JPH0253231B2 - - Google Patents

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JPH0253231B2
JPH0253231B2 JP56022395A JP2239581A JPH0253231B2 JP H0253231 B2 JPH0253231 B2 JP H0253231B2 JP 56022395 A JP56022395 A JP 56022395A JP 2239581 A JP2239581 A JP 2239581A JP H0253231 B2 JPH0253231 B2 JP H0253231B2
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JP
Japan
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glaze layer
thermal head
wafer
glaze
thermal
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JP56022395A
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Japanese (ja)
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JPS57137172A (en
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Katsuaki Saida
Yukio Motoyoshi
Kiichi Teraide
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Seiko Instruments Inc
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Seiko Instruments Inc
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Publication date
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Publication of JPH0253231B2 publication Critical patent/JPH0253231B2/ja
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/315Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material
    • B41J2/32Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads
    • B41J2/345Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads characterised by the arrangement of resistors or conductors

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  • Electronic Switches (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、シリアルサーマルヘツドの製法に関
し、特に、耐摩耗性のすぐれたサーマルヘツドを
一枚のウエハーから複数個取り出すためのシリア
ルサーマルヘツドの製法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for manufacturing a serial thermal head, and more particularly to a method for manufacturing a serial thermal head for extracting a plurality of thermal heads with excellent wear resistance from a single wafer.

まず、第1〜3図に基づき、従来のシリアルサ
ーマルヘツドの製法について説明する。
First, a conventional method for manufacturing a serial thermal head will be explained based on FIGS. 1 to 3.

第1図から明らかなように、一枚のウエハー1
上にはサーマルヘツドが互いに対向するように配
設され、グレーズ層6の上面部に発熱体5が形成
されており、このグレーズ層6を形成する場合は
第2図に示される開口部12を有するスクリーン
マスク11を用いてウエハー1にグレーズ層用の
ガラスペイントを印刷し、その後に熱処理を行う
と開口部12に対応したグレーズ層6が形成され
る。これに、発熱体5、電極4を形成し、第3図
に示した開口部14を有するマスク13でウエハ
ーを覆い保護膜をその形成領域3に形成する。こ
の場合、このグレーズ層は第1図に示されるよう
に2個分のサーマルヘツドチツプにおける各グレ
ーズ層6が一体となつて形成されることになり、
最終的には第1図のA−A線で切断して2個のサ
ーマルヘツドチツプが出来上がる。このように、
一枚のウエハー1には多数のサーマルヘツドチツ
プ2が同時に形成されているため、A−A線の切
断によつて多数のサーマルヘツドチツプ2が同時
に得られるものである。
As is clear from Fig. 1, one wafer 1
Thermal heads are disposed above so as to face each other, and a heating element 5 is formed on the upper surface of the glaze layer 6. When forming the glaze layer 6, an opening 12 shown in FIG. Glass paint for a glaze layer is printed on the wafer 1 using the screen mask 11, and then heat treatment is performed to form a glaze layer 6 corresponding to the openings 12. A heating element 5 and an electrode 4 are formed on this, and the wafer is covered with a mask 13 having an opening 14 shown in FIG. 3, and a protective film is formed in the formation area 3. In this case, this glaze layer is formed by integrating each glaze layer 6 in two thermal head chips as shown in FIG.
Finally, two thermal head chips are completed by cutting along line A--A in FIG. in this way,
Since a large number of thermal head chips 2 are formed on one wafer 1 at the same time, a large number of thermal head chips 2 can be obtained simultaneously by cutting along the A--A line.

従来におけるサーマルヘツドチツプ2は以上の
ような製法によつて作られるため、このウエハー
をA−A線において切断すると、各サーマルヘツ
ドチツプのグレーズ層6の一端は、第4図におい
て示されるようにその端部7には直角の角部7a
およびグレーズ層6のチツピングによる凹凸部8
が形成される。
Since the conventional thermal head chips 2 are manufactured by the manufacturing method described above, when this wafer is cut along the line A-A, one end of the glaze layer 6 of each thermal head chip will be cut as shown in FIG. Its end 7 has a right-angled corner 7a.
and uneven portions 8 due to chipping of the glaze layer 6
is formed.

