JPH02296710A - 炭素質磁性材料の製造方法 - Google Patents
炭素質磁性材料の製造方法Info
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- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、炭素質磁性材料の製造方法に関する。さらに
詳しくは、室温で強磁性を有し、しかも、軽量で、磁性
の均一性に優れた炭素質磁性材料を製造することのでき
る炭素質磁性材料の製造方法に関する。
詳しくは、室温で強磁性を有し、しかも、軽量で、磁性
の均一性に優れた炭素質磁性材料を製造することのでき
る炭素質磁性材料の製造方法に関する。
[従来技術と発明が解決しようとする課題]一般に、有
機化合物から得られる磁性材料(有機磁性材料)は、無
機金属等から得られる磁性材料(無機磁性材料)と比較
して、磁化の均一性。
機化合物から得られる磁性材料(有機磁性材料)は、無
機金属等から得られる磁性材料(無機磁性材料)と比較
して、磁化の均一性。
集積性、加工性等が向−ヒするという優れた特性が期待
される。
される。
このような有機磁性材料は、その特性により、磁気記録
材料、電磁気シールド材等の種々の用途に好適に使用す
ることができる。
材料、電磁気シールド材等の種々の用途に好適に使用す
ることができる。
従来より知られている有機磁性材料としては、たとえば
、下記の■〜■のような有機磁性材料がある。
、下記の■〜■のような有機磁性材料がある。
■(岩村秀 第3回「大学と科学」公開シンポジウム予
稿集42ページ、1980年)に記載されている高スピ
ン多屯度を有する有機磁性材料がある。
稿集42ページ、1980年)に記載されている高スピ
ン多屯度を有する有機磁性材料がある。
しかしながら2この磁性材料は、液体ヘリウムによる極
低温の温度領域においてのみ強磁性を示し、かつ室温で
の安定性に欠けるという問題点を有する。
低温の温度領域においてのみ強磁性を示し、かつ室温で
の安定性に欠けるという問題点を有する。
■縮合多環多核芳香族樹脂(COPNA樹脂)の研究に
より見出された室温で強磁性を示す高分子の有a磁性材
料(炭素材料学会2月セミナー予稿集13ページ、19
89年;大谷等の群馬大学研究グループ)がある。
より見出された室温で強磁性を示す高分子の有a磁性材
料(炭素材料学会2月セミナー予稿集13ページ、19
89年;大谷等の群馬大学研究グループ)がある。
しかしながら、この有機磁性材料は、強磁性の保持力、
飽和磁化等が低く、また、粉砕されると強磁性が消失し
てしまうという問題点を有する。
飽和磁化等が低く、また、粉砕されると強磁性が消失し
てしまうという問題点を有する。
Q)ポリアクリロニトリルを900〜1,100℃で熱
分解し、その一部にα−鉄と同程度の飽和磁化を得たと
する有機磁性材料(Synthetic Metalg
27巻B615.1989年;ソ連研究グループ)
がある。
分解し、その一部にα−鉄と同程度の飽和磁化を得たと
する有機磁性材料(Synthetic Metalg
27巻B615.1989年;ソ連研究グループ)
がある。
しかしながら、この有Ia、fii性材ネ4は、強磁性
の再現性に欠けるという問題点を有し、また、鉄製のボ
ールミルで粉砕するという工程により製造されているの
で1強磁性不純物(無機磁性材料)を混在しているとも
考えられ、有機磁性材料の優れた前記特性を充分に発揮
することができないという問題点を有する。
の再現性に欠けるという問題点を有し、また、鉄製のボ
ールミルで粉砕するという工程により製造されているの
で1強磁性不純物(無機磁性材料)を混在しているとも
考えられ、有機磁性材料の優れた前記特性を充分に発揮
することができないという問題点を有する。
一方、有機化合物からなる磁性材料(有機磁性材料)の
製造方法として、゛屯解重合で得られたポリアニリンを
延伸配向させて、磁性を有する高分子フィルムを得る高
分子フィルムの製造方法(4′!開閉63−19974
1号公報)が知られているが、この製造方法による高分
子フィルムは、充分な磁性を11#ることができないと
いう問題点を有する。
製造方法として、゛屯解重合で得られたポリアニリンを
延伸配向させて、磁性を有する高分子フィルムを得る高
分子フィルムの製造方法(4′!開閉63−19974
1号公報)が知られているが、この製造方法による高分
子フィルムは、充分な磁性を11#ることができないと
いう問題点を有する。
