JPH0236148B2 - - Google Patents

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JPH0236148B2
JPH0236148B2 JP58121450A JP12145083A JPH0236148B2 JP H0236148 B2 JPH0236148 B2 JP H0236148B2 JP 58121450 A JP58121450 A JP 58121450A JP 12145083 A JP12145083 A JP 12145083A JP H0236148 B2 JPH0236148 B2 JP H0236148B2
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JP
Japan
Prior art keywords
group
epoxy resin
molding
mold
mold release
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP58121450A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS6013841A (en
Inventor
Yoshiji Morita
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DuPont Toray Specialty Materials KK
Original Assignee
Toray Silicone Co Ltd
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Publication date
Application filed by Toray Silicone Co Ltd filed Critical Toray Silicone Co Ltd
Priority to JP58121450A priority Critical patent/JPS6013841A/en
Publication of JPS6013841A publication Critical patent/JPS6013841A/en
Publication of JPH0236148B2 publication Critical patent/JPH0236148B2/ja
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は成形用エポキシ樹脂組成物に関するも
のであり、詳しくは、成形時には金型汚れのない
優れた離型性を示し、成形後には優れた捺印性、
密着性を示す、特に、半導体封止用の成形用エポ
キシ樹脂組成物に関する。 従来、エポキシ樹脂組成物の成形には移送成
形、射出成形、圧縮成形、法型等の方法が採用さ
れている。これらの各成形法において、成形物を
金型から円滑に取り出すことが生産性の面から極
めて重要なことである。そのために、金型設計時
に、金型のキヤビテイに傾斜をつけたり、つき上
げピンの数を増したりする工夫がなされている。
しかし、つき上げピンの数を増せば離型性は向上
するが、金型の製造コストが著しく増加し、経済
的制約を受けること、およびそれだけでは離型性
が充分でないという欠点がある。 また、離型性をあげるため、生産を中断して離
型剤を金型に塗布する方法も実施されているが、
離型剤の金型えの度重なる塗布は作業効率を低下
させ、生産性に重大な支障をきたすという致命的
欠点を有している。 その結果、必然的に樹脂自身の改良、すなわち
内部離型剤の開発に対する期待が大きくなつてき
ている。 ところで、内部離型剤の役割は、成形時の離型
性を向上させることであるが、それ以外にブリー
ドオフがないこと、半導体部品と樹脂との密着性
を妨げないことなども重要なことである。何故な
ら、内部離型剤がプリードオフすることによつ
て、成形回数が増すにつれ、金型内に汚れとして
蓄積され、成形品表面の汚れをひきおこすからで
あり、また、成形品に社名、製品名等の捺印をほ
どこす場合に、内部離型剤がにじみ出して捺印性
を妨げるからである。また、樹脂の用途がトラン
ジスタIC等の半導体の封止材である場合には水
分が湿分の侵入を防ぐためにその密着性が重要と
なる。 従来、内部離型剤としてステアリン酸カルシウ
ムやステアリン酸亜鉛などの高級脂肪酸の金属塩
が使用されてきたが、離型性、捺印性にやゝ優れ
ているものの、半導体装置の封止剤として用いた
場合の密着性に劣るという欠点があり、また、内
部離型剤としてカルナウバワツクスやモンタンワ
ツクスなどのエステル系ワツクスが知られている
が、封止材として用いた場合の密着性は比較的優
れているものの離型性、捺印性に劣るという欠点
がある。また、ジメチルシリコーンオイルを使用
する場合もあるが、これは離型性に優れているも
のの、捺印性、密着性に劣るという欠点がある。 本発明者はエポキシ樹脂組成物の内部離型剤に
ついて鋭意研究した結果、エポキシ樹脂と反応し
得る特定の基を有するオルガノポリシロキサンを
配合することにより、ブリードオフがなく、金型
汚れのない優れた離型性を有し、かつ、成形品の
捺印性、封止材としての密着性にもすぐれている
ことを見出し、特許出願(特開昭58−69244号)
した。 本発明者は、引続き内部離型剤について研究し
た結果、エポキシ樹脂と反応し得る特定の基を有
し、かつ、エポキシ樹脂との親和性を付与するポ
リオキシアルキレン基とを有するオルガノポリシ
ロキサンを配合することにより、ブリードオフが
なく、離型性等がさらに向上することを見出し、
本発明に到達した。 すなわち、本発明は、 (A) エポキシ樹脂、および (B) 一般式 〔式中、Rは同種もしくは異種の1価炭化水
素基、AはR,DおよびGから選択される基、
Dはエポキシ基、アミノ基、水酸基、カルボキ
シル基またはカルボン酸エステル基を含有する
1価有機基、Gは(―R1)―aO(―C2H4O)―b(―
C3H6O)―cR2ここに、R1は2価の有機基、R2
水素原子または末端封鎖基、aは0または1,
bおよびcは0〜50、ただしb+cは1〜100
である)、lは0〜1000、mおよびnは0〜
100、ただしl+m+nは1〜1000である。〕で
表わされ、1分子中に、少なくとも1個のD基
と少なくとも1個のG基とを有するオルガノポ
リシロキサン、 (但し、(B)成分の添加量は(A)成分の重量の
0.1〜20重量%である。) を主剤とする成形用エポキシ樹脂組成物に関す
るものである。 本発明に使用される(A)成分のエポキシ樹脂は、
1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有する
ものであればよく、従来公知の全てのエポキシ樹
脂を使用することができる。例えば、ビスフエノ
ールAのジグリシジルエーテルやその多量体であ
るエピビスタイプのエポキシ樹脂、ビスフエノー
ルF型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹
脂、テトラヒドロキシフエニルエタン型エポキシ
樹脂、フエノールノボラツク型エポキシ樹脂、ク
レゾールノボラツク型エポキシ樹脂、ポリオレフ
イン型エポキシ樹脂、脂環型エポキシ樹脂、エポ
キシ化大豆油、シリコーン変性エポキシ樹脂など
の各種変性エポキシ樹脂、およびそれらのハロゲ
ン化物が例示される。エポキシ樹脂としてはその
1種または2種以上を混合して使用してもよく、
また、エポキシ樹脂と他のエポキシ基をもたない
熱硬化性樹脂との混合物も含まれる。 本発明に使用される(B)成分のオルガノポリシロ
キサンは、エポキシ樹脂に配合して、成形時に金
型汚れのない優れた離型性を与えるとともに、成
形品の捺印性、封止材としての密着性を与える重
要な成分である。このオルガノポリシロキサンは
一般式 によつて表わされ、式中、Rは同種もしくは異種
の1価炭化水素基であり、メチル基、エチル基、
プロピル基、オクチル基、フエニル基、ビニル
基、アリル基、3―クロルプロピル基、β―フエ
ニルエチル基、3,3,3―トリフルオロプロピ
ル基などが例示される。このうち、一般にメチル
基が使用される。Dはエポキシ基、アミノ基、水
酸基、カルボキシル基またはカルボン酸エステル
基を含有する1価有機酸である。 これらの基はエポキシ樹脂と反応するため、(B)
成分のブリードオフを防ぐ働きをする。このう
ち、アミノ基はその窒素原子に結合する水素原子
の1個または2個がアルキル基等で置換されたも
のも使用できる。これらの官能基が結合している
1価有機基の種類は特に限定するものではない
が、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレ
ン基、ブチレン基などのアルキレン基、クロルエ
チレン基、フルオロエチレン基などのハロゲン化
アルキレン基、脂肪族環状体含有アルキレン基、
フエニレン基、アルキレンアリーレン基、―
C6H4CO―、―CO―、―NHCO―、―
