JPH0241168Y2 - - Google Patents
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- JPH0241168Y2 JPH0241168Y2 JP7272483U JP7272483U JPH0241168Y2 JP H0241168 Y2 JPH0241168 Y2 JP H0241168Y2 JP 7272483 U JP7272483 U JP 7272483U JP 7272483 U JP7272483 U JP 7272483U JP H0241168 Y2 JPH0241168 Y2 JP H0241168Y2
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- Japan
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- grit
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- Expired
Links
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本案は高周波電源側と負荷側の整合状態を検出
する手段を備えたプラズマ発生装置に関する。
する手段を備えたプラズマ発生装置に関する。
最近、プラズマを利用してスパツタリングやエ
ツチングやプレーテイング等を行なう装置が脚光
を浴びている。第1図はこの様なプラズマ発生装
置の一例として示した高周波イオンプレーテイン
グ装置の概略図である。1は排気室で、該排気室
内の適宜な位置に、基板2、蒸発源3、高周波コ
イル状電極4が夫々配置される。前記基板2には
直流電源5から負の直流電圧が印加され、前記蒸
発源3をなすボードには加熱用交流電源6から加
熱用交流電力が印加される。又、前記高周波コイ
ル状電極4には高周波電源側と負荷側のインピー
ダンスの整合を取る為の整合回路7を介して高周
波電源8から高周波電力が印加される。この様な
装置において、先ず排気装置9により排気室1内
を10-5Torr程度に排気し、続いて、ガス供給装
置10から、例えばアルゴンガスを排気室1内に
導入し、排気室1内を10-3Torr程度にする。こ
の状態で高周波電極4に高周波電源8から高周波
電力を印加すると、該電極の近傍にプラズマが発
生する。そして、加熱用交流電源6からボードに
加熱用電力を印加し、蒸発材を蒸発させると、蒸
発粒子は前記プラズマ中でイオン化し、基板2に
膜を形成する。
ツチングやプレーテイング等を行なう装置が脚光
を浴びている。第1図はこの様なプラズマ発生装
置の一例として示した高周波イオンプレーテイン
グ装置の概略図である。1は排気室で、該排気室
内の適宜な位置に、基板2、蒸発源3、高周波コ
イル状電極4が夫々配置される。前記基板2には
直流電源5から負の直流電圧が印加され、前記蒸
発源3をなすボードには加熱用交流電源6から加
熱用交流電力が印加される。又、前記高周波コイ
ル状電極4には高周波電源側と負荷側のインピー
ダンスの整合を取る為の整合回路7を介して高周
波電源8から高周波電力が印加される。この様な
装置において、先ず排気装置9により排気室1内
を10-5Torr程度に排気し、続いて、ガス供給装
置10から、例えばアルゴンガスを排気室1内に
導入し、排気室1内を10-3Torr程度にする。こ
の状態で高周波電極4に高周波電源8から高周波
電力を印加すると、該電極の近傍にプラズマが発
生する。そして、加熱用交流電源6からボードに
加熱用電力を印加し、蒸発材を蒸発させると、蒸
発粒子は前記プラズマ中でイオン化し、基板2に
膜を形成する。
さて、斯くの如きプラズマ発生装置において
は、負荷側での変化(例、圧力、ガスの量や種
類、蒸発材の種類や蒸発量)に応じて、前記整合
回路7によつて高周波電源側と負荷側の整合が取
られているが、負荷側において比較的大きな変化
があつた場合には整合を取るのは難しく、不整合
の程度が大きいと、前記高周波電源側の損失が大
きく真空管発振機が破壊されたり、又、前記負荷
に掛る高周波電力も大きく変化するので、プラズ
マ状態も大きく変化し、前記基板2上の成膜状態
が劣化する。
は、負荷側での変化(例、圧力、ガスの量や種
類、蒸発材の種類や蒸発量)に応じて、前記整合
回路7によつて高周波電源側と負荷側の整合が取
られているが、負荷側において比較的大きな変化
があつた場合には整合を取るのは難しく、不整合
の程度が大きいと、前記高周波電源側の損失が大
きく真空管発振機が破壊されたり、又、前記負荷
に掛る高周波電力も大きく変化するので、プラズ
マ状態も大きく変化し、前記基板2上の成膜状態
が劣化する。