第5図は、このようにして製造されたサーマル
ヘツドがシリアルサーマルプリンタに組み込まれ
た使用例を示すもので、第6図a,bはそのとき
のサーマルヘツドの正面図および側面図である。
FIG. 5 shows an example in which the thermal head thus manufactured is incorporated into a serial thermal printer, and FIGS. 6a and 6b are a front view and a side view of the thermal head at that time.

この種シリアルサーマルプリンタは、基板16
上にグレーズ層6、発熱体5等が形成されたサー
マルヘツド15が、感熱紙17を介してプラテン
18に圧接されて配置され、発熱体5に電力を供
給して発熱させて感熱紙17上を摺動しながらそ
の感熱紙17に所望の情報を記録している。
This kind of serial thermal printer has a board 16
A thermal head 15, on which a glaze layer 6, a heating element 5, etc. are formed, is placed in pressure contact with a platen 18 through a thermal paper 17. Power is supplied to the heating element 5 to generate heat, and the thermal head 15 is placed on the thermal paper 17. While sliding the thermal paper 17, desired information is recorded on the thermal paper 17.

したがつて、従来の製法により作られたサーマ
ルヘツドのグレーズ層6には、その端部に凹凸部
8が形成されているので、サーマルヘツドが感熱
紙上を摺動する場合、紙がサーマルヘツドの角部
7aで損傷したり、紙かすが出たりしてサーマル
ヘツド自体の寿命を著しく縮めるという欠点を有
する。
Therefore, since the glaze layer 6 of the thermal head made by the conventional manufacturing method has uneven parts 8 formed at its edges, when the thermal head slides on the thermal paper, the paper will not touch the surface of the thermal head. This has the disadvantage that the thermal head itself may be damaged or paper waste may be generated at the corner 7a, significantly shortening the life of the thermal head itself.

本発明は、以上のような欠点のないサーマルヘ
ツドの製法を提供することを目的としている。
The object of the present invention is to provide a method for manufacturing a thermal head that does not have the above-mentioned drawbacks.

以下、図面を用いて本発明によるシリアルサー
マルヘツドの製法について説明する。
Hereinafter, a method for manufacturing a serial thermal head according to the present invention will be explained with reference to the drawings.

第7〜10図は、本発明によるシリアルサーマ
ルヘツドの製法の1実施例である。
7 to 10 show one embodiment of a method for manufacturing a serial thermal head according to the present invention.

第7図に示すように、一枚のウエハー1に複数
のサーマルヘツドチツプ2を互いに対向させて配
列形成する。6はグレーズ層、3はサーマルヘツ
ドチツプ表面の帯状の領域に形成された保護膜形
成領域、4は保護膜で被覆されていないリード電
極、5は発熱体であり、以下に説明する工程を経
て形成される。
As shown in FIG. 7, a plurality of thermal head chips 2 are arrayed on one wafer 1 so as to face each other. Reference numeral 6 indicates a glaze layer, 3 indicates a protective film forming area formed in a band-shaped area on the surface of the thermal head chip, 4 indicates a lead electrode not covered with a protective film, and 5 indicates a heating element. It is formed.

まず、ウエハー1の上面に、第8図に示す細長
い開口部20,21を複数有するスクリーンマス
ク19を用いてガラスペイントを印刷し焼成して
複数のグレーズ層6を得る。
First, glass paint is printed on the upper surface of the wafer 1 using a screen mask 19 having a plurality of elongated openings 20 and 21 shown in FIG. 8, and then baked to obtain a plurality of glaze layers 6.

