JPH02294593A - 渦流ポンプ - Google Patents
渦流ポンプInfo
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- JPH02294593A JPH02294593A JP1115286A JP11528689A JPH02294593A JP H02294593 A JPH02294593 A JP H02294593A JP 1115286 A JP1115286 A JP 1115286A JP 11528689 A JP11528689 A JP 11528689A JP H02294593 A JPH02294593 A JP H02294593A
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- gas
- liquid
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- passage
- pressure
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- Granted
Links
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- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D31/00—Pumping liquids and elastic fluids at the same time
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D15/00—Control, e.g. regulation, of pumps, pumping installations or systems
- F04D15/0027—Varying behaviour or the very pump
- F04D15/0044—Varying behaviour or the very pump by introducing a gas
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D5/00—Pumps with circumferential or transverse flow
- F04D5/002—Regenerative pumps
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Structures Of Non-Positive Displacement Pumps (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
渦流ポンプに関する。
途が拡がっている。
ポンプもその作動原理上優れた撹拌効果を有するため用
いられている。
する。
成され、この昇圧通路2の入口部3に吸込口4が連通形
成されていると共に、昇圧通路2の出口部5に吐出口6
が連通形成され、昇圧通路2の入口部3と出口部5との
間に隔離部7が形成されている。
れており、この羽根車1lの外周部には、複数の小羽根
I2およびこの小羽根12の間の羽根溝13が設けられ
ている。
5が連結され、この吸込配管15の途中に気体吸込口1
6が設けられている。
まれる液体は、羽根車11と共に昇圧通路2をほぼ一周
し、その間に昇圧されて吐出口6から吐出される。この
昇圧通路2に吸込まれた液体には、羽根車11の羽根溝
13内と昇圧通路2との間で渦流が生じ、これが各羽根
溝13で同時に行なわれながら昇圧通路2内を進み、昇
圧通路2を進むにつれて昇圧される。
内に液体の流れが負圧になることによって気体吸込口1
6から気体が吸込まれ、吸込口4を通じて昇圧通路2に
液体と気体とが一緒に吸込まれ、前記のように羽根車1
1と昇圧通路2との間で生じる渦流によって液体と気体
とが撹拌され、気泡が作られる。
させて気泡の皿を多くしたいという市場の要望がある。
を設けた構造では、気体吸込量を十分に増加させること
ができず、他の方法の開発が要望されている。
体吸込量に対する気体吸込量の割合を増加させることが
できる渦流ボンブを提供することを目的とするものであ
る。
環状の昇圧通路2を有するケーシング1と、このケーシ
ング1の昇圧通路2内に回転移動可能に小羽根12を嵌
合した羽根車11とを備え、羽根車11の回転により吸
込口4から昇圧通路2に吸込んだ液体を昇圧して吐出口
6から吐出させる渦流ボンブにおいて、昇圧通路2の入
口部3に気体吸込口3lを設けたものである。
口部3における最低圧力部31に設けたものである。
の流入方向に沿って気体を導入させる気体吸込口31を
導管32にて設けたものである。
4から吸込まれる液体が、羽根車11と共に昇圧通路2
を移動し、その間に昇圧されて吐出口6から吐出される
。
1から気体が吸込まれる。このとき、昇圧通路2の入口
部3では昇圧通路2に吸込まれる液体の流速が速く圧力
が低くなるため、この昇圧通路2の入口部3に設けられ
た気体吸込口3lから液体内への気体の吸込効率がよく
、気体吸込量が多くなる。
低圧力部3Mに設けられた気体吸込口31の部分では、
昇圧通路2に吸込まれる液体の圧力が最も低くなるため
、この気体吸込口3lから液体内への気体の吸込効率が
よくなり、気体吸込盟が多くなる。
液体の流入方向に沿って気体が導入されるため、液体内
への気体の吸込みがスムーズに行なえ、気体吸込量が多
くなる。
する。
一符号を用いてその説明を省略する。
成され、この昇圧通路2の入口部3に吸込口4が連通形
成されていると共に、昇圧通路2の出口部5に吐出口6
が連通形成され、昇圧通路2の人口部3と出口部5との
間に隔離部7が形成されている。
れており、この羽根車11の外周部には、複数の小羽根
12およびこの小羽根12の間の羽根溝13が設けられ
ており、羽根車11と同心円の昇圧通路2内を回転する
。
5が連結されている。
込口31を有する導管32が螺合固定されており、この
導管32の先端部分は吸込口4の内部に侵入し、その先
端部の気体吸込口31が昇圧通路2の入口部3に臨んで
開口しており、液体の流入方向に沿って気体吸込口31
から気体を導入させるようにしている。
