JPH0229954A - 光ディスク基板および媒体の製造方法 - Google Patents
光ディスク基板および媒体の製造方法Info
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- JPH0229954A JPH0229954A JP17943388A JP17943388A JPH0229954A JP H0229954 A JPH0229954 A JP H0229954A JP 17943388 A JP17943388 A JP 17943388A JP 17943388 A JP17943388 A JP 17943388A JP H0229954 A JPH0229954 A JP H0229954A
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光ディスク基板および媒体の製造方法に関す
る。
る。
一般に情報処理装置の外部記録装置として使用される光
ディスク装置の光ディスク媒体は、記録情報の多様化に
伴なって益々記録密度の向上と高信頼性が要求されてい
る。
ディスク装置の光ディスク媒体は、記録情報の多様化に
伴なって益々記録密度の向上と高信頼性が要求されてい
る。
一方、光ディスク媒体は媒体の耐食性、耐環境性の弱さ
があり、特に光磁気ディスク媒体に使われるＴｂ、Ｆｅ
、Ｃｃの膜は耐候性が悪く、光ディスク基板からの水分
の透過により信頼性が阻害される。
があり、特に光磁気ディスク媒体に使われるＴｂ、Ｆｅ
、Ｃｃの膜は耐候性が悪く、光ディスク基板からの水分
の透過により信頼性が阻害される。
この問題を解決する方法として第２図に示すように、従
来の光ディスク基゛板および媒体の製造方法は、基板成
形工程Ｐ１でポリメチルメタアクリルレート基板やポリ
カーボネート基板を用いて形成する代りに、ガラス基板
や最近では、ポリオレフィン基板やエポキシ基板が使わ
れたり光ディスり基板の表裏に表面スバツタ工程Ｐ２や
裏面スバツタ工程Ｐ３でのスパッタにより金属酸化膜を
形成するなどの方法が採用され、その後半導体膜付与工
程Ｐ４で媒体膜が付与されていた。
来の光ディスク基゛板および媒体の製造方法は、基板成
形工程Ｐ１でポリメチルメタアクリルレート基板やポリ
カーボネート基板を用いて形成する代りに、ガラス基板
や最近では、ポリオレフィン基板やエポキシ基板が使わ
れたり光ディスり基板の表裏に表面スバツタ工程Ｐ２や
裏面スバツタ工程Ｐ３でのスパッタにより金属酸化膜を
形成するなどの方法が採用され、その後半導体膜付与工
程Ｐ４で媒体膜が付与されていた。
しかしながら、このような従来の光ディスク基板および
媒体の製造方法は、ガラス基板を使えば高価である土俵
工程で溝形成が必要であるし、エポキシ基板は量産性に
劣るし、スパッタ法は設備が高価であり、光ディスク基
板および媒体の信頼性に欠けるという欠点がある。
媒体の製造方法は、ガラス基板を使えば高価である土俵
工程で溝形成が必要であるし、エポキシ基板は量産性に
劣るし、スパッタ法は設備が高価であり、光ディスク基
板および媒体の信頼性に欠けるという欠点がある。
本発明の光ディスク基板および媒体の製造方法は光ディ
スク基板および媒体のポリカーボネート基板の表面にシ
リコン系有機化合物であるシラノール基を持つ５ｉ−０
−３ｉ鎖構造のエチルシリケートをスピンコード又はス
プレーフート又はディップコートにより塗布し空気中に
放置することにより空気中の水分と加水分解反応をおこ
させ、その後６０〜９０℃で１５分〜３０分間程度乾燥
させ、シリコン酸化物層を基板上に層状に百〜数百オン
グストロームの厚さに形成させたあと、媒体膜を付与す
るように構成される。
スク基板および媒体のポリカーボネート基板の表面にシ
リコン系有機化合物であるシラノール基を持つ５ｉ−０
−３ｉ鎖構造のエチルシリケートをスピンコード又はス
プレーフート又はディップコートにより塗布し空気中に
放置することにより空気中の水分と加水分解反応をおこ
させ、その後６０〜９０℃で１５分〜３０分間程度乾燥
させ、シリコン酸化物層を基板上に層状に百〜数百オン
グストロームの厚さに形成させたあと、媒体膜を付与す
るように構成される。
このようにして得られた光ディスク媒体はシリコン酸化
物層が網目状に化学結合し、巨大化して光ディスク基板
と強固に結合し、光ディスク基板の吸水性を低下させ、
水分の透過をおさえ、その結果、光ディスク媒体に対す
る水分の影響を防ぎ、信頼性に優れた光ディスク媒体が
得られる。
物層が網目状に化学結合し、巨大化して光ディスク基板
と強固に結合し、光ディスク基板の吸水性を低下させ、
水分の透過をおさえ、その結果、光ディスク媒体に対す
る水分の影響を防ぎ、信頼性に優れた光ディスク媒体が
得られる。
なお、本発明の光ディスク基板および媒体の製造方法で
使用する有機シリコン化合物はエチルシリケートをアル
フール系溶剤に溶解し、コロイド状に安定化したもので
、膜厚はアルコールの希釈量によってコントロールする
が適当な濃度の範囲は、０．１〜１％程度で膜厚は百〜
数百オングストロームの範囲である。これ以上の厚さに
形成するとシリコン酸化物自体の内部応力により皮膜が
破壊されるため、薄膜の方が望ましい。
使用する有機シリコン化合物はエチルシリケートをアル
フール系溶剤に溶解し、コロイド状に安定化したもので
、膜厚はアルコールの希釈量によってコントロールする
が適当な濃度の範囲は、０．１〜１％程度で膜厚は百〜
数百オングストロームの範囲である。これ以上の厚さに
形成するとシリコン酸化物自体の内部応力により皮膜が
破壊されるため、薄膜の方が望ましい。
次に、本発明の実施例について、図面を参照して説明す
る。
る。