このとき、第8図のスクリーンマスク19の対
向する開口部20,21の間には、マスキングさ
れガラスペイントが印刷できない部分22があつ
て、この部分が第7図におけるウエハーの分割部
Cに合うように位置合わせをする。
At this time, between the opposing openings 20 and 21 of the screen mask 19 in FIG. 8, there is a masked part 22 where glass paint cannot be printed, and this part matches the divided part C of the wafer in FIG. Align as shown.

つぎに、発熱体5や、電極4を形成した後、第
3図に示すような開口部14を有するマスク13
を上記ウエハー上にセツトして、五酸化タンタル
や二酸化硅素からなる5〜8μの厚さをもつ保護
膜を、第7図の保護膜形成領域3に形成する。そ
の後、第7図のB,Cの線に沿つてウエハーを分
割して、シリアルサーマルヘツドを得る。
Next, after forming the heating element 5 and the electrode 4, a mask 13 having an opening 14 as shown in FIG.
is set on the wafer, and a protective film having a thickness of 5 to 8 microns made of tantalum pentoxide or silicon dioxide is formed in the protective film forming region 3 of FIG. Thereafter, the wafer is divided along lines B and C in FIG. 7 to obtain serial thermal heads.

上述の工程によつて得られるシリアルサーマル
ヘツドは、グレーズ層6を各サーマルヘツドチツ
プにおいて独立したパターンで印刷焼成し、この
グレーズ層から僅かに離れた箇所Cでウエハーの
分割を行うため、分割して得られたサーマルヘツ
ドのグレーズ層は、少なくともこれの稜線部にお
いて鋭利な部分を持たない。
The serial thermal head obtained by the above process is divided by printing and firing the glaze layer 6 in an independent pattern on each thermal head chip, and dividing the wafer at a point C slightly away from the glaze layer. The glaze layer of the thermal head obtained by this method does not have sharp portions at least in its ridgeline portions.

第9図、第10a,bは本発明の製法によるシ
リアルサーマルヘツドの完成状態を示し、基板1
6上には短手方向の断面が円弧状の細長い形状の
凸状のグレーズ層6が形成され、このグレーズの
上面の長手方向稜線9に沿つて発熱体5が複数形
成されている。上記基板16の一端には、外部に
接続するための複数のリード電極4が形成され、
図面には示していないが、上記各発熱体5と上記
リード電極4とは互いに接続されている。上記グ
レーズ層6の長手方向の端部7は、第9図の斜視
図、第10図bの断面図に示すように、グレーズ
層の焼成溶融によつて表面が滑らかでしかも上記
グレーズ層の稜線9から基板の表面に向かつてな
だらかな勾配を持つている面が形成され、従つ
て、第10図bに示す感熱紙17には、上記グレ
ーズ層6の滑らかで連続した表面となる稜線部周
辺が接する構成である。
9, 10a and 10b show the completed state of the serial thermal head according to the manufacturing method of the present invention, in which the substrate 1
A convex glaze layer 6 having an elongated shape with an arcuate cross section in the transverse direction is formed on the glaze layer 6, and a plurality of heating elements 5 are formed along the longitudinal ridge line 9 of the upper surface of this glaze. A plurality of lead electrodes 4 for connection to the outside are formed at one end of the substrate 16,
Although not shown in the drawings, each heating element 5 and the lead electrode 4 are connected to each other. As shown in the perspective view of FIG. 9 and the cross-sectional view of FIG. 10b, the longitudinal end portion 7 of the glaze layer 6 has a smooth surface due to firing and melting of the glaze layer, and also has a smooth surface along the ridge line of the glaze layer. A surface having a gentle slope from 9 to the surface of the substrate is formed, and therefore, the thermal paper 17 shown in FIG. This is a configuration in which the two sides touch each other.