CH2OCH2CH2CH2―、―CH2CH2OCH2CH2―、
The present invention relates to an epoxy resin composition for molding, and more specifically, it exhibits excellent mold releasability without mold staining during molding, and has excellent marking properties and
The present invention relates to a molding epoxy resin composition exhibiting adhesive properties, particularly for semiconductor encapsulation. Conventionally, methods such as transfer molding, injection molding, compression molding, and method molding have been adopted for molding epoxy resin compositions. In each of these molding methods, it is extremely important from the viewpoint of productivity to smoothly take out the molded product from the mold. To this end, when designing molds, measures are taken to create an incline in the mold cavity and increase the number of push-up pins.
However, although increasing the number of push-up pins improves the mold releasability, there are disadvantages in that the manufacturing cost of the mold increases significantly, resulting in economical constraints, and that alone does not provide sufficient mold releasability. Additionally, in order to improve mold releasability, a method has been implemented in which production is interrupted and a mold release agent is applied to the mold.
Repeated application of a mold release agent to a mold has a fatal drawback in that it reduces work efficiency and seriously impedes productivity. As a result, expectations have inevitably increased for improvement of the resin itself, that is, for the development of internal mold release agents. By the way, the role of the internal mold release agent is to improve mold release properties during molding, but it is also important that there is no bleed-off and that it does not interfere with the adhesion between the semiconductor component and the resin. It is. This is because the internal mold release agent pre-offs and accumulates as dirt in the mold as the number of molding increases, causing stains on the surface of the molded product. This is because when applying a stamp such as, the internal mold release agent oozes out and impedes the stamping performance. Furthermore, when the resin is used as a sealing material for semiconductors such as transistor ICs, its adhesion is important to prevent moisture from entering. Conventionally, metal salts of higher fatty acids such as calcium stearate and zinc stearate have been used as internal mold release agents, but although they have excellent mold release and marking properties, they have not been used as encapsulants for semiconductor devices. In addition, ester waxes such as carnauba wax and montan wax are known as internal mold release agents, but the adhesion when used as a sealant is comparatively poor. Although it has excellent properties, it has the disadvantage of poor releasability and imprintability. Further, dimethyl silicone oil is sometimes used, but although this oil has excellent mold releasability, it has the disadvantage of being inferior in imprintability and adhesion. As a result of extensive research into internal mold release agents for epoxy resin compositions, the present inventor found that by blending an organopolysiloxane with a specific group that can react with epoxy resins, the present inventors found that they are superior in that there is no bleed-off and no mold staining. We discovered that it has excellent mold releasability, as well as excellent imprintability on molded products and adhesion as a sealing material, and applied for a patent (Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-69244).
did. As a result of continued research on internal mold release agents, the present inventor discovered an organopolysiloxane that has a specific group that can react with an epoxy resin and also has a polyoxyalkylene group that imparts affinity with the epoxy resin. We discovered that by blending, there is no bleed-off and mold release properties are further improved.