本考案はこの様な点を解決することを目的とし
たものである。
たものである。
本考案は、排気室内に高周波電極を配置し、真
空管発振機からの高周波電力を整合回路を介して
該電極に印加することにより該排気室内にプラズ
マを発生出来る様になした装置において、前記真
空管発信機に流れるプレート電流及び若しくはグ
リツト電流を検出する手段、該プレート電流及び
若しくはグリツト電流が基準値以上流れたとき、
前記発信機のプレート電源をオフさせる信号を発
生する手段を設けたプラズマ発生装置を提供する
ものである。
空管発振機からの高周波電力を整合回路を介して
該電極に印加することにより該排気室内にプラズ
マを発生出来る様になした装置において、前記真
空管発信機に流れるプレート電流及び若しくはグ
リツト電流を検出する手段、該プレート電流及び
若しくはグリツト電流が基準値以上流れたとき、
前記発信機のプレート電源をオフさせる信号を発
生する手段を設けたプラズマ発生装置を提供する
ものである。
第2図は本考案の一実施例を示した高周波イオ
ンプレーテイング装置の概略図である。図中第1
図にて用いた番号及び記号と同一番号及び記号を
付したものは同一構成要素を示す。図中11は真
空管発信機で、三極電子管12、プレート電源1
3、グリツド電源14、フイラメント加熱電源1
5、励振電源16、直流カツト用コンデンサ17
及び共振回路18から成る。19はプレート電流
検出回路で、該回路で検出された真空管に流れる
プレート電流は比較回路20に送られる。該比較
回路には予め基準値が設定されており検出された
プレート電流値を基準値と比較し、基準値より小
さい時、特に信号を発しないが、大きい時、信号
を発生して制御回路21へ送る。22はグリツト
電流検出回路で、該回路で検出されたグリツト電
流は比較回路23に送られる。該比較回路も前記
比較回路20と同様な働きをする。前記比較回路
19及び23に設定される基準値は、次の様にし
て決められる。即ち、高周波電源側と負荷側の整
合がとれないと、高周波電源と負荷の間の反射電
力が増加することにより、真空管発振器11のプ
レート電源13とグリツト電源14に反射電力が
入り込み、プレート電流とグリツト電流は増加す
る。そして、この不整合の程度があるレベルを越
えると、前記した高周波電源側の損失が増大した
り、基板上成膜状態が悪化する。そこで、このレ
ベルにある時のプレート電流値とグリツト電流値
を基準値として設定する。前記制御回路21は信
号が入ると、前記プレート電源13と表示装置に
信号を送り、前記プレート電源をオフの状態に
し、前記表示装置24に警報を発生させる。尚、
警報の代りに光の点滅をさせる用にしてもよい。
ンプレーテイング装置の概略図である。図中第1
図にて用いた番号及び記号と同一番号及び記号を
付したものは同一構成要素を示す。図中11は真
空管発信機で、三極電子管12、プレート電源1
3、グリツド電源14、フイラメント加熱電源1
5、励振電源16、直流カツト用コンデンサ17
及び共振回路18から成る。19はプレート電流
検出回路で、該回路で検出された真空管に流れる
プレート電流は比較回路20に送られる。該比較
回路には予め基準値が設定されており検出された
プレート電流値を基準値と比較し、基準値より小
さい時、特に信号を発しないが、大きい時、信号
を発生して制御回路21へ送る。22はグリツト
電流検出回路で、該回路で検出されたグリツト電
流は比較回路23に送られる。該比較回路も前記
比較回路20と同様な働きをする。前記比較回路
19及び23に設定される基準値は、次の様にし
て決められる。即ち、高周波電源側と負荷側の整
合がとれないと、高周波電源と負荷の間の反射電
力が増加することにより、真空管発振器11のプ
レート電源13とグリツト電源14に反射電力が
入り込み、プレート電流とグリツト電流は増加す
る。そして、この不整合の程度があるレベルを越
えると、前記した高周波電源側の損失が増大した
り、基板上成膜状態が悪化する。そこで、このレ
ベルにある時のプレート電流値とグリツト電流値
を基準値として設定する。前記制御回路21は信
号が入ると、前記プレート電源13と表示装置に
信号を送り、前記プレート電源をオフの状態に
し、前記表示装置24に警報を発生させる。尚、
警報の代りに光の点滅をさせる用にしてもよい。
斯くの如き装置において、排気装置9により排
気室1内を10-5Torr程度に排気し、次にガス供
給装置10からアルゴンガスを入れて、
10-3Torr程度にする。この状態で、高周波電極
4に真空管発信機11から高周波電力を印加する
と該電極の近傍にプラズマが発生する。そして、
加熱用交流電源6からボードに加熱用電力を印加
し、蒸発材を蒸発させると、蒸発粒子は前記プラ