また、前記有機磁性材料の製造方法として、鉄酸化物を
混合させた有機磁性材料の製造方法(特開昭63−77
931号公報)が知られているが、この製造方法による
有機磁性材料は、鉄酸化物が混在しているので、有機磁
性材料の優れた前記特性を充分に発揮することができな
いという問題点を有する。
混合させた有機磁性材料の製造方法(特開昭63−77
931号公報)が知られているが、この製造方法による
有機磁性材料は、鉄酸化物が混在しているので、有機磁
性材料の優れた前記特性を充分に発揮することができな
いという問題点を有する。
したがって、室温で強磁性を有し、しかも、有機化合物
から得られることによる軽量性、磁化の均一性、集積性
、加工性等に優れた特性を有する有機磁性材料が望まれ
ている。
から得られることによる軽量性、磁化の均一性、集積性
、加工性等に優れた特性を有する有機磁性材料が望まれ
ている。
本発明は前記咥情に基づいてなされたものである。
すなわち、本発明の目的は、室温で強磁性を有し、しか
も、軽I−で、磁性の均一性に優れた炭素?j磁性材料
の簡便な製造方法を提供することにある。
も、軽I−で、磁性の均一性に優れた炭素?j磁性材料
の簡便な製造方法を提供することにある。
[前記課題を解決するための手段]
前記課題を解決するため、本発明溝らが鋭意、検jiJ
を重ねた結果、低分子量有機化合物を、特定の温度範囲
内で化学気相蒸着(熱分解CVD)を行なうことにより
、室温において強磁性を有する炭素質磁性材料を製造す
ることができることを見出して本発明に到達した。
を重ねた結果、低分子量有機化合物を、特定の温度範囲
内で化学気相蒸着(熱分解CVD)を行なうことにより
、室温において強磁性を有する炭素質磁性材料を製造す
ることができることを見出して本発明に到達した。
すなわち、前記課題を解決するための本発明の41i或
は、低分子量有機化合物を、不活性雰囲気下で、500
〜1,500℃の温111範囲で化学気相蒸着を行なう
ことを特徴とする炭素質磁性材料1の製造方法である。
は、低分子量有機化合物を、不活性雰囲気下で、500
〜1,500℃の温111範囲で化学気相蒸着を行なう
ことを特徴とする炭素質磁性材料1の製造方法である。
以下に本発明を具体的に説明する。
本発明の製造方法において、前記低分子量有機化合物は
、加熱することにより分解して炭素質材料(炭化物)に
なり、実質的に鉄、ニー2ケル、コバルト等の無機金属
を含有しないものであれば特に制限はない。
、加熱することにより分解して炭素質材料(炭化物)に
なり、実質的に鉄、ニー2ケル、コバルト等の無機金属
を含有しないものであれば特に制限はない。
前記低分子ω有機化合物の分子J−:は、通常500以
下、好ましくは16〜300である。
下、好ましくは16〜300である。
前記低分子量有機化合物としては、たとえば、■炭素数
が1〜20であり、鎖状もしくは環状の)に化水素化合
物(以下、有機化合物Aと言うことがある。)、■酸素
原子を含んだ環状炭化水素化合物(以下、有機化合物B
と言うことがある。)、■窒素原子を含んだ環状炭化水
素化合物(以下、有機化合物Cと言うことがある。)を
挙げることができる。
が1〜20であり、鎖状もしくは環状の)に化水素化合
物(以下、有機化合物Aと言うことがある。)、■酸素
原子を含んだ環状炭化水素化合物(以下、有機化合物B
と言うことがある。)、■窒素原子を含んだ環状炭化水
素化合物(以下、有機化合物Cと言うことがある。)を
挙げることができる。
ボj記有機化合物Aの具体例としては、メタン。
エタン、エチレン、プロパン、プロピレン、ブタン、ペ
ンタン、ベンゼン、トルエン、キシレンシクロへキサン
、アダマンタン、ノルボルナン、トリメチレンノルボル
ナン、デカリン、ナフタレン、ナフサなどを挙げること
ができる。
ンタン、ベンゼン、トルエン、キシレンシクロへキサン
、アダマンタン、ノルボルナン、トリメチレンノルボル
ナン、デカリン、ナフタレン、ナフサなどを挙げること
ができる。
これらの中でも好ましいのは、メタン、ベンゼンおよび
アダマンタンである。
アダマンタンである。
前記有機化合物Bの具体例としては、フェノール類、ビ
スフェノール類、カルボン酸系環状炭化水素化合物、ジ
カルボン酸系環状炭化水素化合物、アルデヒド系環状炭
化水素化合物、ケトン系環状)R化水素化合物、エステ
ル系環状炭化水素化合物、フラン、ピラジン、クロメン
、クロマン、ベンゾフラン、キサンチン系化合物などを
挙げることができる。
スフェノール類、カルボン酸系環状炭化水素化合物、ジ