We have arrived at the present invention. That is, the present invention provides (A) an epoxy resin, and (B) a general formula [wherein R is the same or different monovalent hydrocarbon group, A is a group selected from R, D and G,
D is a monovalent organic group containing an epoxy group, an amino group, a hydroxyl group, a carboxyl group, or a carboxylic acid ester group, and G is (-R 1 )-aO(-C 2 H 4 O)-b(-
C 3 H 6 O) - cR 2 where R 1 is a divalent organic group, R 2 is a hydrogen atom or an end capping group, a is 0 or 1,
b and c are 0 to 50, but b+c is 1 to 100
), l is 0 to 1000, m and n are 0 to
100, where l+m+n is 1 to 1000. ], and has at least one D group and at least one G group in one molecule (However, the amount of component (B) added is based on the weight of component (A).
It is 0.1-20% by weight. ) The present invention relates to an epoxy resin composition for molding containing as a main ingredient. The epoxy resin of component (A) used in the present invention is:
All conventionally known epoxy resins can be used as long as they have at least two epoxy groups in one molecule. For example, diglycidyl ether of bisphenol A or epibis type epoxy resin which is a polymer thereof, bisphenol F type epoxy resin, resorcin type epoxy resin, tetrahydroxyphenylethane type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, Examples include various modified epoxy resins such as cresol novolac type epoxy resin, polyolefin type epoxy resin, alicyclic type epoxy resin, epoxidized soybean oil, silicone-modified epoxy resin, and halogenated products thereof. As the epoxy resin, one type or a mixture of two or more types may be used.
Also included are mixtures of epoxy resins and other thermosetting resins that do not have epoxy groups. Component (B) used in the present invention, organopolysiloxane, is blended with an epoxy resin to provide excellent mold release properties without mold staining during molding, as well as improve marking properties on molded products and as a sealant. It is an important component that provides adhesion. This organopolysiloxane has the general formula In the formula, R is the same or different monovalent hydrocarbon group, such as a methyl group, an ethyl group,
Examples include propyl group, octyl group, phenyl group, vinyl group, allyl group, 3-chloropropyl group, β-phenylethyl group, and 3,3,3-trifluoropropyl group. Among these, methyl group is generally used. D is a monovalent organic acid containing an epoxy group, an amino group, a hydroxyl group, a carboxyl group, or a carboxylic acid ester group. Since these groups react with the epoxy resin, (B)
Works to prevent ingredient bleed-off. Among these, amino groups in which one or two of the hydrogen atoms bonded to the nitrogen atom are substituted with an alkyl group or the like can also be used. The type of monovalent organic group to which these functional groups are bonded is not particularly limited, but examples include alkylene groups such as methylene group, ethylene group, propylene group, and butylene group, chloroethylene group, and fluoroethylene group. halogenated alkylene group, aliphatic cyclic body-containing alkylene group,
Phenylene group, alkylenearylene group, -
C 6 H 4 CO―, ―CO―, ―NHCO―, ―
CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 ―, ―CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 ―,

【式】―(CH21〜10 (NHCH2CH21〜5、またはこれらの基の組合せか
らなる複合基が例示され、好ましくはその基の一
端に上記官能基が結合しているものである。しか
し、官能基が1価有機基を構成する分子の途中に
結合しているものを除外するものではない。 Gは式(―R1)―aO(―C2H4O)―b(―C3H6O)―cR
2
表わされるポリオキシアルキレン基である。この
ポリオキシアルキレン基はエポキシ樹脂との親和
性を付与する基である。ここに、R1は2価の有
機基であり、炭素原子数1〜10のアルキレン基、
―C6H4―基、―CO―基、―NHCO―基またはこ
れらの基同士が結合した複合基が例示される。
R2は水素原子または末端封鎖基であり、末端封
鎖基としては1価炭化水素基、アシル基、炭酸モ
ノエステル基が例示され、1価炭化水素基として
はメチル基、エチル基、プロピル基、ドデシル
基、シクロヘキシル基、フエニル基、β―フエニ
ルエチル基などが例示され、アシル基としてはア
セチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基などが