上記グレーズ層の端部7の表面が曲面を形成し
ていることが、本発明により得られるサーマルヘ
ツドの最大の特徴であり、第10図bにおいて、
感熱紙17にサーマルヘツド15を接触させ、摺
動させて印字動作をさせたとき、グレーズ層に従
来のような鋭利な部分が感熱紙との摺動面にない
ため、感熱紙17が削られてしまうことがなく、
安定した摺動を行うことができる。
The greatest feature of the thermal head obtained by the present invention is that the surface of the end portion 7 of the glaze layer forms a curved surface.
When the thermal head 15 is brought into contact with the thermal paper 17 and slid to perform a printing operation, the thermal paper 17 is scraped because the glaze layer does not have sharp parts on the sliding surface with the thermal paper unlike in the past. You won't have to worry about it.
Stable sliding can be performed.

上記実施例では、グレーズ層から僅かに離れた
箇所Cでウエハーの分割を行つているが、グレー
ズ層の稜線9から基板に向かつてなだらかな勾配
を持つている面でウエハーを分割しても上記実施
例と同様な効果が得られる。
In the above embodiment, the wafer is divided at a point C that is slightly away from the glaze layer, but even if the wafer is divided at a plane that has a gentle slope from the ridge 9 of the glaze layer toward the substrate, the same result will occur. Effects similar to those of the embodiment can be obtained.

第11図a,b、第12図は、さらに別の実施
例を示す。23は、ウエハー1の主面に設けられ
た適度な傾斜面を持つV字型の溝であつて、グレ
ーズ層6はこの溝23をまたいで互いに対向した
2つのサーマルヘツドチツプ2の間で連なつて形
成されており、以下に説明する工程を経て形成さ
れる。
FIGS. 11a and 11b and FIG. 12 show yet another embodiment. Reference numeral 23 denotes a V-shaped groove with a moderately inclined surface provided on the main surface of the wafer 1, and the glaze layer 6 straddles this groove 23 and is connected between the two thermal head chips 2 facing each other. It is formed in a vertical pattern and is formed through the steps described below.

まず、第7図に示す分割部B,Cに対応する部
位に溝23を形成した後、第8図のスクリーンマ
スク19をガラスペイントが印刷されない部分2
2を分割部Cに対応する溝23に合わせて、ガラ
スペイントを印刷し、焼成して、複数のグレーズ
層6を得る。
First, after forming the grooves 23 in the parts corresponding to the divided parts B and C shown in FIG. 7, the screen mask 19 shown in FIG.
2 to the grooves 23 corresponding to the divided portions C, glass paint is printed and fired to obtain a plurality of glaze layers 6.

このような溝23をまたいで印刷、焼成された
グレーズ層6は、第11図bにその断面図を示す
ように、上記溝23において、この溝のくぼみと
グレーズの焼成溶融時の溝への流れ込みによつ
て、グレーズ層表面の上記溝23におけるくぼみ
kをもたらす。
The glaze layer 6 printed and fired across such a groove 23 has a groove in the groove 23 and a groove where the glaze is melted by firing, as shown in a cross-sectional view in FIG. 11b. The flow results in depressions k in the grooves 23 on the surface of the glaze layer.

つぎに、第7図に示す実施例と同様にして、発
熱体5、リード電極4、保護膜を形成する。その
後、溝23に沿つてウエハーを分割してシリアル
サーマルヘツドを得る。
Next, the heating element 5, lead electrode 4, and protective film are formed in the same manner as in the embodiment shown in FIG. Thereafter, the wafer is divided along the grooves 23 to obtain serial thermal heads.

したがつて、上記第11図aのウエハー1を溝
23において分割して得られたシリアルサーマル
ヘツドは、第12図にその断面図を示すように、
基板端部における分割面Xは、感熱紙17との接
触部分から離れ、少なくともグレーズ層表面の感
熱紙との接触部分近傍は滑らかな曲面となる。
Therefore, the serial thermal head obtained by dividing the wafer 1 shown in FIG. 11a above at the groove 23 has the following cross-sectional views as shown in FIG.
The dividing plane X at the end of the substrate is away from the contact portion with the thermal paper 17, and becomes a smooth curved surface at least near the contact portion with the thermal paper on the surface of the glaze layer.

