JPH0238349B2 - - Google Patents
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- JPH0238349B2 JPH0238349B2 JP55142510A JP14251080A JPH0238349B2 JP H0238349 B2 JPH0238349 B2 JP H0238349B2 JP 55142510 A JP55142510 A JP 55142510A JP 14251080 A JP14251080 A JP 14251080A JP H0238349 B2 JPH0238349 B2 JP H0238349B2
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- Japan
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- polishing
- discharge
- liquid
- polishing liquid
- discharge gutter
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 59
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Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、複数種類の研摩液または研摩液と
水とを用いるポリツシング、ラツピング装置のよ
うな研摩装置の研摩液切換装置の改良に関するも
のである。
水とを用いるポリツシング、ラツピング装置のよ
うな研摩装置の研摩液切換装置の改良に関するも
のである。
研摩装置においてポリツシングを行う場合に、
研摩材の粒径を変えずに、研摩材を混入した研摩
液をPHの低いものと高いものとに分けて１台の装
置で使用する場合があり、また、ポリツシングの
１サイクルで、研摩液を用いてポリツシングした
後、純水を供給することがある。このような研摩
装置では、複数種類の研摩液が使用されている
が、近年半導体ウエハー、ガラス等のラツピング
やポリツシングにおいて、本来高価なこれら研摩
液を循環再使用することにより製造コストを低く
押える目的から、さまざまな切換方式が試みられ
一例として、この循環をさせるために、研摩液の
種類と同数のタンクおよびポンプと排水管とが必
要であつた。そして従来は、第１図に例示するよ
うな、複数の研摩液を使用する研摩装置では排出
研摩液受部材１の底に複数の排出管２，３および
排水管４を開口させ、これらに電磁弁５，６，７
を設け、前記排出管２，３は第１、第２研摩液タ
ンク８，９に連通させ、前記電磁弁５，６，７の
うち使用する研摩液と対応するものだけを開き、
順次他の電磁弁を切換えて開くことにより、他の
研摩液や純水を研摩装置に供給している。なお、
第１図１０は研摩液タンク８に設けた研摩液循環
用のポンプである。しかし、前述のように構成し
た従来のものは、ステンレスなどからなる耐蝕性
の電磁弁を使用しなければならず、これらが高価
である上に、電磁弁の摺動面に研摩材が介在する
ために、電磁弁のシール面などが摩耗して電磁弁
が短時間で破損し、研摩液の洩れを生じ易く、コ
ストおよび寿命の点で問題があつた。また、電磁
弁５，６，７が排出研摩液受部材１の底よりも下
方に設けられるために、排出管２，３の電磁弁
５，６と前記受部材１の底との間に研摩液や水が
残留して、他の研摩液に混入することにより、研
摩液の濃度などが変わつてしまうという問題もあ
つた。
研摩材の粒径を変えずに、研摩材を混入した研摩
液をPHの低いものと高いものとに分けて１台の装
置で使用する場合があり、また、ポリツシングの
１サイクルで、研摩液を用いてポリツシングした
後、純水を供給することがある。このような研摩
装置では、複数種類の研摩液が使用されている
が、近年半導体ウエハー、ガラス等のラツピング
やポリツシングにおいて、本来高価なこれら研摩
液を循環再使用することにより製造コストを低く
押える目的から、さまざまな切換方式が試みられ
一例として、この循環をさせるために、研摩液の
種類と同数のタンクおよびポンプと排水管とが必
要であつた。そして従来は、第１図に例示するよ
うな、複数の研摩液を使用する研摩装置では排出
研摩液受部材１の底に複数の排出管２，３および