例示される。aは0または1、bおよびcは0〜
50、ただしb+cは1〜100である。また、Aは
上記したR、DおよびGから選択される基であ
る。lは0〜1000、mおよびnは0〜100、ただ
しl+m+nは1〜1000である。 このオルガノポリシロキサンは、1分子中に、
少なくとも1個のD基と少なくとも1個のG基と
を有する必要がある。このD基およびG基はオル
ガノポリシロキサンの分子構造中どの部分に存在
していてもよい。なお、ポリオキシアルキレン基
のb+cの値が大き過ぎると製造の際ポリオキシ
アルキレン基が分岐するおそれがあるので、5〜
50の範囲が好ましい。また、各シロキサン単位の
好ましい範囲はlが10〜500、mが2〜40、nが
1〜30、l+m+nが10〜500である。 (B)成分の配合割合は(A)成分であるエポキシ樹脂
の重量の0.1〜20重量%の範囲、好ましくは0.5〜
15重量%の範囲である。配合割合が0.1重量%未
満であると内部離型剤としての効果が充分でな
く、20重量%を超過すると硬化後の成形物の諸特
性、すなわち機械的強度、電気特性、化学特性に
影響を及ぼすからである。また、支障のない限り
2種以上の(B)成分を配合してもよい。 本組成物には上記した(A)成分および(B)成分以外
にエポキシ樹脂の硬化剤を使用する。この硬化剤
としては従来公知のものでもよく、例えば、無水
フタル酸、無水ピロメリツト酸、無水テトラヒド
ロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水コ
ハク酸、無水ベンゾフエノンテトラカルボン酸等
の酸無水物系硬化剤、ジシアンジアミド、ジアミ
ノジフエニルメタン、ジアミノジフエニルスルフ
オン、メタフエニレンジアミン、ビス(3―メチ
ル―4―アミノフエニル)メタン、ビス(4―ア
ミノ―シクロヘキシル)メタン等のアミン系硬化
剤あるいはフエノールノボラツク系硬化剤などが
用いられる。この配合量は硬化剤の種類によつて
変るため、特に限定するものではない。この硬化
剤以外にイミダゾールや第3級アミンで代表され
る硬化促進剤も使用できる。 さらに、本組成物には必要に応じて、脂肪酸金
属塩、エステル系ワツクス、(B)成分以外の液状オ
ルガノポリシロキサンなどの従来公知の内部離型
剤、フユームドシリカ、熔融シリカ、結晶性シリ
カ、結晶性シリカ、アルミナ、アルミナ水和物、
タルク、珪そう土、マイカ、アスベスト、炭酸カ
ルシウム、ガラス繊維等で代表される無機質充填
剤、酸化アンチモン、ハロゲン化合物、リン化合
物で代表される難燃剤、シランカツプリング剤
((B)成分の有する官能基と同じ官能基をもつシラ
ンカツプリング剤を包含する)、顔料等を配合す
ることができる。なお無機質充填剤は目的によつ
てその配合量は異なるが、通常(A)成分の5〜1000
重量%の範囲で添加する。 本発明の成形用エポキシ樹脂組成物は移送、圧
縮、射出、注型等による成形時において、金型汚
れのない極めてすぐれた離型性を示し、その成形
物は捺印性にすぐれ、半導体封止用として使用し
た場合は半導体部品との密着性を向上させること
ができる。 さらに、エポキシ樹脂に(B)成分を混合して粉体
にしたもの、またはエポキシ樹脂の粉体を(B)成分
で処理したものはブロツキング防止性や流動性を
改良することができるため、粉末塗料として電気
絶縁塗装や耐食塗装用に使用することができる。
それ以外に、一般成形用材料、耐熱性ワニス、注
型用樹脂、含浸用樹脂、コーテイング用材料とし
て使用できる。 次に、本発明を実施例によつて説明する。実施
例中および比較例中の部は重量部を意味し、粘度
は25℃における値である。 なお、各実施例および各比較例において本発発
明の特性を示す「金型離型性」、「金型汚れ」、「捺
印性」および「密着性」の次の方法によつた。 「金型離型性」 断面積1cm2の円筒形キヤビテイを有する金型
で、1.5gの各組成物を175℃で2分間圧縮成形
し、成形直後の金型からの離型押し出し力(Kg)
をプツシユプルゲージで測定した。これを10回繰
り返し、その最低と最高の値をとつた。 「金型汚れ」 To―202トランジスタ20個どり金型を使用し、
175℃、2分間で連続500回トランスフアー成形
し、成形後の金型の汚れを肉眼観察した。金型の
鏡面に曇りがなければ、さらに連続500回トラン
フアー成形して、金型の汚れを肉眼観察した。
1000回成形後も金型の鏡面に曇りのないものを○
印、500回成形して曇りがなく、1000回成形後に
は曇りが生じたものを△印、500以下の成形で曇
りが生じたものを×印とした。 「捺印性」 To―202トランジスタ20個どり金型を使用し、
175℃で2分間トランスフアー成形した成形表面
に、マーケム社7261インクを捺印し、150℃で1
時間インクを硬化させた後、インク表面にセロフ
アンテープを密着させ、それを急激にはがしたと
きのテープ側へのインクの転写性を肉眼で判定し
た。これを10回繰り返し、10共テープ側に全く転
写しないものを○印、テープ側に一部でも転写し
たものが1回以上あるものを△印、ほぼテープ全
面に転写したものが1回以上あるものを×印とし
た。 「密着性」 To―202トランジスタ20個どり金型を使用し、
175℃で2分間の成形条件でトランスフアー成形
して半導体を封止した。この成形物をレツドチエ
ツク液に各10個浸漬し、12時間煮沸させた後とり
出し、成形物とリードフレームとの境界面へのレ
ツドチエツク液の浸透具合を顕微鏡で観察した。
10個共全く浸入が認められないものを○印、僅か
でも浸入が認められるものが5個以下のものを△
印、10個共僅かでも浸入が認められないものを×
印とした。 実施例 1 エポキシ当量220、軟化点80℃のクレゾールノ
ボラツクエポキシ樹脂75部、エポキシ当量400、
軟化点70℃、臭素含有量45重量%の臭素化ビスフ
エノールA型エポキシ樹脂25部、硬化剤として軟
化点90℃のフエノールノボラツク樹脂50部、無機
質充填剤として熔融シリカ粉末420部、硬化促進
剤として2―メチル―4―イミダゾール1部、顔
料としてカーボンブラツク2部、三酸化アンチモ
ン20部、内部離型剤として式 で表わされる粘度3500センチストークスのエポキ
シ基とポリオキシアルキレン基とを含有するオル
ガノポリシロキサン2部を加え、80〜90℃の熱ロ
ールで混練し、冷却後粉砕して成形用エポキシ樹
脂組成物とした。この組成物を用いて前記した金
型離型性、金型汚れ、捺印性および密着性の評価
を行ない、その結果を第1表に示した。 比較例 1 実施例1で使用した内部離型剤の代りに、カル
ナウバワツクス2部を使用した以外は実施例1と
全く同様にして、成形用エポキシ樹脂組成物をつ
くり、同様の評価を行なつた。その結果を第1表
に示した。 比較例 2 実施例1で使用した内部離型剤の代りに、ステ
アリン酸カルシウム2部を使用した以外は実施例
1と全く同様にして、成形用エポキシ樹脂組成物
をつくり、同様の評価を行なつた。その結果を第
1表に示した。 比較例 3 実施例1で使用した内部離型剤の代りに、分子
鎖両末端がトリメチルシリル基で封鎖された粘度
1000センチストークスのジメチルポリシロキサン
2部を使用した以外は、実施例1と全く同様にし
て成形用エポキシ樹脂組成物をつくり、同様の評
価を行なつた。その結果を第1表に示した。 比較例 4 実施例1で使用した内部離型剤の代りに、式 で表わされる粘度8000センチストークスのエポキ
シ基含有ジメチルポリシロキサン2部を使用した
以外は、実施例1と全く同様にして成形用エポキ
シ樹脂組成物をつくり、同様の評価を行なつた。
その結果を第1表に示した。 比較例 5 実施例1で使用した内部離型剤の代りに、式 で表わされる粘度1200センチストークスのポリオ
キシアルキレン基含有ジメチルポリシロキサン2
部を使用した以外は、実施例1と全く同様にして
成形用エポキシ樹脂組成物をつくり、同様の評価
を行なつた。その結果を第1表に示した。
[Formula] - (CH 2 ) 1-10 (NHCH 2 CH 2 ) 1-5 or a composite group consisting of a combination of these groups is exemplified, and preferably the above functional group is bonded to one end of the group. It is something. However, this does not exclude those in which the functional group is bonded in the middle of the molecule constituting the monovalent organic group. G is the formula (-R 1 )- a O(-C 2 H 4 O)- b (-C 3 H 6 O)- c R
