JPH0246045Y2 - - Google Patents
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Description
【考案の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この考案は、半導体ウエハに塗布されたフオト
レジスト(以下レジストという)の処理の場合に
用いる紫外線照射器等を含む光照射器に係り、特
にレジストの耐熱性、耐プラズマ性を高めること
を目的とした光照射器に関するものである。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] This invention relates to a light irradiator including an ultraviolet irradiator used for processing photoresist (hereinafter referred to as "resist") applied to a semiconductor wafer. This invention relates to a light irradiator intended to improve the heat resistance and plasma resistance of resist.
[従来の技術]
光照射器の一例としてレジスト処理に用いる紫
外線照射器について以下に述べる。[Prior Art] As an example of a light irradiator, an ultraviolet irradiator used for resist processing will be described below.
従来の紫外線照射によるレジストの処理につい
ては、半導体ウエハに塗布されたレジストにマス
クパターンを露光する処理、レジスト表面に付着
した有機汚染物を分解洗浄する予備洗浄処理等に
おいて、紫外線照射が利用されているが、最近、
レジスト処理工程のひとつであるベーキング工程
への適用が注目されている。 Regarding conventional processing of resist using ultraviolet irradiation, ultraviolet irradiation is used in processes such as exposing mask patterns on resist coated on semiconductor wafers, and pre-cleaning processes to decompose and clean organic contaminants attached to the resist surface. However, recently,
Application to the baking process, which is one of the resist processing processes, is attracting attention.
ベーキング工程とは、レジスト塗布、露光、現
像によるレジストパターンを形成する工程とこの
レジストパターンを用いてイオン注入やプラズマ
エツチングなどを行う工程との中間の工程であつ
て、レジストの半導体基板への接着性や耐熱性の
向上などを目的とした加熱工程である。そして最
近では、現像後のベーキング工程の前、あるいは
ベーキング時にレジストに紫外線を当てて、より
短時間にベーキング時の耐熱性や耐プラズマエツ
チング性を高める方法及び装置についての検討が
なされている。 The baking process is an intermediate process between the process of forming a resist pattern by resist coating, exposure, and development, and the process of performing ion implantation, plasma etching, etc. using this resist pattern, and is used to bond the resist to the semiconductor substrate. This is a heating process aimed at improving properties and heat resistance. Recently, studies have been conducted on methods and apparatuses for increasing the heat resistance and plasma etching resistance during baking in a shorter time by irradiating the resist with ultraviolet rays before or during the baking process after development.
第2図は従来の紫外線照射器の要部構成を示す
断面図で、1はランプ、2はこのランプ1の背後
に配置されたミラー、3′は内部にランプ1を冷
却するためのブロワ3を有する風洞、4は光透過
板、5は処理台、6はこの処理台5にウエハを搬
送するための出入口である。 FIG. 2 is a sectional view showing the main parts of a conventional ultraviolet irradiator. 1 is a lamp, 2 is a mirror placed behind the lamp 1, and 3' is a blower 3 for cooling the lamp 1. 4 is a light transmitting plate, 5 is a processing table, and 6 is an entrance/exit for transporting wafers to the processing table 5.
第2図の装置において、出入口6からウエハ搬
送ラインに沿つて処理台5に搬送されたレジスト
を塗布されたウエハをランプ1からの紫外線照射
によつてレジスト処理する。 In the apparatus shown in FIG. 2, a wafer coated with a resist, which is transferred from an entrance/exit 6 to a processing table 5 along a wafer transfer line, is subjected to a resist treatment by irradiating ultraviolet rays from a lamp 1.
[考案が解決しようとする問題点]
従来の紫外線照射器においては、処理の高速化
のために紫外線強度の大きな光をレジストに照射
すると、レジスト内部よりガスが発生し、このガ
スによつて気泡の発生、レジストパターンのくず
れ、レジスト膜のはがれや破裂、荒れなどのレジ
スト膜の破壊が発生し、半導体素子不良の原因と
なつていた。[Problems that the invention aims to solve] In conventional ultraviolet irradiators, when a resist is irradiated with high-intensity ultraviolet light to speed up processing, gas is generated from inside the resist, and this gas creates bubbles. This has led to damage to the resist film, such as occurrence of cracks, deformation of the resist pattern, and peeling, rupture, and roughness of the resist film, resulting in failure of semiconductor devices.