排水管４を開口させ、これらに電磁弁５，６，７
を設け、前記排出管２，３は第１、第２研摩液タ
ンク８，９に連通させ、前記電磁弁５，６，７の
うち使用する研摩液と対応するものだけを開き、
順次他の電磁弁を切換えて開くことにより、他の
研摩液や純水を研摩装置に供給している。なお、
第１図１０は研摩液タンク８に設けた研摩液循環
用のポンプである。しかし、前述のように構成し
た従来のものは、ステンレスなどからなる耐蝕性
の電磁弁を使用しなければならず、これらが高価
である上に、電磁弁の摺動面に研摩材が介在する
ために、電磁弁のシール面などが摩耗して電磁弁
が短時間で破損し、研摩液の洩れを生じ易く、コ
ストおよび寿命の点で問題があつた。また、電磁
弁５，６，７が排出研摩液受部材１の底よりも下
方に設けられるために、排出管２，３の電磁弁
５，６と前記受部材１の底との間に研摩液や水が
残留して、他の研摩液に混入することにより、研
摩液の濃度などが変わつてしまうという問題もあ
つた。
この発明は、研摩装置の排出研摩液受部材に１
つの排出口を設け、この排出口から複数の排液受
体に排出樋の旋回によつて研摩液や水を切換えて
排出させることにより、前述した従来の問題を解
決し、コストが安くしかも研摩液などが洩れるよ
うなことがなく長期間にわたり安定して使用で
き、さらに研摩液の混合の恐れも少ない研摩液切
換装置を提供することを目的とするものである。
つの排出口を設け、この排出口から複数の排液受
体に排出樋の旋回によつて研摩液や水を切換えて
排出させることにより、前述した従来の問題を解
決し、コストが安くしかも研摩液などが洩れるよ
うなことがなく長期間にわたり安定して使用で
き、さらに研摩液の混合の恐れも少ない研摩液切
換装置を提供することを目的とするものである。
以下、この発明の一実施例につき第２図から第
４図までを参照して説明する。
４図までを参照して説明する。
第２図に示すように、研摩装置１１は、水平に
回転する下定盤１２およびインターナルギヤ１
３、太陽ギヤ１４と、昇降可能な上定盤１５とを
有し、被加工物１６を嵌めたキヤリア１７をイン
ターナルギヤ１３および太陽ギヤ１４に噛み合わ
せると共に上、下定盤１５，１２間に介在させ、
これらで被加工物１６を挾んで、下定盤１２、イ
ンターナルギヤ１３、太陽ギヤ１４を回転させる
ことにより、前記キヤリア１７を自転および公転
させ、被加工物１６の上、下両面にポリツシン
グ、ラツピングなどの研摩を行うものである。そ
して、研摩作業中に、研摩材を混入した研摩液を
被加工物１６の研摩面に図示しないポンプで供給
するものであり、前記研摩液がインターナルギヤ
１３のインターナルギヤハウジング１８の底に設
けた穴１８ａから前記インターナルギヤハウジン
グ１８の外周側および下側を包むように図示しな
い装置枠に固定した平面環状の排出研摩液受部材
１９に導かれるようになつている。
回転する下定盤１２およびインターナルギヤ１
３、太陽ギヤ１４と、昇降可能な上定盤１５とを
有し、被加工物１６を嵌めたキヤリア１７をイン
ターナルギヤ１３および太陽ギヤ１４に噛み合わ
せると共に上、下定盤１５，１２間に介在させ、
これらで被加工物１６を挾んで、下定盤１２、イ
ンターナルギヤ１３、太陽ギヤ１４を回転させる
ことにより、前記キヤリア１７を自転および公転
させ、被加工物１６の上、下両面にポリツシン
グ、ラツピングなどの研摩を行うものである。そ
して、研摩作業中に、研摩材を混入した研摩液を
被加工物１６の研摩面に図示しないポンプで供給
するものであり、前記研摩液がインターナルギヤ
１３のインターナルギヤハウジング１８の底に設
けた穴１８ａから前記インターナルギヤハウジン
グ１８の外周側および下側を包むように図示しな
い装置枠に固定した平面環状の排出研摩液受部材
１９に導かれるようになつている。
第２図、第３図に示すように、排出研摩液受部
材１９の底の最低部に排出口２０が開口され、前
記受部材１９の底から排出口２０の周壁２０ａが
下方に突出されている。排出口２０の周壁２０ａ
の外周側には、パイプからなる排出樋２１の垂直
な一端部２１ａが前記周壁２０ａを中心として旋
回可能に嵌合されている。排出樋２１は前記受部
材１９の外周側下方に延び、排出樋２１の他端開
口部２１ｂの旋回軌跡に沿つて、この軌跡の下方
には漏斗状をした複数の排液受体２２，２３，２
４が配設され、排液受体２２，２３は第１、第２
研摩液タンク２５，２６と連通され、排液受体２