It is a polyoxyalkylene group represented by 2 . This polyoxyalkylene group is a group that imparts affinity with epoxy resins. Here, R 1 is a divalent organic group, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms,
Examples include a -C 6 H 4 - group, a -CO- group, an -NHCO- group, and a composite group in which these groups are bonded together.
R 2 is a hydrogen atom or a terminal blocking group, and examples of the terminal blocking group include a monovalent hydrocarbon group, an acyl group, and a carbonic acid monoester group; examples of the monovalent hydrocarbon group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, Examples of the acyl group include a dodecyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, and a β-phenylethyl group. Examples of the acyl group include an acetyl group, a propionyl group, and a benzoyl group. a is 0 or 1, b and c are 0~
50, where b+c is 1 to 100. Further, A is a group selected from R, D and G described above. l is 0-1000, m and n are 0-100, provided that l+m+n is 1-1000. This organopolysiloxane contains, in one molecule,
It is necessary to have at least one D group and at least one G group. The D and G groups may be present anywhere in the molecular structure of the organopolysiloxane. In addition, if the value of b + c of the polyoxyalkylene group is too large, there is a risk that the polyoxyalkylene group will branch during production.
A range of 50 is preferred. Further, the preferable ranges of each siloxane unit are 1 to 500 for l, 2 to 40 for m, 1 to 30 for n, and 10 to 500 for l+m+n. The blending ratio of component (B) is in the range of 0.1 to 20% by weight of the epoxy resin that is component (A), preferably 0.5 to 20% by weight.
It is in the range of 15% by weight. If the blending ratio is less than 0.1% by weight, the effect as an internal mold release agent will not be sufficient, and if it exceeds 20% by weight, it will affect the properties of the molded product after curing, such as mechanical strength, electrical properties, and chemical properties. This is because it affects Furthermore, two or more types of component (B) may be blended as long as there is no problem. In addition to the above-mentioned components (A) and (B), this composition uses an epoxy resin curing agent. This curing agent may be a conventionally known one, such as acid anhydrides such as phthalic anhydride, pyromellitic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, succinic anhydride, and benzophenonetetracarboxylic anhydride. Curing agents, amine-based curing agents such as dicyandiamide, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenyl sulfone, metaphenylenediamine, bis(3-methyl-4-aminophenyl)methane, bis(4-amino-cyclohexyl)methane, or phenols. A novolak type curing agent or the like is used. This blending amount varies depending on the type of curing agent and is therefore not particularly limited. In addition to this curing agent, curing accelerators typified by imidazole and tertiary amines can also be used. Furthermore, this composition may optionally contain fatty acid metal salts, ester waxes, conventionally known internal mold release agents such as liquid organopolysiloxanes other than component (B), fumed silica, fused silica, crystalline silica, crystalline silica, etc. silica, alumina, alumina hydrate,
Inorganic fillers such as talc, diatomaceous earth, mica, asbestos, calcium carbonate, and glass fiber; flame retardants such as antimony oxide, halogen compounds, and phosphorus compounds; and silane coupling agents (containing component (B)). (including a silane coupling agent having the same functional group as the functional group), pigments, etc. can be blended. The amount of inorganic filler added varies depending on the purpose, but it is usually 5 to 1000% of component (A).