このガスの発生原因の一つとしては、レジスト
の露光感光基の急激な光化学反応、レジスト塗布
の前処理としてウエハに塗布したHMDS(ヘキサ
メチルジシラザン)や反射防止剤などとレジスト
との光化学反応、色素などのレジスト添加剤の光
化学反応、レジスト内に残留する溶剤の光化学反
応などが考えられる。 One of the causes of this gas generation is the rapid photochemical reaction of exposed photosensitive groups in the resist, and the photochemical reaction between the resist and HMDS (hexamethyldisilazane) or antireflective agent applied to the wafer as a pretreatment for resist coating. Possible causes include photochemical reactions of resist additives such as dyes, and photochemical reactions of solvents remaining in the resist.
これらの光化学反応は、波長が300nm〜500nm
の範囲の光、特にレジストの露光感光波長の光に
よつて著しく進行し、従つて、これらの波長域を
含む光を放射するレジスト処理装置では、光の強
度を強くできない。すなわち、高速な処理が行え
ないという問題点があつた。 These photochemical reactions have wavelengths of 300nm to 500nm.
Therefore, in a resist processing apparatus that emits light including these wavelength ranges, the intensity of the light cannot be increased. In other words, there was a problem that high-speed processing could not be performed.
本考案は、かかる問題点に鑑みて、光照射器よ
りの放射光によるレジストの破壊を防止すること
により、紫外線照射によるレジストの処理を高速
かつ効果的に行うことのできる光照射器を提供す
ることを目的とするものである。 In view of these problems, the present invention provides a light irradiator that can process resists by ultraviolet irradiation at high speed and effectively by preventing the resist from being destroyed by the radiation emitted from the light irradiator. The purpose is to
[問題点を解決するための手段]
この目的を達成するために、この考案では、シ
ヤツターとこのシヤツターを駆動するシヤツター
駆動機構と、このシヤツターの前方もしくは後方
に配置したフイルタと、このフイルタの駆動機構
とを設けたものである。[Means for solving the problem] In order to achieve this object, this invention includes a shutter, a shutter drive mechanism for driving the shutter, a filter disposed in front or behind the shutter, and a drive mechanism for the filter. It is equipped with a mechanism.
[作用]
この考案においては、シヤツターとフイルタを
併用することにより、例えばレジスト処理に使用
した場合、例えばレジストの露光感光破長が効果
的に遮断ないしは減少されることにより、レジス
トよりガスを発生させる光化学反応が制御され、
レジストの破壊が防止される。しかも、その場合
レジストの露光感光破長を遮断ないし減少させて
も照射される光にはレジストの耐熱性や耐プラズ
マエツチング性の向上に有効な紫外線成分は依然
として強力に含まれているので高速かつ効果的な
レジスト処理ができる。[Function] In this invention, by using a shutter and a filter in combination, when used for resist processing, for example, the exposure breakage of the resist is effectively blocked or reduced, so that gas is generated from the resist. photochemical reactions are controlled,
Destruction of the resist is prevented. Moreover, in this case, even if the photosensitive cracking of the resist is blocked or reduced, the irradiated light still contains a strong ultraviolet component that is effective in improving the resist's heat resistance and plasma etching resistance, so it can be used at high speeds and etching. Effective resist processing is possible.
[実施例]
第1図はこの考案の一実施例を示す光照射器の
要部構成を示す断面図で、同図イは正面図、同図
ロは側面図である。[Embodiment] FIG. 1 is a cross-sectional view showing the main structure of a light irradiator according to an embodiment of this invention, in which A is a front view and B is a side view.
