JPH02312150A - コインシデンス型電子顕微鏡 - Google Patents

コインシデンス型電子顕微鏡

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JPH02312150A
JPH02312150A JP1133818A JP13381889A JPH02312150A JP H02312150 A JPH02312150 A JP H02312150A JP 1133818 A JP1133818 A JP 1133818A JP 13381889 A JP13381889 A JP 13381889A JP H02312150 A JPH02312150 A JP H02312150A
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electron
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Ryuichi Shimizu
志水 隆一
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 電子顕微鏡に試料から放射されるX線を検出するX線検
出器とXiのエネルギーレベルを弁別する波高検知器と
を設け、電子が試料を透過する際に特定の原子と衝突し
て特性X線を放出しエネルギー損失を受けた後結像面に
入射した位置を、その時刻にその特定原子が放出したX
MをX線検出器と波高検知器が検知したタイミングによ
り識別し、試料内に存在する任意の特定元素の分布を高
いS/Nでイメージ情報化し、観察可能にした。
〔産業上の利用分野〕
本発明は、任意の元素について試料内の分布状態をイメ
ージ化して観察できるコインシデンス型電子顕微鏡に関
する。
〔従来の技術〕
試料に含まれている元素を分析する方法に、試料を電子
線で照射し、試料中の原子により非弾性散乱した電子の
エネルギー損失を調べる方法がある。
この方法は、第6図に示すように一定のエネルギーをも
って原子に衝突し、非弾性散乱された電子のエネルギー
は、その原子の元素に固有な値のエネルギー損失を受け
ていることを利用するものである。
さらに同じ方法を用いて、試料内の特定元素の分布像を
観察可能にすることができる。具体的には、走査型ある
いは通常型の電子顕微鏡の電子光学系に電子分光器(エ
ネルギーアナライザあるいはエネルギーフィルタ)を挿
入した装置が用いられる。
走査型電子顕微鏡を用いる場合には、電子線の走査位置
ごとに散乱電子を検出し、そのエネルギーレベルから元
素を識別すればよいが、透過型の電子顕微鏡を用いる場
合には、特定元素の分布像を結像面に生成しなければな
らず、技術的に困難な問題が多い。従来知られている通
常型の電子顕微鏡を用いる装置としては、電子分光器の
構造により、 Castaining−Henry型1
Ω(オメガ)型などがあるが1例は極めて少ない。
〔発明が解決しようとする課題〕
従来の電子顕@鏡と電子分光器とを用いた元素分布像の
観察可能な装置では、電子顕微鏡の電子光学系に電子分
光器を挿入した構造となるため。
構造が複雑で価格もかなり高くなるという問題があった
また電子顕微鏡の電子光学系中に電子分光器が挿入され
るため収差や歪みが増大し、高分解能の元素分布像を得
ることができなかった。
さらに、散乱電子の損失エネルギースペクトルは、第7
図に例示されるようにS/Nがかなり悪く1元素識別性
が低いため、得られる元素分布像の画質は不十分なもの
であった。
本発明は、従来の電子顕微鏡の基本的な構造をそのまま
利用して、高分解能の性能を何ら劣化させることなく低
コストで高画質の元素分布像を得る手段を提供すること
を目的としている。
(課題を解決するための手段) 本発明は、第6図に示されているように1′rf、子顕
微鏡において、試料中の原子によって電子が散乱される
ときに放出される特性X線を検出し、これと同時刻に結
像面に到達したエネルギー損失電子をコインシデンス法
により検出し、その入射位置を識別し、またX線のレベ
ルと元素種別との間の相関性を利用して、任意の元素を
識別し、その元素分布像を作成するものである。
第1図は本発明の原理図である。図において。
1は、電子顕微鏡本体の電子ビームコラムである。
2は1分析対象の試料である。
3は、結像面に設けられた高速の入射位置検出器であり
、試料2を透過して入射する電子の位置を検出する。
4は、入射位置検出器3が検出した電子の入射位置を座
標データに変換する座標データ変換器である。