Add in a range of % by weight. The epoxy resin composition for molding of the present invention exhibits extremely excellent mold releasability without mold staining during molding by transfer, compression, injection, casting, etc., and its molded products have excellent marking properties and are suitable for semiconductor encapsulation. When used for purposes, it can improve adhesion to semiconductor components. Furthermore, powdered epoxy resin mixed with component (B) or treated epoxy resin powder with component (B) can improve anti-blocking properties and fluidity. It can be used as a paint for electrical insulation coatings and corrosion-resistant coatings.
In addition, it can be used as a general molding material, heat-resistant varnish, casting resin, impregnating resin, and coating material. Next, the present invention will be explained with reference to examples. Parts in Examples and Comparative Examples mean parts by weight, and viscosity is the value at 25°C. In each of the Examples and Comparative Examples, the following methods were used to determine the characteristics of the present invention: "mold releasability", "mold staining", "imprintability", and "adhesion". "Mold releasability" In a mold with a cylindrical cavity with a cross-sectional area of 1 cm2 , 1.5 g of each composition was compression molded at 175°C for 2 minutes, and the extrusion force (Kg )
was measured with a push-pull gauge. This was repeated 10 times and the lowest and highest values were taken. "Mold stains" Using a mold for 20 To-202 transistors,
Transfer molding was performed continuously at 175°C for 2 minutes 500 times, and stains on the mold after molding were visually observed. If the mirror surface of the mold was not cloudy, tranfer molding was continued 500 times and dirt on the mold was visually observed.
The mirror surface of the mold should not be cloudy even after 1000 moldings.
A mark was given as △ if there was no clouding after 500 moldings, but clouding occurred after 1000 moldings, and an x mark if clouding occurred after 500 moldings or less. "Stampability" Using a mold for 20 To-202 transistors,
Markem 7261 ink was stamped on the molded surface which was transfer molded at 175℃ for 2 minutes, and then transferred at 150℃ for 1 minute.
After the ink was cured for a period of time, cellophane tape was brought into close contact with the surface of the ink, and when the tape was rapidly peeled off, the transferability of the ink to the tape side was visually judged. Repeat this 10 times, and in 10 cases, there is no transfer at all to the tape side, marked with ○, cases where even a portion of the transfer is on the tape side, at least once, is marked, and cases where there is transfer to almost the entire surface of the tape, marked at least once. I marked the items with an x. "Adhesion" Using a mold for 20 To-202 transistors,
The semiconductor was sealed by transfer molding at 175° C. for 2 minutes. Ten pieces of each of these molded products were immersed in Red-Check solution, boiled for 12 hours, taken out, and the extent to which Red-Check solution penetrated into the interface between the molded product and the lead frame was observed using a microscope.
Mark ○ if no infiltration is observed in any of the 10 items, and mark △ if there are 5 or less infiltrates.
Mark, all 10 items have no infiltration, even the slightest.
It was marked as a mark. Example 1 75 parts of cresol novolak epoxy resin with an epoxy equivalent of 220 and a softening point of 80°C, an epoxy equivalent of 400,
25 parts of brominated bisphenol A type epoxy resin with a softening point of 70°C and a bromine content of 45% by weight, 50 parts of a phenolic novolac resin with a softening point of 90°C as a hardening agent, 420 parts of fused silica powder as an inorganic filler, and hardening accelerator. 1 part of 2-methyl-4-imidazole as agent, 2 parts of carbon black as pigment, 20 parts of antimony trioxide, and formula as internal mold release agent. 2 parts of an organopolysiloxane containing an epoxy group and a polyoxyalkylene group having a viscosity of 3,500 centistokes are added, kneaded with heated rolls at 80 to 90°C, cooled and crushed to form an epoxy resin composition for molding. did. Using this composition, the mold releasability, mold staining, stamping performance, and adhesion were evaluated as described above, and the results are shown in Table 1. Comparative Example 1 An epoxy resin composition for molding was prepared in exactly the same manner as in Example 1, except that 2 parts of carnauba wax was used instead of the internal mold release agent used in Example 1, and the same evaluation was carried out. I did it. The results are shown in Table 1. Comparative Example 2 An epoxy resin composition for molding was prepared in exactly the same manner as in Example 1, except that 2 parts of calcium stearate was used instead of the internal mold release agent used in Example 1, and the same evaluation was performed. Ta. The results are shown in Table 1. Comparative Example 3 Instead of the internal mold release agent used in Example 1, a viscosity product in which both ends of the molecular chain were blocked with trimethylsilyl groups
An epoxy resin composition for molding was prepared in exactly the same manner as in Example 1, except that 2 parts of 1000 centistokes dimethylpolysiloxane was used, and the same evaluation was performed. The results are shown in Table 1. Comparative Example 4 Instead of the internal mold release agent used in Example 1, the formula An epoxy resin composition for molding was prepared in exactly the same manner as in Example 1, except that 2 parts of epoxy group-containing dimethylpolysiloxane having a viscosity of 8000 centistokes was used, and the same evaluation was performed.