第１図は本発明の一実施例を示す製造工程図である。
第１図に示す光ディスク基板および媒体の製造方法は、
基板成形工程Ｐ１と、全面ディップコート工程Ｐ２と、
乾燥加水分解工程Ｐ３と、媒体膜付与工程Ｐ４とを含ん
で構成される。
基板成形工程Ｐ１と、全面ディップコート工程Ｐ２と、
乾燥加水分解工程Ｐ３と、媒体膜付与工程Ｐ４とを含ん
で構成される。
基板成形工程Ｐ１でポリカーボネートで基板成形された
光ディスク基板にエチルシリケート０．１％アルコール
溶液を全面ディップコート工程Ｐ２でディップコートす
ることにより塗布し、乾燥加水分解工程Ｐ３で６０℃の
恒温槽に３０分間放置して加水分解反応をおこさせ、シ
リコン酸化皮膜を形成させた後、 媒体付与工程Ｐ４で媒体膜を付与する。
光ディスク基板にエチルシリケート０．１％アルコール
溶液を全面ディップコート工程Ｐ２でディップコートす
ることにより塗布し、乾燥加水分解工程Ｐ３で６０℃の
恒温槽に３０分間放置して加水分解反応をおこさせ、シ
リコン酸化皮膜を形成させた後、 媒体付与工程Ｐ４で媒体膜を付与する。
本発明の光ディスク基板および媒体の製造方法は、成形
基板に表面スパッタおよび裏面スパッタを施こす代りに
、全面ディップコートならびに乾燥加水分解を施こすこ
とにより、吸水性および水分透過性を少なくできるため
、光ディスク基板および光ディスク媒体の信頼性を向上
させることができるといり効果がある。
基板に表面スパッタおよび裏面スパッタを施こす代りに
、全面ディップコートならびに乾燥加水分解を施こすこ
とにより、吸水性および水分透過性を少なくできるため
、光ディスク基板および光ディスク媒体の信頼性を向上
させることができるといり効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示す製造工程図、第２図は
従来の一例を示す製造工程図である。 Ｐｌ・・・・・・基板成形工程、Ｐ２・・・・・・全面
ディップコート工程、Ｐ３・・・・・・乾燥加水分解工
程、Ｐ４・・・・・・媒体膜付与工程、Ｐ５・・・・・
・表面スバツタ工程、Ｐ６・・・・・・裏面スバツタ工
程。 代理人 弁理士 内 原 晋 ＭＺ回
従来の一例を示す製造工程図である。 Ｐｌ・・・・・・基板成形工程、Ｐ２・・・・・・全面
ディップコート工程、Ｐ３・・・・・・乾燥加水分解工
程、Ｐ４・・・・・・媒体膜付与工程、Ｐ５・・・・・
・表面スバツタ工程、Ｐ６・・・・・・裏面スバツタ工
程。 代理人 弁理士 内 原 晋 ＭＺ回
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、光ディスク基板を形成する基板成形工程と、前記光
ディスク基板にディップコートを施こす全面ディップコ
ート工程と、前記ディップコートに加水分解反応を行な
わせシリコン酸化物層を形成する乾燥加水分解工程とを
含むことを特徴とする光ディスク基板の製造方法。 ２、光ディスク基板を形成する基板成形工程と、前記光
ディスク基板にディップコートを施こす全面ディップコ
ート工程と、前記ディップコートに加水分解反応を行な
わせシリコン酸化物層を形成する乾燥加水分解工程と、
前記シリコン酸化物層の表面に媒体層を形成する媒体膜
付与工程とを含むことを特徴とする光ディスク媒体の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17943388A JPH0758566B2 (ja) | 1988-07-18 | 1988-07-18 | 光ディスク基板および媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17943388A JPH0758566B2 (ja) | 1988-07-18 | 1988-07-18 | 光ディスク基板および媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0229954A true JPH0229954A (ja) | 1990-01-31 |
| JPH0758566B2 JPH0758566B2 (ja) | 1995-06-21 |
Family
ID=16065779
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17943388A Expired - Fee Related JPH0758566B2 (ja) | 1988-07-18 | 1988-07-18 | 光ディスク基板および媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0758566B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06180867A (ja) * | 1992-12-15 | 1994-06-28 | Victor Co Of Japan Ltd | 光ディスク用スタンパ及びその製造方法 |
-
1988
- 1988-07-18 JP JP17943388A patent/JPH0758566B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06180867A (ja) * | 1992-12-15 | 1994-06-28 | Victor Co Of Japan Ltd | 光ディスク用スタンパ及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0758566B2 (ja) | 1995-06-21 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |