JPH02302727A

JPH02302727A - カラー液晶表示装置

Info

Publication number: JPH02302727A
Application number: JP1124908A
Authority: JP
Inventors: Keizo Yoshizako; 吉迫　圭三
Original assignee: Sanyo Electric Co Ltd
Current assignee: Sanyo Electric Co Ltd
Priority date: 1989-05-18
Filing date: 1989-05-18
Publication date: 1990-12-14

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】・、イ）産業上の利用分野本発明はカラー液晶表示装置のカラーフィルターＦＲ造
に関するものである。

（ロ）従来の技術近年、多数の表示電極で高密度の画素表示を行つｔコめ
のＣα品表示装置として、アクテブマトリクスヤの液晶
表示装置が開発されている。このような液晶表示装置は
、第３図の如きアクテブマトリクス構造の表示電極基板
とこれに対向する共通電俸基板との間に液晶物質を充填
したものである。

尚、第３図の表示電極基板基板は、行列配置された多数
の表示電極７・・・が行方向に半周期ずれたデルタ配置
ｎと称される配置で形成されており、行ノｉ向に表示電
極７・・・間を延在した走査線の一部がなすゲート電極
２と列方向に表示電極７・・・間を蛇行１−て延在した
信号線の一部がなすドレイン電極９とアモルファス半導
体層４とソース１ｔｉ８とからなる薄膜トランジスタが
表示基板７への信号供給用の能動素子を構成している。

このような従来のアクテブマトリクス型液晶表示装置に
カラーフィルターを備えた１足来のカラー１α晶表示装
置の断面溝道を第２図に示し、その製造Ｅ程は以下の通
りである。

以下の■〜■工程で表示電極基板を得る。

１１　　第一の透明絶縁基板１上に配線用金属膜を１！
　ＭＪヒフオドマスク及びフォトレジストを用いてゲー
ト電極２を兼用した走査線であるゲートラインを形成す
る工程。

（２・　　光ＣＶＤ装置等を用いてゲート絶縁膜３、゛
ト導体層１、パッシベーション用絶縁膜５を順次成膜す
る工程。

１１３７オトマスク及びフォトレジストを用いてパッシ
ベーション用絶縁膜５のエツチングを行う工程、・！Ｄ　光Ｃ■Ｄ装置等を用いて不純物半導体層６を成
膜する工程。

■　７オトマスク及びフォトレジストヲ用いて゛ト導体
層４、不純物半導体層６．６及びゲート絶縁膜３の工７
チングを行う工程。

■　透明導電膜を成膜し７オトマスク及び７オトレジス
トを用いて表示電極７を形成する工程。

７　■　配線用金属膜の成膜を行い、フォトマスク及び
フォトレジストを用いてドレイン電゛極９が延在した信
号線及びソース電極を形成する工程。

■　不純物半導体膜６．６をエツチングする工程。

■　−り記の工程を経て作製した基板上にポリゴミ＋−
二φの配向膜を形成し、配向処理を施す工程。

次の０１程で共通電極基板を１τ）る。

？　第二の透明絶縁基板１４上に上記表示を極３５板の
共通電極７・・・に対応する位置にカラーフィルター１
３を形成し、その後共通電極１２、配向１１桑１０を順
次形成し配向処理を施す工程。

以トの工程を経て作製した２枚の電極基板をスヘーサー
を介して貼り合わせ、その間に液晶物質１１を充填して
カラー液晶表示装置を完成する。

（ハ）発明が解決しようとする課題前述のに口きカラー液晶表示装置は、薄型のラットディ
スプレイの実現できる長所が注目されているが、現在の
ところＣＲＴに比較しても高価格であるために、これが
曹及の障害になっており、製造コストの低減が今後の課
題になっている。

本発明は、カラーフィルターの搭載構造を工夫する二と
によって、製造コストの低減を図ったカラー液晶表示装
置を提供するものである。

（ニ）課題を解決するための手段本発明のカラー液晶表示装置は、カラーフィルターを表
示１を極基板側に設けた構造であって、表示電極をパタ
ーニングしたカラーレジストを表示電極りに残存せしめ
てカラーフィルターとなしたものである。即ち、表示電
極のエツチング用レジストとカラーフィルターを共用し
たカラーフィルター構成を用いる。