以上のように形成された本発明によるシリアル
サーマルヘツドは、細長いグレーズ層の長手方向
の端部表面が、滑なかな曲面となつているため、
サーマルヘツドが感熱紙とさまざまな方向に摺動
しながら印字動作をするシリアルサーマルプリン
タにおいても、感熱紙表面の削り取りが起こら
ず、長時間の印字動作により生じる紙カスの量
は、第13図に示すように従来の鋭利な端部を持
つグレーズ層のサーマルヘツドの場合に比べ、き
わめて少ない。それによつて、第14図、第15
図、第16図に示すように、サーマルヘツドの表
面におけるキズや摩耗量、プリンタの紙粉による
異常発生率も従来のものに比べて大幅に改善でき
る。
In the serial thermal head according to the present invention formed as described above, the longitudinal end surface of the elongated glaze layer has a smooth curved surface.
Even in serial thermal printers, where the thermal head prints while sliding in various directions against the thermal paper, the surface of the thermal paper is not scraped off, and the amount of paper waste generated during long printing operations is shown in Figure 13. As shown, this is much less than in the case of a conventional thermal head with a glazed layer having sharp edges. Accordingly, Figures 14 and 15
As shown in FIG. 16, the amount of scratches and abrasion on the surface of the thermal head, as well as the rate of occurrence of abnormalities due to paper dust in the printer, can be significantly improved compared to conventional printers.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、ウエハーから多数個のサーマルヘツ
ドを取る場合の従来の例を示す一部平面図、第2
図は、第1図におけるグレーズ印刷に用いるスク
リーンマスクを示す平面図、第3図は、第1図に
おける保護膜形成用マスクを示す一部平面図、第
4図は、第1図の方法により得られたサーマルヘ
ツドの斜視図、第5図は、シリアルサーマルプリ
ンタの一般的構成を一部切り欠いて示した斜視
図、第6図aは、第5図におけるサーマルヘツド
の正面図、第6図bは、第5図における側面図、
第7図は、本発明によるウエハー上のサーマルヘ
ツドチツプの配置を示す平面図、第8図は、第7
図においてグレーズ層印刷に用いるスクリーンマ
スクを示す平面図、第9図は、本発明により得ら
れるサーマルヘツドの斜視図、第10図aは、第
9図のサーマルヘツドの正面図、第10図bは、
第9図のサーマルヘツドと感熱紙との関係を示す
側面図、第11図a,bは、本発明の他の実施例
によるウエハー上のサーマルヘツドチツプの配置
を示す平面図および側面図、第12図は、第11
図の方法により得られたサーマルヘツドチツプと
感熱紙との関係を示す側面図、第13図、第14
図、第15図、第16図は、従来のサーマルヘツ
ドと本発明により得られたサーマルヘツドとの性
能の比較例で、それぞれヘツドの摺動距離に対す
る感熱紙の削りカス量、ヘツド表面のキズ量、ヘ
ツドの摩耗量およびプリンタの異常発生率を示す
図である。 1……ウエハー、2……サーマルヘツドチツ
プ、3……保護膜形成領域、4……リード電極、
5……発熱体、6……グレーズ層、7……長手方
向の端部、8……凹凸部、9……稜線、11……
スクリーンマスク、12……開口部、13……マ
スク、14……開口部、15……サーマルヘツ
ド、16……基板、17……感熱紙、18……プ
ラテン、19……スクリーンマスク、20,21
……開口部、22……印刷できない部分、23…
…V字型の溝。
Figure 1 is a partial plan view showing a conventional example of removing a large number of thermal heads from a wafer;
The figure is a plan view showing the screen mask used for glaze printing in Fig. 1, Fig. 3 is a partial plan view showing the protective film forming mask in Fig. 1, and Fig. 4 is a plan view showing the screen mask used for glaze printing in Fig. 1. FIG. 5 is a partially cutaway perspective view of the general configuration of a serial thermal printer, FIG. 6a is a front view of the thermal head in FIG. 5, and FIG. Figure b is a side view in Figure 5;
FIG. 7 is a plan view showing the arrangement of thermal head chips on a wafer according to the present invention, and FIG.
9 is a perspective view of a thermal head obtained by the present invention, FIG. 10a is a front view of the thermal head of FIG. 9, and FIG. 10b is a plan view showing a screen mask used for printing a glaze layer. teeth,
FIG. 9 is a side view showing the relationship between the thermal head and thermal paper; FIGS. Figure 12 shows the 11th
