってしまうが、半導体レーザから
忰1出されたレーザビームをビーム整形器を用いてより
偏平となるように整形すれば、より多数のレーザビーム
によってビーム束を構成することができ、結局より多数
のレーザビームを高密度に合成できるようになる。
Further, the number of laser beams emitted from the first and second beam emitting systems is, of course, not limited to the number described above, and may be any number as long as it is two or more. When laser beams emitted from li number of semiconductor radars are arranged as they are to form a beam bundle, the number of arranged beams is naturally determined by the cross-sectional shape (ratio of short axis to long axis) of the laser beams. If the laser beam emitted from the semiconductor laser is shaped using a beam shaper to make it more flat, a beam bundle can be made up of a larger number of laser beams. It becomes possible to synthesize at high density.

(発明の効果) 以上詳細に説明した通り本発明の半導体レーザ光源装置
は、多数の半導体レーザから射出されたレーザビームを
IQ密度に合成して極めて高エネルギーのビームを得る
ことができるから、例えば前述したように高1ネルギー
の走査ビームが必要なりRAW材料への記録、あるいは
蓄積性螢光体シートからの放射線画像情報の読取り等に
も使用可能であり、既jホした半導体レーザの数々の特
長を活かして広範な分野に使用されうるちのとなる。
(Effects of the Invention) As explained in detail above, the semiconductor laser light source device of the present invention can combine laser beams emitted from a large number of semiconductor lasers to an IQ density to obtain an extremely high energy beam, for example. As mentioned above, a scanning beam with high energy is required, and it can be used for recording on RAW materials or reading radiation image information from stimulable phosphor sheets, and it can be used for a number of semiconductor lasers that have already been used. Taking advantage of its characteristics, it is used in a wide range of fields.

しかも本発明装置によれば、断面形状が正円に近く、強
度分布が略均−な合成ビームを得ることがぐさるので、
レーザじ−ムのエネルギーを光走査等のために極めて有
効に利用できるようになる。
Moreover, according to the device of the present invention, it is possible to obtain a composite beam with a cross-sectional shape close to a perfect circle and an approximately uniform intensity distribution.
The energy of the laser beam can be used extremely effectively for optical scanning and the like.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の半導体レーザ光源装置の一実IIl!
l態はを示す斜視図、 第2図は上記実施態様装δにおけるレーザビームの合成
の様子を示!1′概略図、 第3図は本発明装置によるレーザビームの合成のイ1方
の別の例を示す概略図、 第4図は従来装置におけるレーザビームの合成の仕方の
一例を示す概略図である。 20a 、20b 、20c 、30a 、30b、3
0c・・・半導体レーザ 21a、21b、21c 、 31a 、 31b 、
 31c・・・]リメータレンズ 23a、23b、23c、33a、33b、33c。 5+a 、 51b 、 51c 、61a 、 61
b・・・レーザビーム 25・・・第1のビーム射出系 26.36.50.60・・・ビーム束35・・・第2
のビーム射出系 40・・・偏光ビームスプリッタ  40A・・・偏光
膜41・・・合成ビーム 第101 第2図 第3図 0A 第4図 ユ
FIG. 1 shows an example of the semiconductor laser light source device of the present invention IIl!
Figure 2 is a perspective view showing the 1 mode, and Figure 2 is a perspective view showing how the laser beams are combined in the above embodiment system δ. Fig. 3 is a schematic diagram showing another example of laser beam synthesis by the device of the present invention, and Fig. 4 is a schematic diagram showing an example of how laser beams are synthesized by the conventional device. be. 20a, 20b, 20c, 30a, 30b, 3
0c... Semiconductor lasers 21a, 21b, 21c, 31a, 31b,
31c...] remeter lenses 23a, 23b, 23c, 33a, 33b, 33c. 5+a, 51b, 51c, 61a, 61
b...Laser beam 25...First beam injection system 26.36.50.60...Beam bundle 35...Second
Beam emission system 40...Polarizing beam splitter 40A...Polarizing film 41...Combined beam 101 Fig. 2 Fig. 3 0A Fig. 4 Unit

Claims (1)

【特許請求の範囲】 複数の半導体レーザから発せられた断面惰円状のレーザ
ビームをコリメートした上でビーム断面短軸が略一線に
揃うように配列して、断面の縦横の長さが略等しいビー
ム束として射出する第1のビーム射出系と、 この第1のビーム射出系から射出されたビーム束を透過
するように配された偏光膜を有する偏光ビームスプリッ
タと、 複数の半導体レーザから発せられた断面惰円状のレーザ
ビームをコリメートした上でビーム断面短軸が略一線に
揃うように配列して、前記ビーム束と略同じ断面形状の
ビーム束として射出し、このビーム束が前記偏光ビーム
スプリッタの前記偏光膜において反射して前記第1のビ
ーム射出系からのビーム束と合成されるように配された
第2のビーム射出系とからなり、 前記第1のビーム射出系からのビーム束と前記第2のビ
ーム射出系からのビーム束とが、前記偏光膜上において
それぞれのビーム配列方向が略直交し、かつそれぞれの
ビーム束中心が略重なり合うように前記偏光ビームスプ
リッタに入射されるようになっていることを特徴とする
半導体レーザ光源装置。
[Claims] Laser beams emitted from a plurality of semiconductor lasers with circular cross-sections are collimated and arranged so that the short axes of the beam cross-sections are aligned substantially in a line, so that the vertical and horizontal lengths of the cross-sections are approximately equal. a first beam emitting system that emits a beam as a beam; a polarizing beam splitter having a polarizing film arranged to transmit the beam emitted from the first beam emitting system; A laser beam having a circular cross-section is collimated, and then arranged so that the short axes of the beam cross-section are aligned substantially in a line, and emitted as a beam bundle having approximately the same cross-sectional shape as the beam bundle, and this beam bundle becomes the polarized beam. a second beam emitting system arranged so as to be reflected by the polarizing film of the splitter and combined with the beam beam from the first beam emitting system, the beam emitting from the first beam emitting system; and the beam flux from the second beam exit system are incident on the polarizing beam splitter such that their respective beam arrangement directions are substantially perpendicular to each other on the polarizing film, and their respective beam flux centers substantially overlap. A semiconductor laser light source device characterized by:
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