ズマ中でイオン化し、基板2に膜を形成する。こ
の時、プレート電流検出回路19及びグリツト電
流検出回路22は夫々、真空管12に流れるプレ
ート電流、グリツト電流を検出して夫々を比較回
路20,23へ送る。該各比較回路は該プレート
電流、グリツト電流を、基準値と比較し、該プレ
ート電流が基準値より大きい場合、又は、グリツ
ト電流が基準値より大きい場合、制御回路21に
信号を送るので、該制御回路は前記プレート電源
13をオフの状態にし、同時に前記表示装置24
に警報を発生させる。
気室1内を10-5Torr程度に排気し、次にガス供
給装置10からアルゴンガスを入れて、
10-3Torr程度にする。この状態で、高周波電極
4に真空管発信機11から高周波電力を印加する
と該電極の近傍にプラズマが発生する。そして、
加熱用交流電源6からボードに加熱用電力を印加
し、蒸発材を蒸発させると、蒸発粒子は前記プラ
ズマ中でイオン化し、基板2に膜を形成する。こ
の時、プレート電流検出回路19及びグリツト電
流検出回路22は夫々、真空管12に流れるプレ
ート電流、グリツト電流を検出して夫々を比較回
路20,23へ送る。該各比較回路は該プレート
電流、グリツト電流を、基準値と比較し、該プレ
ート電流が基準値より大きい場合、又は、グリツ
ト電流が基準値より大きい場合、制御回路21に
信号を送るので、該制御回路は前記プレート電源
13をオフの状態にし、同時に前記表示装置24
に警報を発生させる。
本考案によれば、高周波電源側の損失の増大や
基板上の成膜状態の劣化を最小に押えることが出
来る。
基板上の成膜状態の劣化を最小に押えることが出
来る。
第1図はプラズマ発生装置の一例として示した
高周波イオンプレーテイング装置の概略図、第2
図は本考案の一実施例を示した高周波イオンプレ
ーテイング装置の概略図である。 1:排気室、4:高周波電極、7:整合回路、
8:高周波電源、11:真空管発信機、13:プ
レート電源、19:プレート電流検出回路、2
0:比較回路、21:制御回路、22:グリツト
電流、検出回路、23:比較回路、24:表示装
置。
高周波イオンプレーテイング装置の概略図、第2
図は本考案の一実施例を示した高周波イオンプレ
ーテイング装置の概略図である。 1:排気室、4:高周波電極、7:整合回路、
8:高周波電源、11:真空管発信機、13:プ
レート電源、19:プレート電流検出回路、2
0:比較回路、21:制御回路、22:グリツト
電流、検出回路、23:比較回路、24:表示装
置。
Claims (1)
- 排気室内に高周波電極を配置し、真空管発振機
からの高周波電力を整合回路を介して該電極に印
加することにより該排気室内にプラズマを発生出
来る様になした装置において、前記真空管発振機
に流れるプレート電流及びもしくはグリツト電流
を検出する手段、該プレート電流及びもしくはグ
リツト電流が基準値以上流れたとき、前記発信機
のプレート電源をオフさせる信号を発生する手段
を設けたプラズマ発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7272483U JPS59178898U (ja) | 1983-05-16 | 1983-05-16 | プラズマ発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7272483U JPS59178898U (ja) | 1983-05-16 | 1983-05-16 | プラズマ発生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59178898U JPS59178898U (ja) | 1984-11-29 |
JPH0241168Y2 true JPH0241168Y2 (ja) | 1990-11-01 |
Family
ID=30202858
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7272483U Granted JPS59178898U (ja) | 1983-05-16 | 1983-05-16 | プラズマ発生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59178898U (ja) |
-
1983
- 1983-05-16 JP JP7272483U patent/JPS59178898U/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS59178898U (ja) | 1984-11-29 |
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