カルボン酸系環状炭化水素化合物、アルデヒド系環状炭
化水素化合物、ケトン系環状)R化水素化合物、エステ
ル系環状炭化水素化合物、フラン、ピラジン、クロメン
、クロマン、ベンゾフラン、キサンチン系化合物などを
挙げることができる。
これらの中でも好ましいのは、ビスフェノール類である
。
。
前記有機化合物Cの具体例としては、オキサゾール、ベ
ンツオキサゾール、ビリジノール、ピコリン酸、カルバ
ミン酸ベンジルエステル、フタルイミド、カルバニリド
、フェニルアラニン、アニリン、ピリジン、キノリン、
ルチジン、ピロールなどを挙げることができる。
ンツオキサゾール、ビリジノール、ピコリン酸、カルバ
ミン酸ベンジルエステル、フタルイミド、カルバニリド
、フェニルアラニン、アニリン、ピリジン、キノリン、
ルチジン、ピロールなどを挙げることができる。
これらの中でも好ましいのは、ビリジノールおよびビロ
ールである。
ールである。
これらの低分子丑有機化合物は、一種中独で用いてもよ
いし、また、二種以上を混合して用いてもよい。
いし、また、二種以上を混合して用いてもよい。
本発明の製造方法においては、前記低分子付有機化合物
を不活性雰囲気下で化学気相薄着法(所謂、熱分解CV
D法)により、目的とする炭素質磁性材料を製造する。
を不活性雰囲気下で化学気相薄着法(所謂、熱分解CV
D法)により、目的とする炭素質磁性材料を製造する。
前記不活性雰囲気としては、たとえば、窒素、アルゴン
、ヘリウム等の不活性ガスを常圧で流通させる不活性ガ
ス雰囲気であってもよく、また真空中であってもよい。
、ヘリウム等の不活性ガスを常圧で流通させる不活性ガ
ス雰囲気であってもよく、また真空中であってもよい。
前記不活性雰囲気が不活性ガスを流通させる方式を用い
る場合、不活性ガスの流速は1通常、5〜1,000
m27分に設定し、好ましくは10〜100 m27分
に設定する。
る場合、不活性ガスの流速は1通常、5〜1,000
m27分に設定し、好ましくは10〜100 m27分
に設定する。
本発明の製造方法において、化学気相が着を行なう際の
温度は、 500〜1,500℃の範囲内に設定し、好
ましくは800〜1.300℃の範囲内に設定する。
温度は、 500〜1,500℃の範囲内に設定し、好
ましくは800〜1.300℃の範囲内に設定する。
熱分解CVD法により得られる炭素質材料は、ベンゼン
環六角形網目構造の面配向性が高く、層間方向には配向
性の低い二次元配向性の物質であることが知られている
(「新しい工業材料の科学」金属出版1967年)、ま
た、黒鉛化に至らない炭素質材料の全般的な特長として
、その電子スピン共鳴スペクトル(E S R)の測定
により、600〜1.100℃の温度領域で多量の不対
電子の存在(スピン(,1,IO+z〜1Q2Gスピン
/g)が認められ、それよりも高温で処理すると、急激
にスピン着は減少し、1,500℃を超えるとほとんど
消失することが知られている8強磁性の発現には、スピ
ンの存在とともに、それらの強磁性相互作用が不可欠で
ある。
環六角形網目構造の面配向性が高く、層間方向には配向
性の低い二次元配向性の物質であることが知られている
(「新しい工業材料の科学」金属出版1967年)、ま
た、黒鉛化に至らない炭素質材料の全般的な特長として
、その電子スピン共鳴スペクトル(E S R)の測定
により、600〜1.100℃の温度領域で多量の不対
電子の存在(スピン(,1,IO+z〜1Q2Gスピン
/g)が認められ、それよりも高温で処理すると、急激
にスピン着は減少し、1,500℃を超えるとほとんど
消失することが知られている8強磁性の発現には、スピ
ンの存在とともに、それらの強磁性相互作用が不可欠で
ある。
しかしながら、従来の炭J質材料は多量のスピンの存在
にもかかわらず、互いの配向が無いために強磁性が認め
られていなかった。
にもかかわらず、互いの配向が無いために強磁性が認め
られていなかった。
本発明の方法で得られる炭J質材料は、熱分解温度を制
御しているので、熱分解炭素の本来有している二次配向
性が活かされ、多量に存在しているスピン間の強磁性相
互作用が容易になり、結果的に強磁性が発現したもので
ある。
御しているので、熱分解炭素の本来有している二次配向
性が活かされ、多量に存在しているスピン間の強磁性相
互作用が容易になり、結果的に強磁性が発現したもので
ある。
熱分解CVD法において、スピンを発生させるためには
、三配位の5p2混成の炭素六角形網目中に、四配位の
5 p 3混成の炭素が混在することが必須である。こ
れを例示すると、以下の通りである。