The results are shown in Table 1. Comparative Example 5 Instead of the internal mold release agent used in Example 1, the formula Polyoxyalkylene group-containing dimethylpolysiloxane 2 with a viscosity of 1200 centistokes expressed by
An epoxy resin composition for molding was prepared in exactly the same manner as in Example 1, except that 100% of the epoxy resin composition was used, and the same evaluation was performed. The results are shown in Table 1.

【表】 第1表から明らかなように、実施例1は従来公
知の内部離型剤を使用した比較例に比べ、金型離
型性に極めてすぐれており、金型汚れもなく、捺
印性、半導体部品との密着性にもすぐれているた
め、半導体封止材として用いた場合多大の信頼性
を有することを示している。 実施例 2 実施例1で使用した内部離型剤のエポキシ基と
ポリオキシアルキレン基とを含有するオルガノポ
リシロキサンの代りに、式 で表わされる粘度4000センチストークスのアミノ
基とポリオキシアルキレン基とを含有するオルガ
ノポリシロキサン2部を用いた以外は、実施例1
と全く同様にして成形用エポキシ樹脂組成物をつ
くり、同様の評価を行なつた。この結果を第2表
に示した。 比較例 6 実施例2で使用した内部離型剤の代りに、式 で表わされる粘度1100センチストークスのアミノ
基含有ジメチルポリシロキサン2部を用いた以外
は、実施例1と全く同様にして成形用エポキシ樹
脂組成物をつくり、同様の評価を行なつた。この
結果を第2表に示した。実施例1と同様の結果が
得られた。
[Table] As is clear from Table 1, Example 1 has extremely superior mold releasability compared to the comparative example using a conventionally known internal mold release agent, has no mold stains, and has excellent marking properties. This shows that it has excellent adhesion to semiconductor components, so it has great reliability when used as a semiconductor encapsulating material. Example 2 Instead of the organopolysiloxane containing epoxy groups and polyoxyalkylene groups of the internal mold release agent used in Example 1, the formula Example 1 except that 2 parts of an organopolysiloxane containing an amino group and a polyoxyalkylene group having a viscosity of 4000 centistokes represented by
An epoxy resin composition for molding was prepared in exactly the same manner as above, and the same evaluation was performed. The results are shown in Table 2. Comparative Example 6 Instead of the internal mold release agent used in Example 2, the formula An epoxy resin composition for molding was prepared in exactly the same manner as in Example 1, except that 2 parts of amino group-containing dimethylpolysiloxane having a viscosity of 1100 centistokes was used, and the same evaluation was performed. The results are shown in Table 2. Results similar to those in Example 1 were obtained.

【表】 実施例 3〜5 実施例1で使用した内部離型剤の代りに、下記
の化学式で示される内部離型剤を各2部使用した
以外は、実施例1と全く同様にして成形用エポキ
シ樹脂組成物をつくり、同様の評価を行なつた。
この結果を第3表に示した。 で表わされる粘度8500センチストークスのカルボ
キシル基とポリオキシアルキレン基とを含有する
オルガノポリシロキサン(実施例3)。 で表わされる粘度780センチストークスのカルボ
ン酸エステル基とポリオキシアルキレン基とを含
有するオルガノポリシロキサン(実施例4)。 で表わされる粘度350センチストークスのカルビ
ノール基とポリオキシアルキレン基とを含有する
オルガノポリシロキサン(実施例5)。 比較例 7〜9 実施例3〜5で使用した内部離型剤の代りに、
下記の化学式で示される内部離型剤を各2部使用
した以外は、実施例1と全く同様にして成形用エ
ポキシ樹脂組成物をつくり、同様の評価を行なつ
た。この結果を第3表に併記した。 で表わされる粘度2500センチストークスのカルボ
キシ基含有ジメチルポリシロキサン(比較例7)。 で表わされる粘度2300センチストークスのカル
ボン酸エステル基含有ジメチルポリシロキサン
(比較例8)。 で表わされる粘度50センチストークスのカルビノ
ール基含有ジメチルポリシロキサン(比較例9)。
[Table] Examples 3 to 5 Molding was carried out in exactly the same manner as in Example 1, except that 2 parts of each internal mold release agent represented by the chemical formula below was used instead of the internal mold release agent used in Example 1. An epoxy resin composition was prepared and evaluated in the same way.
The results are shown in Table 3. An organopolysiloxane containing a carboxyl group and a polyoxyalkylene group and having a viscosity of 8,500 centistokes (Example 3). An organopolysiloxane containing a carboxylic acid ester group and a polyoxyalkylene group and having a viscosity of 780 centistokes (Example 4). An organopolysiloxane containing a carbinol group and a polyoxyalkylene group and having a viscosity of 350 centistokes (Example 5). Comparative Examples 7-9 Instead of the internal mold release agent used in Examples 3-5,
Epoxy resin compositions for molding were prepared in exactly the same manner as in Example 1, except that two parts of each internal mold release agent represented by the following chemical formula were used, and the same evaluations were performed. The results are also listed in Table 3. Carboxy group-containing dimethylpolysiloxane having a viscosity of 2500 centistokes (Comparative Example 7). A carboxylic acid ester group-containing dimethylpolysiloxane having a viscosity of 2300 centistokes (Comparative Example 8). A carbinol group-containing dimethylpolysiloxane having a viscosity of 50 centistokes (Comparative Example 9).