４は排水装置２７と連通されている。
材１９の底の最低部に排出口２０が開口され、前
記受部材１９の底から排出口２０の周壁２０ａが
下方に突出されている。排出口２０の周壁２０ａ
の外周側には、パイプからなる排出樋２１の垂直
な一端部２１ａが前記周壁２０ａを中心として旋
回可能に嵌合されている。排出樋２１は前記受部
材１９の外周側下方に延び、排出樋２１の他端開
口部２１ｂの旋回軌跡に沿つて、この軌跡の下方
には漏斗状をした複数の排液受体２２，２３，２
４が配設され、排液受体２２，２３は第１、第２
研摩液タンク２５，２６と連通され、排液受体２
４は排水装置２７と連通されている。
また、排出樋２１は連結アーム２８を介して駆
動手段３７に連結されている。すなわち、駆動手
段３７は、第４図ａ，ｂ，ｃにも示すように、前
記排液受部材１９の下面に水平に回動可能に第１
シリンダ２９が連結され、第１シリンダ２９に嵌
挿されたピストンロツド３０の先端部に第２シリ
ンダ３１が固定されている。第２シリンダ３１に
嵌挿されたピストンロツド３２の先端部に前記連
結アーム２８の末端部が水平に回動可能に連結さ
れ、連結アーム２８の先端部が排出樋２１の垂直
な一端部に固定されている。さらに前記両シリン
ダ２９，３１のピストン３３，３４の両側部が第
１、第２電磁弁３５，３６を介して図示しない流
体圧源にそれぞれ連通されている。
動手段３７に連結されている。すなわち、駆動手
段３７は、第４図ａ，ｂ，ｃにも示すように、前
記排液受部材１９の下面に水平に回動可能に第１
シリンダ２９が連結され、第１シリンダ２９に嵌
挿されたピストンロツド３０の先端部に第２シリ
ンダ３１が固定されている。第２シリンダ３１に
嵌挿されたピストンロツド３２の先端部に前記連
結アーム２８の末端部が水平に回動可能に連結さ
れ、連結アーム２８の先端部が排出樋２１の垂直
な一端部に固定されている。さらに前記両シリン
ダ２９，３１のピストン３３，３４の両側部が第
１、第２電磁弁３５，３６を介して図示しない流
体圧源にそれぞれ連通されている。
次に、以上のように構成された研摩液切換装置
の動作について説明する。
の動作について説明する。
第３図および第４図ａに示すように、第１、第
２電磁弁３５，３６が共にOFFの場合には、第
１、第２シリンダ２９，３１のピストンロツド３
０，３２がともに退入して、排出樋２１は他端開
口部２１ｂが第１研摩液タンク２５の排液受体２
２上に位置している。この状態では、図示しない
ポンプで、第１研摩液タンク２５、研摩装置１１
の被加工物１６の研摩面部、インターナルギヤハ
ウジング１８、インターナルギヤハウジング１８
の穴１８ａ、排出研摩液受部材１９、排出口２
０、排出樋２１、排液受体２２の経路で、第１研
摩液タンク２５内の研摩液が循環して、ポリツシ
ングのような研摩が行われる。研摩が進行し、第
二研摩液を必要とした段階になると、第１研摩液
のポンプ（図示しない）が停止すると同時に第２
研摩液ポンプ（図示せず）が回転を始め、同期し
て第１電磁弁３５だけをONにすると、第１シリ
ンダ２９のピストンロツド３０が進出して駆動手
段３７が第４図ｂに示す状態となり、排出樋２１
が排出口２０を中心として第３図の反時計方向に
１段旋回され、排出樋２１は、他端開口部２１ｂ
が第２研摩液タンク２６の排液受体２３上に位置
するように切換えられる。この状態では、第２研
摩液タンク２５内の研摩液をそのポンプで循環さ
せてポリツシングのような研摩が行われる。第２
研摩液による作業が終了すると同時に第２研摩液
ポンプが停止し、同期して第２電磁弁３６をも
ONにすると、第１シリンダ２９のピストンロツ
ド３０だけではなく、第２シリンダ３１のピスト
ンロツド３２も進出して駆動手段３７が第４図ｃ
に示す状態となり、排出樋２１がさらに２段目の
旋回をして、その他端開口部２１ｂが排液受体２
４上に位置するように切換えられる。この状態で
は、研摩液に代え純水を用いて被加工物１６の研
摩面などを洗浄し、洗浄後の水を排水装置２７か
ら適所に排出することができる。そして、第１、
第２電磁弁３５，３６をともにOFFにすれば、
駆動手段３７が第４図ａの状態に、排出樋２１が
第３図の状態に復帰する。
２電磁弁３５，３６が共にOFFの場合には、第
１、第２シリンダ２９，３１のピストンロツド３
０，３２がともに退入して、排出樋２１は他端開
口部２１ｂが第１研摩液タンク２５の排液受体２
２上に位置している。この状態では、図示しない