（ホ１作用本発明によれば９表示電極のエツチング用レジストとカ
ラーフィルターを共用するので、従来と同じ性能の液晶
カラー表示装置を低い製造コストでｆヤ製可能なカラー
液晶表示装置が得られる。

（へ）実施例本発明のカラー液晶表示装置の一実施例の部分断面を第
１図に示し、同図の装置構成を以下の製造工程順に従っ
て説明する。

以下の■〜■工程で表示電極基板を得る。

（ｐ　第一の透明絶縁基板１上に配線用金属膜を成膜し
フォトマスク及び７オトレジストを用いてデート電極２
を兼用した走査線であるゲートラインを形成する工程。

７　光ＣＶＤ装置等を用いてゲート絶縁膜３、′ト導体
層４、パッシベーション用絶縁膜５を順次成膜するに程
。

蒐＠　７オトマスク及びフォトレジストを用いてパッシ
ベーション用絶縁膜５のエツチングを行う１：程。

・１）　　光ＣＶＤ装置等を用いて不純物半導体層６を
成膜する工程。

・５）　７オトマスク及びフォトレジストを用いて半導
体層４、不純物半導体層６．６及びゲート絶縁膜３のエ
ッチ、ングを行う工程。

ｔ（ｉ＋　　配線用金属膜の成膜を行い、７オトマスク
幌び）オドレジストを用いてドレイン電極９が延αした
信号線及びソース１１Ｘ極を形成する工程。

■　透明導電膜を成膜しフォトマスク及びカラーレジス
トを用いて、循環的に配置した多数の２／Ｉ−１青、緑
のカラーレジストパターンを得、表示電極７・・・を形
成し、各表示電極７・・・上に重畳した赤、青、緑のカ
ラーレジストパターンをカラーフィルター１３として残
在させる。

ここで用いるカラーレジストは、例えば、水溶性感光樹
脂（例えば、ＰＶＡ−スチルバゾル型の感光性樹脂）に
顔料を添加して作製できる（信学技報、”１’０１．８
８、Ｎｏ、３５０参照）（ε：　不純物半導体膜６．６
をエツチングする工程。

・豆・　ヒ記の工程を経て作製した基板上にポリイミド
等の配向膜を形成し、配向処理を施す工程。

次の０工程で共通を極基板を得る。

？　第二の透明絶縁基板１４上に共通を極１２、配向膜
１０を順次形成し配向処理を施す工程。

以トの工程を経て作製した２枚のｔ極基板をスペーサー
を介して貼り合わせ、その間に液晶物質１１を充填して
カラー液晶表示装置を完成する。

（ト）発明の効果本発明によれば、表示電極のエツチング用レジストとカ
ラーフィルターを共用するので、個別に独立したカラー
フィルターを製造する工程を必要とせず、従来装置と同
様のカラー表示機能を備えたカラー液晶表示装置を低コ
ストで製造できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は＋５と明のカラー液晶表示装置の部分断面図、
第２図は従来装置の部分断面図、第３図はアクテブマト
リクス型の表示１ｔｆｉ基板の平面図である。１・・・第一の透明絶縁膜基板、２・・・ゲート電極、
；１・・・ゲート絶縁膜、４・・・半導体層、７・・・
表示電極、８・・・ソース電極、９・・・ドレイン電極
、１１・・・液晶物質、１２・・・共通を極、１３・・
・カラーフィルター、１−１・・・第二の透明絶縁膜基
板。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）行列配置された多数の表示電極と該表示電極のそ
れぞれに重畳したカラーフィルターとを備えた表示電極
基板、該表示電極基板に対向した共通電極を備えた共通
電極基板、上記両基板間に封入した液晶物質からなるカ
ラー液晶表示装置に於て、上記カラーフィルターは表示
電極をパターニングしたカラーレジストを表示電極上に
残存せしめてなることを特徴とするカラー液晶表示装置
。