JPH0256236A - 真空容器 - Google Patents
真空容器Info
- Publication number
- JPH0256236A JPH0256236A JP20534188A JP20534188A JPH0256236A JP H0256236 A JPH0256236 A JP H0256236A JP 20534188 A JP20534188 A JP 20534188A JP 20534188 A JP20534188 A JP 20534188A JP H0256236 A JPH0256236 A JP H0256236A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ring
- vacuum container
- shielding plate
- groove
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J3/00—Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
- B01J3/03—Pressure vessels, or vacuum vessels, having closure members or seals specially adapted therefor
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Gasket Seals (AREA)
- Pressure Vessels And Lids Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は真空容器に関し、特に真空容器内部でプラズマ
を発生するなど反応性の強い雰囲気となり、0リングの
劣化が早くリークが発生しやすい真空容器に関する。
を発生するなど反応性の強い雰囲気となり、0リングの
劣化が早くリークが発生しやすい真空容器に関する。
従来、この種の真空容器は、気密用にOリングが使用さ
れている。0リングは、真空容器本体の溝に固定し、上
面より平滑な平面をもつ真空容器の蓋にて、Oリングを
押え、気密を保つ構造となっていた。
れている。0リングは、真空容器本体の溝に固定し、上
面より平滑な平面をもつ真空容器の蓋にて、Oリングを
押え、気密を保つ構造となっていた。
上述した従来の真空容器は、0リングを平面で押える構
造であるため、真空容器本体と蓋との間に間隙を生じる
。従って、真空容器内がプラズマ等反応性の強い雰囲気
となると、この間隙を通り反応物が0リングを劣化させ
短期間で気密保持んできなくなるという欠点がある。
造であるため、真空容器本体と蓋との間に間隙を生じる
。従って、真空容器内がプラズマ等反応性の強い雰囲気
となると、この間隙を通り反応物が0リングを劣化させ
短期間で気密保持んできなくなるという欠点がある。
本発明の目的は、真空容器内が反応性の強い雰囲気とな
っても真空容器本体と蓋との間の間隙を通して反応物が
Oリングを劣化させ、気密保持が出来なくなることのな
い真空容器を提供することにある。
っても真空容器本体と蓋との間の間隙を通して反応物が
Oリングを劣化させ、気密保持が出来なくなることのな
い真空容器を提供することにある。
本発明の真空容器は、気密用0リングが固定された部位
より内側に帯状の遮蔽板を有している。
より内側に帯状の遮蔽板を有している。
本発明によれば、真空容器内で発生させるプラズマ等反
応性の強い雰囲気が遮蔽板に遮蔽されるのでOリングの
劣化を防止することができ、長期間確実に真空状態を保
持できる。
応性の強い雰囲気が遮蔽板に遮蔽されるのでOリングの
劣化を防止することができ、長期間確実に真空状態を保
持できる。
次に、本丸明について図面を参照して説明する。第1図
は本発明の一実施例の縦断面図である。
は本発明の一実施例の縦断面図である。
第1図に示すように、真空容器本体1の周辺部にはOリ
ング2用溝と遮蔽板3用の溝が加工されている。一方、
真空容器用蓋4には遮蔽板が取付いており、真空容器本
体の遮蔽板用蓋と真空容器用蓋の遮蔽板を合わせ、○リ
ング溝にOリングを付けて組み込む構造となっている。
ング2用溝と遮蔽板3用の溝が加工されている。一方、
真空容器用蓋4には遮蔽板が取付いており、真空容器本
体の遮蔽板用蓋と真空容器用蓋の遮蔽板を合わせ、○リ
ング溝にOリングを付けて組み込む構造となっている。
第2図は本発明の他の実施例の縦断面図である。第2図
に示す構成は第1の実施例とほぼ同様で遮蔽板が真空容
器用上蓋より分離された構造となっている。
に示す構成は第1の実施例とほぼ同様で遮蔽板が真空容
器用上蓋より分離された構造となっている。
この実施例では、遮蔽板が分離できるため、劣化した場
合遮蔽板のみ交換できる利点がる。
合遮蔽板のみ交換できる利点がる。
以上説明したように本発明は、0リングの真空側に遮蔽
板を有する事により、気密用0リングを真空室内の反応
性雰囲気より保護でき、真空容器を長期間気密保持でき
る効果がある。
板を有する事により、気密用0リングを真空室内の反応
性雰囲気より保護でき、真空容器を長期間気密保持でき
る効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の縦断面図、第2図は本発明
の他の実施例の縦断面図、第3図は従来の真空容器の縦
断面図である。 1・・・真空容器本体、2・・・真空容器上蓋、3・・
・Oリング、4・・・遮蔽板。
の他の実施例の縦断面図、第3図は従来の真空容器の縦
断面図である。 1・・・真空容器本体、2・・・真空容器上蓋、3・・
・Oリング、4・・・遮蔽板。
Claims (1)
- Oリングシールを有する真空容器において、Oリング取
付け部位より内側に帯状の遮蔽板を有することを特徴と
する真空容器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63205341A JP2776514B2 (ja) | 1988-08-17 | 1988-08-17 | 真空容器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63205341A JP2776514B2 (ja) | 1988-08-17 | 1988-08-17 | 真空容器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0256236A true JPH0256236A (ja) | 1990-02-26 |
JP2776514B2 JP2776514B2 (ja) | 1998-07-16 |
Family
ID=16505295
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63205341A Expired - Lifetime JP2776514B2 (ja) | 1988-08-17 | 1988-08-17 | 真空容器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2776514B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04349099A (ja) * | 1991-02-20 | 1992-12-03 | Nec Corp | 放射冷却器 |
JP2019211196A (ja) * | 2018-06-08 | 2019-12-12 | 日本電産サンキョー株式会社 | ダンパ装置 |
-
1988
- 1988-08-17 JP JP63205341A patent/JP2776514B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04349099A (ja) * | 1991-02-20 | 1992-12-03 | Nec Corp | 放射冷却器 |
JP2019211196A (ja) * | 2018-06-08 | 2019-12-12 | 日本電産サンキョー株式会社 | ダンパ装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2776514B2 (ja) | 1998-07-16 |
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