5は、座標データを所定の時間遅延させるシフトレジス
タである。
6は、必要な座標データのみを抽出するゲートである。
7は、試料2から放出されるX線を検出するX線検出器
である。
8は、X線検出2it7が検出したX線パルスのうち、
予め指定された元素の値に相当するパルス波高のものの
みを識別する波高検知器であり、波高選別された特定波
高パルスによりゲート6を開き。
そのときの座標データを取り出す。
10は2画面対応のイメージデータバッファであり、波
高検知器8が検知した特定元素のX線パルスに対応する
入射電子の座標データが示すアドレスに9元素の存在を
表す表示情報が逐次蓄積される。
11は、イメージデータバッファlOに蓄積されている
表示情報に基づいて1元素分布像のイメージ表示制御を
行う表示制御部である。
12は1元素分布像が表示されるCRTである。
〔作用〕
第1図に示されている本発明の構成に基づく作用を次に
説明する。なお第2図は本発明の詳細な説明を示すタイ
ムチャートである。
第1図において、電子ビームコラムl内の試料2を電子
ビームで照射すると、一定の確率で試料中の原子に電子
が衝突し、電子にエネルギー…失が生じて非弾性散乱し
、同時にX線が放出される。
この電子は、結像面に到達して入射位置検出器3により
捕捉され、入射位置が検出される。その位置は座標デー
タ変換器4で座標データに変換され、さらにシフトレジ
スタ5に入力されて所定の遅延が行われる。
一方、同時に放出されたX線はX線検出器7により検出
され、さらにその出力のX線パルスについて波高検知器
8により波高が識別されて、予め指定された波高のX線
パルスのときにのみ波高選別された特定波高パルスがゲ
ート6に出力される。
第2図■は1 X線パルスの例を示し1元素α。
β、Tの種類に応じて波高が変化している。第2図■は
波高選別された特定波高パルスの例であり。
元素βが指定されている場合のものである。
このときシフトレジスタ5からシフトアウトされた座標
データは、波高検知器8が検知したX線に対応する電子
の入射位置を示す。
このようにしてゲート6において、第2図O1■に示す
ような座標データの抽出が行われ、指定された元素の原
子が試料中に存在するとき、その位置の座標データによ
りイメージデータバッファ10が逐次アクセスされ1元
素分布像のイメージデータが作成される。
〔実施例〕
第3図は本発明の1実施例の構成を示す。
図において、1は電子ビームコラム、2は試料。
3は入射位置検出器、4は座標データ変換器、5はシフ
トレジスタ、6はゲート、7はX線検出器。
8は波高検知器、9はゲートパルス発生器、10はイメ
ージデータバッファ113は試料(ファージ(遺伝子)
)内の元素分布像、14は結像面において蛍光表示され
た試料の透過像である。なお第1図と共通の要素には同
一番号を付して示してあり、第1図についてなされたそ
の説明は第3図においても適用される。
入射位置検出器3は、2次元の電子あるいは光子などの
粒子の検出器で、たとえば光抵抗面型検出器あるいはイ
ンターライン型CODカメラやカウンターホトスコープ
など従来から知られている各種のものが利用できる。
第4図は入射位置検出器の1例の光抵抗面型検出器の構
造を示す、CdSやCdSeなどの光抵抗体(光導電性
物質)tiltsを金属板16上に設け、また光抵抗体
層15の上にはさらに抵抗体膜17を設け、この抵抗体
膜17の各端部にはX電極XA、XBと、Y電極YA、
VB、!=を取す付aする(図ではYA、YBは省略さ
れている)。そして金属板16の抵抗体膜17との間に
は抵抗を介して適当な電圧が印加される。
この入射位置検出器3は、電子ビームコラム1の結像面
にある蛍光体層と接して取り付けられ。
蛍光体層のいずれかに電子が入射して発光が起こると、
それに接する光抵抗体層15の部分の抵抗値が下がり、
抵抗体膜17上でパルスがXとYの各電極XA、XB、
YA、YBに向けて減衰しながら伝播する。各電極に到
達したパルスの振幅の比をXとYのそれぞれでとること
により1発光位置すなわち電子の入射位置を求めること
ができる。
このようにして検出された電子の入射位置は。
デコーダで構成される第3図の座標データ変換器4で、
たとえば1バイト長のX座標データとX座標データとに
変換される。
シフトレジスタ5は、クロックの周期とシフトレジスタ
5の段数の積だけの遅延をX、Yの各座標データに与え
る。この遅延量は、波高選別された特定波高パルスに基
づくゲートパルスと座標データとの間のタイミング差を
補償するために設けられており、もしもゲートパルスの