ポンプで、第１研摩液タンク２５、研摩装置１１
の被加工物１６の研摩面部、インターナルギヤハ
ウジング１８、インターナルギヤハウジング１８
の穴１８ａ、排出研摩液受部材１９、排出口２
０、排出樋２１、排液受体２２の経路で、第１研
摩液タンク２５内の研摩液が循環して、ポリツシ
ングのような研摩が行われる。研摩が進行し、第
二研摩液を必要とした段階になると、第１研摩液
のポンプ（図示しない）が停止すると同時に第２
研摩液ポンプ（図示せず）が回転を始め、同期し
て第１電磁弁３５だけをONにすると、第１シリ
ンダ２９のピストンロツド３０が進出して駆動手
段３７が第４図ｂに示す状態となり、排出樋２１
が排出口２０を中心として第３図の反時計方向に
１段旋回され、排出樋２１は、他端開口部２１ｂ
が第２研摩液タンク２６の排液受体２３上に位置
するように切換えられる。この状態では、第２研
摩液タンク２５内の研摩液をそのポンプで循環さ
せてポリツシングのような研摩が行われる。第２
研摩液による作業が終了すると同時に第２研摩液
ポンプが停止し、同期して第２電磁弁３６をも
ONにすると、第１シリンダ２９のピストンロツ
ド３０だけではなく、第２シリンダ３１のピスト
ンロツド３２も進出して駆動手段３７が第４図ｃ
に示す状態となり、排出樋２１がさらに２段目の
旋回をして、その他端開口部２１ｂが排液受体２
４上に位置するように切換えられる。この状態で
は、研摩液に代え純水を用いて被加工物１６の研
摩面などを洗浄し、洗浄後の水を排水装置２７か
ら適所に排出することができる。そして、第１、
第２電磁弁３５，３６をともにOFFにすれば、
駆動手段３７が第４図ａの状態に、排出樋２１が
第３図の状態に復帰する。
以上説明したように、この発明の研摩液切換装
置は、排出研摩液受部材に設けた排出口を中心と
して、この排出口と連通する排出樋を旋回させる
ことにより、この排出樋から複数の排液受体に対
して研摩液や水を切換えて導くことができると共
に、排出樋は各別に動作する２個のシリンダより
なる駆動装置により旋回するので、各シリンダの
ピストンロツドの伸張端或は収縮端で確実に位置
決めすることができることになり、しかも、前述
した従来のもののように高価で破損し易い電磁弁
を研摩液が流れる管に設けていないため、安価で
しかも研摩液が洩れる恐れがなく長期間にわたり
安定して使用でき、さらに研摩液が切換後に他の
研摩液や水に混入して、濃度を変化させることも
減少させ得るという効果がある。
置は、排出研摩液受部材に設けた排出口を中心と
して、この排出口と連通する排出樋を旋回させる
ことにより、この排出樋から複数の排液受体に対
して研摩液や水を切換えて導くことができると共
に、排出樋は各別に動作する２個のシリンダより
なる駆動装置により旋回するので、各シリンダの
ピストンロツドの伸張端或は収縮端で確実に位置
決めすることができることになり、しかも、前述
した従来のもののように高価で破損し易い電磁弁
を研摩液が流れる管に設けていないため、安価で
しかも研摩液が洩れる恐れがなく長期間にわたり
安定して使用でき、さらに研摩液が切換後に他の
研摩液や水に混入して、濃度を変化させることも
減少させ得るという効果がある。
なお、実施例においては、計三種の流体を切換
可能にしてあるが、二種の流体すなわち、一種類
の研摩液を循環させ、必要に応じて機械を洗浄す
る際に、他方を排出用に使用し作業能率向上が得
られることは言をまたない。また、いわゆるラツ
ピング、ポリツシング機で片面のみをラツピン
グ、ポリツシングする機械においてもなんら差異
なく使用出来ることも付記しておく。
可能にしてあるが、二種の流体すなわち、一種類
の研摩液を循環させ、必要に応じて機械を洗浄す
る際に、他方を排出用に使用し作業能率向上が得
られることは言をまたない。また、いわゆるラツ
ピング、ポリツシング機で片面のみをラツピン
グ、ポリツシングする機械においてもなんら差異
なく使用出来ることも付記しておく。
第１図は従来の研摩液切換装置の要部を示す縦
断面図、第２図はこの発明の一実施例による研摩
液切換装置を備えた研摩装置の要部を示す縦断面
図、第３図は第２図の研摩液切換装置の平面図、
第４図ａ，ｂ，ｃは互に異なつた動作状態を示す
駆動手段の動作説明図である。 １１……研摩装置、１９……排出研摩液受部
材、２０……排出口、２１……排出樋、２１ａ…
…排出樋の一端部、２１ｂ……排出樋の他端開口
部、２２，２３，２４……排液受体、３７……駆
動手段。
断面図、第２図はこの発明の一実施例による研摩
液切換装置を備えた研摩装置の要部を示す縦断面
図、第３図は第２図の研摩液切換装置の平面図、
第４図ａ，ｂ，ｃは互に異なつた動作状態を示す
駆動手段の動作説明図である。 １１……研摩装置、１９……排出研摩液受部
材、２０……排出口、２１……排出樋、２１ａ…
…排出樋の一端部、２１ｂ……排出樋の他端開口
部、２２，２３，２４……排液受体、３７……駆
動手段。
Claims (1)
- １ 複数種類の研磨液または研磨液と水とを用い
る研磨装置において、研磨装置の排出研磨液受部
材に設けた排出口に、この排出口を中心として旋
回可能に排出樋の一端部を連通させ、排出樋の他
端開口部の旋回軌跡に沿いこの軌跡の下方に複数
の排液受体を並べて開口させると共に、前記排出
樋に、第１シリンダに嵌挿したピストンロツドの
先端にピストンロツドを嵌挿した第２シリンダを
固定し、それら両ピストンロツドを各別に進退さ
せることにより、排出樋を旋回させる駆動手段を
連結したことを特徴とする、研磨液切換装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55142510A JPS5766860A (en) | 1980-10-14 | 1980-10-14 | Abrasive liquid selector device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55142510A JPS5766860A (en) | 1980-10-14 | 1980-10-14 | Abrasive liquid selector device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5766860A JPS5766860A (en) | 1982-04-23 |
| JPH0238349B2 true JPH0238349B2 (ja) | 1990-08-30 |
Family
ID=15317023
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55142510A Granted JPS5766860A (en) | 1980-10-14 | 1980-10-14 | Abrasive liquid selector device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5766860A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6190867A (ja) * | 1984-10-05 | 1986-05-09 | Naoetsu Denshi Kogyo Kk | ウェーハの研磨方法 |
| JP4589357B2 (ja) * | 2007-04-16 | 2010-12-01 | 株式会社荏原製作所 | ポリッシング装置 |
| JP7019184B2 (ja) * | 2018-07-17 | 2022-02-15 | スピードファム株式会社 | 処理液切換装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5457294A (en) * | 1977-10-15 | 1979-05-08 | Shibayama Kikai Kk | Method of separating slurry wash liquid in polishing machine |
-
1980
- 1980-10-14 JP JP55142510A patent/JPS5766860A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5457294A (en) * | 1977-10-15 | 1979-05-08 | Shibayama Kikai Kk | Method of separating slurry wash liquid in polishing machine |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5766860A (en) | 1982-04-23 |
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