Figures 13 and 14 are side views showing the relationship between the thermal head chip and thermal paper obtained by the method shown in the figure.
15 and 16 show comparative examples of the performance of a conventional thermal head and a thermal head obtained according to the present invention. FIG. 4 is a diagram showing the amount of head wear, the amount of head wear, and the abnormality occurrence rate of the printer. 1... Wafer, 2... Thermal head chip, 3... Protective film formation area, 4... Lead electrode,
5... Heating element, 6... Glaze layer, 7... Longitudinal end, 8... Uneven portion, 9... Ridge line, 11...
Screen mask, 12... Opening, 13... Mask, 14... Opening, 15... Thermal head, 16... Substrate, 17... Thermal paper, 18... Platen, 19... Screen mask, 20, 21
...Aperture, 22...Part that cannot be printed, 23...
...V-shaped groove.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 少なくとも、グレーズ層と、発熱体と、該発
熱体に電力を供給する電極を有するシリアルサー
マルヘツドを製造する方法において、一枚のウエ
ハー上に、前記個々のシリアルサーマルヘツドを
構成する細長いグレース層を間〓をもつて相対し
て複数印刷し、前記グレーズ層の稜線(凸部の最
も高い部分)方向の両端部を焼成溶融によつて該
稜線からウエハーの表面に向かつて滑らかな傾斜
面を形成し、前記グレーズ層の稜線の表面に沿つ
て複数個の発熱体を形成し、前記発熱体に電力を
供給する電極を形成し、更に、前記ウエハーをグ
レーズ層の長手方向稜線となるグレーズ層の傾斜
面、もしくは、前記傾斜面の外側で分割するとと
もに隣接するサーマルヘツドとの境界線で分割す
ることによつて、一枚のウエハーから複数のサー
マルヘツドを得ることを特徴とするシリアルサー
マルヘツドの製法。 2 前記ウエハー上に、予めシリアルサーマルヘ
ツドを分割するV字型の溝部を形成し、前記グレ
ーズ層を前記溝部を挟んで間〓をもつて相対して
複数印刷することを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載のシリアルサーマルヘツドの製法。
[Scope of Claims] 1. A method for manufacturing a serial thermal head having at least a glaze layer, a heating element, and an electrode for supplying power to the heating element, wherein the individual serial thermal heads are manufactured on one wafer. A plurality of elongated glaze layers constituting the glaze layer are printed facing each other with a gap between each other, and both ends of the glaze layer in the direction of the ridge line (the highest part of the convex portion) are fired and melted to extend from the ridge line toward the surface of the wafer. Once a smooth inclined surface is formed, a plurality of heating elements are formed along the surface of the ridge of the glaze layer, an electrode for supplying power to the heating element is formed, and the wafer is moved along the longitudinal direction of the glaze layer. A plurality of thermal heads can be obtained from a single wafer by dividing the glaze layer at the inclined surface of the glaze layer, which serves as a directional ridgeline, or by dividing it at the outside of the inclined surface and at the boundary line between adjacent thermal heads. Characteristic serial thermal head manufacturing method. 2. A V-shaped groove that divides the serial thermal head is formed in advance on the wafer, and a plurality of the glaze layers are printed facing each other with a gap between the grooves. A method for manufacturing a serial thermal head according to scope 1.
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