タイミングが座標データよりも早い場合には、シフトレ
ジスタ5を設ける代わりに、ゲートパルス発生器9の前
段に適当な遅延回路を設ける必要がある。
波高検知器8から出力される波高選別された特定波高パ
ルスは、ゲートパルス発生器9で適当なパルス幅のゲー
トパルスに変換され、ゲート6に印加される。
イメージデータバッファ10は、たとえばCRT画面の
ドツト数が1024 X 1024であれば、これに対
応するメモリ容量をもつ、しかし、各ドツトごとに輝度
情報をもたせるため、1バイトのデータを設定可能とす
る。このためメモリ容量は、 1024X1024X1
バイト(1Mバイト)となる。
ゲート6から出力されるXおよびYの座標データはその
ままイメージデータバッファ10のアドレスとなり、そ
のアドレスに輝度情報が書き込まれる。各アドレスの輝
度情報は元素の濃度分布を表すように、Ji初0にクリ
アされ、その後同−アドレスへのアクセスが行われるた
びにその輝度情報を+1して更新する。この結果、指定
された元素の濃度に比例した輝度情報が得られ、CRT
には元素濃度に応じて明るさが変化する元素分布像が表
示できる。
さらにイメージデータバッファ10の各アドレスのデー
タ長を複数バイトとし、複数種類の元素の輝度情報およ
びカラー属性情報を格納して5元素ごとに異なる色で複
数の元素の分布を多重表示することも可能である。
第5図にこのような元素分布像の表示例を示す。
図示のように、Fe−像、Hg−像、C−像を単独にあ
るいは任意に多重化して観察可能にする。
【発明の効果〕
本発明によれば、X線の検出時刻と一致するエネルギー
損失電子のみを取り出して信号とするため、S/Nが格
段に向上し、良好な画質の元素分布像を得ることができ
る。
またS/Nが良いため、高分解能電子顕微鏡のように極
めて弱い電子線強度を用いて観察するものにおいて有効
であり、同様に弱い電子線強度でも十分に良質の画像が
得られることから、試料を電子線により傷つける度合も
僅かにすることができる。
また従来方法のような電子分光器を必要としないので1
通常の高分解能電子顕微鏡がそのまま利用できる利点が
あり9コスト上も有利である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の原理図、第2図は本発明の作用を示す
タイムチャート第3図は本発明の1実施例の構成図、第
4図は入射位置検出器の例を示す説明図、第5図は元素
分布の表示例を示す説明図、第6図は電子の非弾性散乱
の説明図、第7図は散乱電子の損失エネルギースペクト
ルの説明図である。 第1図中 1:電子ビームコラム 2:試料 3;入射位置検出器 4:座標データ変換器 5:シフトレジスタ 6:ゲート 7:X線検出器 8:波高検知器 10:イメージデータバッファ 11:表示制御部 12 : CRT

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 電子ビームを試料に照射して試料を透過したエネルギー
    損失電子の像を、結像面に拡大投影する電子ビームコラ
    ムと、 電子ビームコラムの結像面上の電子入射位置を高速で検
    出する入射位置検出器と、 電子ビームコラム内の試料から放出されるX線を検出す
    るX線検出器と、 X線検出器から出力されるX線パルスについて、指定さ
    れた特定の元素に対応する波高のX線パルスを弁別する
    波高検知器と、 入射位置検出器から出力される入射位置データを、波高
    検知器から出力される波高選別された特定波高パルスに
    よりゲート選別するゲート回路と、ゲート選別された入
    射位置データを蓄積するイメージデータバッファとを備
    え、 試料中の指定された元素のイメージデータのみを取り出
    して観察可能にしたことを特徴とするコインシデンス型
    電子顕微鏡。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007220529A (ja) * 2006-02-17 2007-08-30 Hitachi High-Technologies Corp 電子顕微鏡
WO2019239497A1 (ja) * 2018-06-12 2019-12-19 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置

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