、三配位の5p2混成の炭素六角形網目中に、四配位の
5 p 3混成の炭素が混在することが必須である。こ
れを例示すると、以下の通りである。
[500〜1,500℃で処理] [1,500℃以
−にで処理]すなわち、この熱分解CVDの処理温度が
1.500℃を超えると、混在している3 p 3混r
&炭素が熱的に安定なSP2混成炭素に転換し、その結
果、スピン帽が減少し、強磁性が消失することになる。
−にで処理]すなわち、この熱分解CVDの処理温度が
1.500℃を超えると、混在している3 p 3混r
&炭素が熱的に安定なSP2混成炭素に転換し、その結
果、スピン帽が減少し、強磁性が消失することになる。
また、この処理温度が500℃未満の低温度では、熱分
解が1−分に行なわれず、スピンも生成しない。
解が1−分に行なわれず、スピンも生成しない。
なお、前記低分子【−′有機化合物には、分解し易いも
のと1分解し難いものとがあり、化学気相蒸着を行なう
際の温度として好適な温度範囲を一概に規定することが
できないが、−殻内には800〜1.300℃の範囲内
で蒸着を行なうと、 sp2混成の炭素とsp3混成の
炭素との混在比が、強磁性の発現に適する比になる。
のと1分解し難いものとがあり、化学気相蒸着を行なう
際の温度として好適な温度範囲を一概に規定することが
できないが、−殻内には800〜1.300℃の範囲内
で蒸着を行なうと、 sp2混成の炭素とsp3混成の
炭素との混在比が、強磁性の発現に適する比になる。
化学気相蒸着を行なう際の温度を前記温度範囲内に設定
するにあたっての温度モードとしては特に制限はなく、
昇温後、温度を所定温度に一定時間保持する方式、温度
を上下にスイングする方式などの様々な温度モードが適
用可能であるが、通常、適宜の昇温速度で所定温度に昇
温させた後、温度を所定温度に一定時間保持する方式が
採用される。
するにあたっての温度モードとしては特に制限はなく、
昇温後、温度を所定温度に一定時間保持する方式、温度
を上下にスイングする方式などの様々な温度モードが適
用可能であるが、通常、適宜の昇温速度で所定温度に昇
温させた後、温度を所定温度に一定時間保持する方式が
採用される。
なお、化学気相蒸着を行なった後、再度同じ所定温度で
熱処理を行なうことにより、安定した特性の炭素質磁性
材料を得ることができる。
熱処理を行なうことにより、安定した特性の炭素質磁性
材料を得ることができる。
化学気相蒸着を行なうのに用いる炉としては、500〜
1.!1ioo℃の範囲内に制御することができるもの
であれば特に制限はないが、不純物等の混入を防止する
ため1石英製等の保護管を用いている形式の炉が好まし
い、具体的には、赤外線により外部から集光加熱する赤
外線ゴールドイメージ炉を挙げることができる。
1.!1ioo℃の範囲内に制御することができるもの
であれば特に制限はないが、不純物等の混入を防止する
ため1石英製等の保護管を用いている形式の炉が好まし
い、具体的には、赤外線により外部から集光加熱する赤
外線ゴールドイメージ炉を挙げることができる。
以l−のようにして得られる炭素質磁性材料は。
有機化合物からイ!lられた磁性材料であるので、無機
磁性材料と比較して、軽μで、また、磁化の均一性、集
積性、加工性等に優れ、しかも、室温で強磁性を有する
ので、電子材料やitt磁気シールド材料等の分野に好
適に採用することができる。
磁性材料と比較して、軽μで、また、磁化の均一性、集
積性、加工性等に優れ、しかも、室温で強磁性を有する
ので、電子材料やitt磁気シールド材料等の分野に好
適に採用することができる。
[実施例]
(実施例1)
製膜原料としてアダマンタン粉末2gを用い。
これをセラミックス製ポートに入れ、赤外線ゴールドイ
メージ炉中に設こした石英管(内径28mmφ)内に装
入した。前記石英管内にアルゴンガスを送入し、石英管
内を充分にアルゴンガスで置換した。その後、アルゴン
ガス流下(流rJ:;50m交/分)、石英管内を昇温
速度lO℃/分でt 、ooo℃まで昇温し、この温度
で1時間保持して化学気相蒸着を行なった。その後、電
源を切り、放冷した。
メージ炉中に設こした石英管(内径28mmφ)内に装
入した。前記石英管内にアルゴンガスを送入し、石英管
内を充分にアルゴンガスで置換した。その後、アルゴン
ガス流下(流rJ:;50m交/分)、石英管内を昇温
速度lO℃/分でt 、ooo℃まで昇温し、この温度
で1時間保持して化学気相蒸着を行なった。その後、電
源を切り、放冷した。