第1図イ,ロにおいて、10a,10bはそれ
ぞれ左右に2分割されたシヤツター、11は不図
示のリバーシブルモータを内蔵したシヤツター駆
動器機構で、2分割されたシヤツター10a,1
0bを1つのモータで駆動させている。12はフ
イルタで、13はシヤツター駆動機構と同様の構
成を有するフイルタ駆動機構で不図示のリバーシ
ブルモータを内蔵している。14a,14bはそ
れぞれ前記2分割されたシヤツター10a,10
bを支持するフレームで、このフレーム14a,
14bの上部を各々金具16a,16bで懸吊
し、この金具16a,16bを、シヤツター駆動
機構11のモータに駆動されるプーリ18a,1
8b,18c,18dに巻付けたステンレス製の
ワイヤ(ベルト)20の上下に固定している。同
様に15はフイルタ12を支持するフレームで、
このフレーム15の上部を金具17で懸吊し、こ
の金具17をフイルタ駆動機構13のモータに駆
動されるプーリ19a,19bに巻付けたワイヤ
21に固定している。22は2分割されたシヤツ
ター10a,10bのフレーム14a,14bが
開閉駆動されるときに移動するガイドレールであ
り、23はフイルタ12のフレーム15が移動す
るガイドレールである。また、第2図と同一符号
は同一又は相当部分を示す。 In FIGS. 1A and 1B, 10a and 10b are shutters divided into left and right halves, and 11 is a shutter drive mechanism incorporating a reversible motor (not shown).
0b is driven by one motor. Reference numeral 12 designates a filter, and reference numeral 13 designates a filter drive mechanism having the same configuration as the shutter drive mechanism, which incorporates a reversible motor (not shown). 14a and 14b are the two divided shutters 10a and 10, respectively.
This frame 14a,
14b is suspended by metal fittings 16a, 16b, respectively, and these metal fittings 16a, 16b are connected to pulleys 18a, 1 driven by the motor of the shutter drive mechanism 11.
It is fixed above and below a stainless steel wire (belt) 20 that is wrapped around 8b, 18c, and 18d. Similarly, 15 is a frame that supports the filter 12;
The upper part of the frame 15 is suspended by a metal fitting 17, and the metal fitting 17 is fixed to a wire 21 wound around pulleys 19a and 19b driven by a motor of the filter drive mechanism 13. 22 is a guide rail that moves when the frames 14a and 14b of the shutters 10a and 10b, which are divided into two, is driven to open and close, and 23 is a guide rail that moves the frame 15 of the filter 12. Further, the same reference numerals as in FIG. 2 indicate the same or corresponding parts.
上記のような構成において、シヤツター10
a,10bを開く時はプーリ18a〜18dが反
時計方向に回転し、ワイヤ20の上下に固定され
たフレーム14a,14bはそれぞれ外方に向け
てガイドレール22上を移動する。また、シヤツ
ター10a,10bを閉じる時はプーリ18a〜
18dが時計方向に回転し、2分割されたシヤツ
ター10a,10bはそれぞれガイドレール22
上を内方に移動する。 In the above configuration, the shutter 10
When opening a and 10b, the pulleys 18a to 18d rotate counterclockwise, and the frames 14a and 14b fixed above and below the wire 20 move outward on the guide rail 22, respectively. Also, when closing the shutters 10a and 10b, pulleys 18a to
The shutter 18d rotates clockwise, and the two divided shutters 10a and 10b each have a guide rail 22.
Move the top inward.
同様にして、フイルタ12を不使用(開)時は
プーリ19a,19bは反時計方向に回転し、ワ
イヤ21に金具17を介して固定されたフレーム
15はガイドレール23上を図面右方向へ移動す
る。また、反対にフイルタ12を使用(閉)時は
プーリ19a,19bを時計方向に回転し、フレ
ーム15を図面左方向へ移動させる。 Similarly, when the filter 12 is not in use (open), the pulleys 19a and 19b rotate counterclockwise, and the frame 15, which is fixed to the wire 21 via the metal fitting 17, moves on the guide rail 23 to the right in the drawing. do. Conversely, when the filter 12 is used (closed), the pulleys 19a and 19b are rotated clockwise to move the frame 15 to the left in the drawing.
上記の実施例では、シヤツター10a,10b
とフイルタ12が各々独立に移動するものとして
説明したが、シヤツターとフイルタが相互に関連
して移動するように信号を制御することができる
のは勿論である。 In the above embodiment, the shutters 10a, 10b
Although the description has been made assuming that the shutter and filter 12 move independently, it is of course possible to control signals so that the shutter and filter move in relation to each other.
尚、前記実施例は、光照射器の一具体例として
の紫外線照射器について述べたが、この考案は紫
外線照射器に限らず、光照射によつて処理もしく
は加工する光照射器全てに適用できることはいう
までもない。 In addition, although the above embodiment described an ultraviolet irradiator as a specific example of a light irradiator, this invention is not limited to ultraviolet irradiators, but can be applied to all light irradiators that process or process by light irradiation. Needless to say.