まれる液体は、羽根車1lと共に昇圧通路2をほぼ一周
し、その間に昇圧されて吐出口6から吐出される。この
昇圧通路2に吸込まれた液体には、羽根車11の羽根溝
13内と昇圧通路2との間で渦流が生じ、これが各羽根
溝13で同時に行なわれながら昇圧通路2内を進み、昇
圧通路2を進むにつれて昇圧される。
際に気体吸込口31から気体が吸込まれ、水と空気とが
一緒に羽根車11と昇圧通路2との間で生じる渦流によ
って撹拌され、気泡が作られる。
まれる液体の流速が速く圧力が低くなるため、この昇圧
通路2の入口部3に設けられた気体吸込口31から液体
内への気体の吸込効率がよく、かつ、導管32にて気体
吸込口31から液体の流入方向に沿って気体が導入され
るため、液体内への気体の吸込みがスムーズに行なえ、
従って、気体吸込量が多い。
す実施例の渦流ボンブと第5図に示した従来の渦流ポン
プとにおいて比較した実験結果を第3図および第4図に
示す。なお、実験には液体として水を、気体として空気
を用いる。
(%){=気体吸込量( Nl/Ilin ) /液体
吸込量(/ /+ein ) )を示し、また、第4図
には、液体吸込量(1/lIin)に対する気体吸込率
(%){=気体吸込量(Ml/攬in)/液体吸込量(
l/win ) }を示している。
に気体吸込口16を設けた渦流ボンブに比べ、本実施例
のように昇圧通路2の入口部3に気体吸込口31を設け
た渦流ポンプでは、20%以上、空気吸込量の割合を増
加させることができる。そのため、液体に含まれる気泡
の量を多くすることができ、市場の要望に対応すること
ができる。
路2の入口部3における最低圧力部31、すなわち、ケ
ーシング1の羽根車I1の外面との対向間隔が狭くなっ
た箇所すなわち羽根車11と同心円の昇圧通路2の入口
部3に設けてもよく、この場合、気体吸込口31の部分
の液体の圧力が最も低くなるため、この気体吸込口31
から液体内への気体の吸込効率がよくなり、気体の吸込
量を増加させることができる。
に設けることにより、流体吸込量に対する気体吸込量の
割合を増加させることができる。
流速が速く圧力が低くなる昇圧通路の入口部に気体吸込
口を設けたので、気体吸込口から液体内への気体の吸込
効率がよくなり、液体吸込量に対する気体吸込量の割合
を増加させることができる。
低圧力部に設けられた気体吸込口の部分では、昇圧通路
に吸込まれる液体の圧力が最も低くなるため、この気体
吸込口から液体内への気体の吸込効率がよくなり、液体
吸込量に対する気体吸込量の割合を増加させることがで
きる。
の流入方向に沿って気体が導入されるため、液体内への
気体の吸込みがスムーズに行なえ、液体吸込量に対する
気体吸込量の割合を増加させることができる。
第2図は本発明の他の実施例を示す断面図、第3図およ
び第4図は本発明と従来との空気吸込率を比較したグラ
フ図、第5図は従来の渦流ボンブの断面図である。 1・・ケーシング、2・・昇圧通路、3・・入口部、3
為・・最低圧力部、4・・吸込口、6・・吐出口、I1
・・羽根車、12・・小羽根、31・・気体吸込口、3
2・・導管。 】工L AJ員
Claims (3)
- (1)吸込口および吐出口に連通する環状の昇圧通路を
有するケーシングと、このケーシングの昇圧通路内に回
転移動可能に小羽根を嵌合した羽根車とを備え、羽根車
の回転により吸込口から昇圧通路に吸込んだ液体を昇圧
して吐出口から吐出させる渦流ポンプにおいて、 前記昇圧通路の入口部に気体吸込口を設けたことを特徴
とする渦流ポンプ。 - (2)気体吸込口を、昇圧通路の入口部における最低圧
力部に設けたことを特徴とする請求項1記載の渦流ポン
プ。 - (3)昇圧通路の入口部において液体の流入方向に沿っ
て気体を導入させる気体吸込口を導管にて設けたことを
特徴とする請求項1または2記載の渦流ポンプ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1115286A JPH0819914B2 (ja) | 1989-05-09 | 1989-05-09 | 渦流ポンプ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1115286A JPH0819914B2 (ja) | 1989-05-09 | 1989-05-09 | 渦流ポンプ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02294593A true JPH02294593A (ja) | 1990-12-05 |
JPH0819914B2 JPH0819914B2 (ja) | 1996-03-04 |
Family
ID=14658902
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1115286A Expired - Lifetime JPH0819914B2 (ja) | 1989-05-09 | 1989-05-09 | 渦流ポンプ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0819914B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008056683A1 (fr) * | 2006-11-09 | 2008-05-15 | Hisaka Works, Ltd. | Dispositif de chauffage de à vapeur ou similaire |
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-
1989
- 1989-05-09 JP JP1115286A patent/JPH0819914B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS5240003U (ja) * | 1975-09-13 | 1977-03-22 | ||
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0819914B2 (ja) | 1996-03-04 |
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