室温まで冷却後、炉内に銀灰色の金属光沢を有する炭素
質膜が、剥離膜、および鯖甲状の膜として、生成してい
た。
質膜が、剥離膜、および鯖甲状の膜として、生成してい
た。
この生成物の磁化率を振動型磁化率測定装置を用いて測
定した。この生成物は、強磁性物質に特有の磁化曲線が
あられれ、ヒステリシスも認められた。25℃において
測定した飽和磁化は500G/gで保磁力は6000e
であった。
定した。この生成物は、強磁性物質に特有の磁化曲線が
あられれ、ヒステリシスも認められた。25℃において
測定した飽和磁化は500G/gで保磁力は6000e
であった。
(実施例2)
製WJ!!X料としてメタンガスを用い、このメタンガ
スをアルゴンガスに混入した混合ガス[体積比(CHs
/Ar);1150 ]を550ml /分の流量で。
スをアルゴンガスに混入した混合ガス[体積比(CHs
/Ar);1150 ]を550ml /分の流量で。
1.000℃まで加熱した赤外線ゴールドイメージ炉中
に導入した。20分間導入後、赤外線ゴールドイメージ
炉中に導入された前記混合ガスをアルゴンガスに切替え
、50m l /分の流量で、 )、OOO”Cで2時
間保持して化学気相蒸着を行なった。その後、電源を切
り、放冷した。
に導入した。20分間導入後、赤外線ゴールドイメージ
炉中に導入された前記混合ガスをアルゴンガスに切替え
、50m l /分の流量で、 )、OOO”Cで2時
間保持して化学気相蒸着を行なった。その後、電源を切
り、放冷した。
室温まで冷却後、炉内に、実施例1と同様に、銀灰色の
金属光沢を有する炭J質膜が、剥離膜、および鯖甲状の
膜として、生成していた。
金属光沢を有する炭J質膜が、剥離膜、および鯖甲状の
膜として、生成していた。
この生成物の磁化率を振動型磁化率測定装置を用いて測
定した。この生成物は5強磁性物質に特有の磁化曲線が
あられれ、ヒステリシスも認められた。25℃において
測定した飽和磁化は300G/gで保磁力は5000s
であった。
定した。この生成物は5強磁性物質に特有の磁化曲線が
あられれ、ヒステリシスも認められた。25℃において
測定した飽和磁化は300G/gで保磁力は5000s
であった。
(実施例3)
製膜原本4として、2−ピクジノール2gを用いたほか
は、前記実施例1と同様に実施した。
は、前記実施例1と同様に実施した。
得られた生成物には、強磁性物質に特有の磁化曲線が表
われ、ヒステリシスも認められた。
われ、ヒステリシスも認められた。
また、25℃において測定した飽和磁化は100G/g
で保磁力は3000eであった。
で保磁力は3000eであった。
(比較例1)
実施例1において、石英管内を昇温速度10℃/分で1
,600℃まで只温し、この温度で1時間保持して化学
気相蒸着を行なった以外は、実施例1と同様に行なった
。得られた生成物の磁化率を実施例1と同様に測定した
ところ、この生成物には、一般有機物に見られる反磁性
のみが認められ1強磁性は認められなかった。
,600℃まで只温し、この温度で1時間保持して化学
気相蒸着を行なった以外は、実施例1と同様に行なった
。得られた生成物の磁化率を実施例1と同様に測定した
ところ、この生成物には、一般有機物に見られる反磁性
のみが認められ1強磁性は認められなかった。
(評価)
本発明の製造方法によって得られた生成物(炭;lI質
質性性材料は、室温で強磁性を有している。
質性性材料は、室温で強磁性を有している。
一方、比較例の製造方法によって得られた生成物は、強
磁性が認められなかった。また1本発明の製造方法によ
る炭素質磁性材料は、無機磁性材料と異なり、有機化合
物から得られた磁性材料である。
磁性が認められなかった。また1本発明の製造方法によ
る炭素質磁性材料は、無機磁性材料と異なり、有機化合
物から得られた磁性材料である。
[発明の効果]
本発明により、
(+) 有機化合物から得られた磁性材料であるので
、無機磁性材料と比較して、軽量であり、磁化の均一性
、集積性、加工性等に優れた炭素質磁性材料を製造する
ことができ。
、無機磁性材料と比較して、軽量であり、磁化の均一性
、集積性、加工性等に優れた炭素質磁性材料を製造する
ことができ。
(2)シかも、室温で強磁性を有する炭素質磁性材料を
製造することかでさる、 等の利点を有する炭素質磁性材料の製造方法を提供する
ことができる。
製造することかでさる、 等の利点を有する炭素質磁性材料の製造方法を提供する
ことができる。
Claims (1)
- (1)低分子量有機化合物を、不活性雰囲気下で、50
0〜1,500℃の温度範囲で化学気相蒸着することを