[考案の効果]
この考案は以上説明したとおり、背後にミラー
を配置した少くとも1つのランプと、このランプ
の前方に配置したシヤツターと、このシヤツター
を制御信号によつて駆動するシヤツター駆動機構
と、前記シヤツターの前方もしくは後方に配置し
たフイルタと、このフイルタを制御信号によつて
駆動するフイルタ駆動機構と、前記ランプを冷却
するためのブロワとによつて構成される光照射器
であるから、高速かつ効果的なレジスト処理が可
能になつた。[Effects of the invention] As explained above, this invention includes at least one lamp with a mirror placed behind it, a shutter placed in front of the lamp, and a shutter drive mechanism that drives the shutter using a control signal. , the light irradiator is composed of a filter disposed in front or behind the shutter, a filter drive mechanism that drives the filter in accordance with a control signal, and a blower for cooling the lamp. Fast and effective resist processing has become possible.
第1図はこの考案の一実施例を示す光照射器の
要部構成を示す断面図、第2図は従来の紫外線照
射器の要部構成を示す断面図である。
図中、1:ランプ、2:ミラー、3:ブロワ、
4:光透過板、10a,10b:シヤツター、1
1:シヤツター駆動機構、12:フイルタ、1
3:フイルタ駆動機構。
FIG. 1 is a sectional view showing the main part of a light irradiator according to an embodiment of this invention, and FIG. 2 is a sectional view showing the main part of a conventional ultraviolet irradiator. In the figure, 1: lamp, 2: mirror, 3: blower,
4: Light transmission plate, 10a, 10b: Shutter, 1
1: Shutter drive mechanism, 12: Filter, 1
3: Filter drive mechanism.
Claims (1)
のランプと、このランプの前方に配置され、フ
レームにより懸吊されて前記ランプの長手方向
に直線移動するシヤツターと、このシヤツター
を制御信号によつて駆動するシヤツター駆動機
構と、前記シヤツターの前方もしくは後方に配
置され、フレームにより懸吊されて前記ランプ
の長手方向に直線移動するフイルタと、このフ
イルタを制御信号によつて駆動するフイルタ駆
動機構と、前記ランプを冷却するためのブロワ
とによつて構成される光照射器であつて、この
光照射器は、その前面に取付けた光透過板と他
の側面とによつて、後部に設けた空気流通用の
入出口以外を気密に構成されたことを特徴とす
る光照射器。 (2) シヤツター駆動機構とフイルタ駆動機構は制
御信号によつて各々独立に駆動することを特徴
とする実用新案登録請求の範囲第(1)項記載の光
照射器。 (3) シヤツター駆動機構とフイルタ駆動器機構は
相互に関連して駆動することができることを特
徴とする実用新案登録請求の範囲第(1)項記載の
光照射器。[Claims for Utility Model Registration] (1) At least one rod-shaped lamp with a mirror placed behind it, and a shutter placed in front of this lamp, suspended by a frame, and moving linearly in the longitudinal direction of the lamp. a shutter drive mechanism that drives the shutter in response to a control signal; a filter that is disposed in front or behind the shutter and is suspended by a frame and moves linearly in the longitudinal direction of the lamp; and a filter that drives the shutter in response to a control signal. A light irradiator is composed of a filter drive mechanism driven by a filter, and a blower for cooling the lamp. A light irradiator characterized by having an airtight structure other than an inlet/outlet for air circulation provided at the rear. (2) The light irradiator according to claim 1, wherein the shutter drive mechanism and the filter drive mechanism are each independently driven by a control signal. (3) The light irradiator according to claim 1, wherein the shutter drive mechanism and the filter drive mechanism can be driven in relation to each other.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1986133759U JPH0246045Y2 (en) | 1986-09-02 | 1986-09-02 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1986133759U JPH0246045Y2 (en) | 1986-09-02 | 1986-09-02 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPS6339934U JPS6339934U (en) | 1988-03-15 |
JPH0246045Y2 true JPH0246045Y2 (en) | 1990-12-05 |
Family
ID=31034366
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1986133759U Expired JPH0246045Y2 (en) | 1986-09-02 | 1986-09-02 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0246045Y2 (en) |
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1986
- 1986-09-02 JP JP1986133759U patent/JPH0246045Y2/ja not_active Expired
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6339934U (en) | 1988-03-15 |
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