【表】 実施 6 エポキシ当量220、軟化点80℃のクレゾールノ
ボラツクエポキシ樹脂50部、エポキシ当量500、
軟化点70℃のビスフエノールA型エポキシ樹脂25
部、臭素含有量35重量%、エポキシ当量280、軟
化点85℃の臭素化ビスフエノールA型エポキシ樹
脂25部、硬化剤として無水テトラヒドロフタル酸
30部、無機質充填剤として結晶性シリカ粉末420
部、硬化促進剤として2―メチル―4―イミダゾ
ール1部、顔料としてカーボンブラツク2部、三
酸化アンチモン20部、内部離型剤として実施例1
で使用したエポキシ基とポリオキシアルキレン基
とを含有するオルガノポリシロキサンを0.5部、
1部、3部、5部、10部、15部と配合量を変えて
混練し、粉砕して成形用エポキシ樹脂組成物とし
た。これについて実施例1と同様の評価を行な
い、この結果を第4表に示した。いずれも、金型
離型性、金型汚れ、捺印性、密着性との極めて良
好であつた。
[Table] Implementation 6 Epoxy equivalent: 220, 50 parts of cresol novolak epoxy resin with a softening point of 80°C, epoxy equivalent: 500,
Bisphenol A type epoxy resin 25 with a softening point of 70℃
25 parts of brominated bisphenol A type epoxy resin with a bromine content of 35% by weight, an epoxy equivalent of 280 and a softening point of 85°C, and tetrahydrophthalic anhydride as a curing agent.
30 parts, crystalline silica powder 420 as inorganic filler
1 part of 2-methyl-4-imidazole as a curing accelerator, 2 parts of carbon black as a pigment, 20 parts of antimony trioxide, and Example 1 as an internal mold release agent.
0.5 part of the organopolysiloxane containing epoxy groups and polyoxyalkylene groups used in
The mixture was kneaded in varying amounts of 1 part, 3 parts, 5 parts, 10 parts, and 15 parts, and pulverized to obtain an epoxy resin composition for molding. Regarding this, the same evaluation as in Example 1 was carried out, and the results are shown in Table 4. All had extremely good mold releasability, mold staining, imprintability, and adhesion.

【表】 実施例 7 実施例6で使用した内部離型剤の代りに、式 で表わされる粘度14500センチストークスのエポ
キシ基とポリオキシアルキレン基とを含有するオ
ルガノポリシロキサン3部を使用した以外は、実
施例6と全く同様にして成形用エポキシ樹脂組成
物をつくり、成形・評価した結果、金型離型性は
2〜3Kgで、金型汚れもなく、捺印性、密着性と
も極めて良好であつた。
[Table] Example 7 Instead of the internal mold release agent used in Example 6, the formula An epoxy resin composition for molding was prepared in exactly the same manner as in Example 6, except that 3 parts of organopolysiloxane containing an epoxy group and a polyoxyalkylene group with a viscosity of 14,500 centistokes was used, and molded and evaluated. As a result, the mold releasability was 2 to 3 kg, there was no mold staining, and the stamping performance and adhesion were both extremely good.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1(A) エポキシ樹脂、および (B) 一般式 〔式中、Rは同種もしくは異種の1価炭化水
素基、AはR,DおよびGから選択される基、
Dはエポキシ基、アミノ基、水酸基、カルボキ
シル基またはカルボン酸エステル基を含有する
1価有機基、Gは(―R1)―aO(―C2H4O)―b(―
C3H6O)―cR2(ここに、R1は2価の有機基、R2
は水素原子または末端封鎖基、aは0または
1,bおよびcは0〜50、ただしb+cは1〜
100である)、lは0〜1000、mおよびnは0〜
100、ただしl+m+nは1〜1000である。〕で
表わされ、1分子中に、少なくとも1個のD基
と少なくとも1個のG基とを有するオルガノポ
リシロキサン、 (但し、(B)成分の添加量は(A)成分の重量の
0.1〜20重量%である。) を主剤とする成形用エポキシ樹脂組成物。
[Claims] 1(A) Epoxy resin, and (B) General formula [wherein R is the same or different monovalent hydrocarbon group, A is a group selected from R, D and G,
D is a monovalent organic group containing an epoxy group, an amino group, a hydroxyl group, a carboxyl group, or a carboxylic acid ester group, and G is (-R 1 )-aO(-C 2 H 4 O)-b(-
C 3 H 6 O) - cR 2 (where R 1 is a divalent organic group, R 2
is a hydrogen atom or a terminal capping group, a is 0 or 1, b and c are 0 to 50, but b+c is 1 to
100), l is 0 to 1000, m and n are 0 to
100, where l+m+n is 1 to 1000. ], and has at least one D group and at least one G group in one molecule (However, the amount of component (B) added is based on the weight of component (A).
It is 0.1-20% by weight. ) is the main ingredient of an epoxy resin composition for molding.
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