特徴とする炭素質磁性材料の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1116778A JPH02296710A (ja) | 1989-05-10 | 1989-05-10 | 炭素質磁性材料の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1116778A JPH02296710A (ja) | 1989-05-10 | 1989-05-10 | 炭素質磁性材料の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02296710A true JPH02296710A (ja) | 1990-12-07 |
Family
ID=14695484
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1116778A Pending JPH02296710A (ja) | 1989-05-10 | 1989-05-10 | 炭素質磁性材料の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02296710A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06100308A (ja) * | 1991-08-22 | 1994-04-12 | Agency Of Ind Science & Technol | 強磁性炭素材料およびその製造方法 |
US5330668A (en) * | 1991-06-25 | 1994-07-19 | Director-General Of Agency Of Industrial Science & Technology | Organic ferromagnetic substance and process for producing same |
JPH07187630A (ja) * | 1991-04-15 | 1995-07-25 | Agency Of Ind Science & Technol | 強磁性炭素材料及びその製造方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6361420A (ja) * | 1986-09-01 | 1988-03-17 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
JPS63230512A (ja) * | 1987-03-17 | 1988-09-27 | Sharp Corp | 鉄族元素またはそれを含む合金を含有する粉末状高結晶性黒鉛 |
-
1989
- 1989-05-10 JP JP1116778A patent/JPH02296710A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6361420A (ja) * | 1986-09-01 | 1988-03-17 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
JPS63230512A (ja) * | 1987-03-17 | 1988-09-27 | Sharp Corp | 鉄族元素またはそれを含む合金を含有する粉末状高結晶性黒鉛 |
Cited By (3)
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---|---|---|---|---|
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US5330668A (en) * | 1991-06-25 | 1994-07-19 | Director-General Of Agency Of Industrial Science & Technology | Organic ferromagnetic substance and process for producing same |
JPH06100308A (ja) * | 1991-08-22 | 1994-04-12 | Agency Of Ind Science & Technol | 強磁性炭素材料およびその製造方法 |
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