JPH02288385A - ガスレーザー装置 - Google Patents

ガスレーザー装置

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JPH02288385A
JPH02288385A JP11007889A JP11007889A JPH02288385A JP H02288385 A JPH02288385 A JP H02288385A JP 11007889 A JP11007889 A JP 11007889A JP 11007889 A JP11007889 A JP 11007889A JP H02288385 A JPH02288385 A JP H02288385A
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JP
Japan
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gas
purified
laser
discharge
purification
Prior art date
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Pending
Application number
JP11007889A
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English (en)
Inventor
Shunji Omori
大森 舜二
Kenichi Yanagi
謙一 柳
Eihiko Tsukamoto
塚本 頴彦
Minoru Sueda
末田 穣
Shigeru Takahara
茂 高原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Publication date
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Publication of JPH02288385A publication Critical patent/JPH02288385A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/034Optical devices within, or forming part of, the tube, e.g. windows, mirrors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/036Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、レーザーCVD、  ダイレクトエツチング
等に適用されるエキシマレーザ−の予備電離型放電励起
ガスレーザー発振器に関する。
[従来の技術] 第8図に予備電離型放電励起ガスレーザー発振器の断面
図を示す。
予備電離ピン4の先端でアーク放電を生ぜしめ、そのと
き生じる紫外光によって主流f[極5.5間のレーザー
ガスを予#i1電離し、電極間にグロー放電を起こす。
この放電によってレーザー媒質を励起合せ、紙面に垂直
方向に共振させることによって、レーザー光が得られる
放電によって劣化し、温度上昇したガスは、ガス循環用
ファン10によって、放電部から下流側へ移動し、熱交
換器IBによって冷却され、浄化装置6によって浄化さ
れ、循環する。
従来装置では、浄化装置6が圧力隔壁12によって仕切
られた系内の循環流中に配置され、全量あるいは一部を
浄化し、浄化したガスをそのまま主流に戻すか、あるい
は放電部に戻している。
[発明が解決しようとする課題] ガスの劣化は、放電によって生じる。特i;予h1電離
ピン先端でのアーク放電による劣化の度合いが大きく、
微粒子となって放電部から主流へ混合・拡散してゆく。
従来の技術では、放電部から離れた主流中、即ち不純物
が混合・拡散したあとの主流中に浄化装置Bが配設され
ているため、効率的でない。
予、備電離ピン4の配設されている淀み部は、放電によ
って生じる不純物の濃度が高い。
また、特に上流中の淀み部から主流中へ拡散してゆく不
純物のために、次のパルス放電までに入れ換えてやるべ
き放電部レーザーガスの必要性が多くなる。更に、エキ
シマレーザ−の場合、Ni等の不純物がレーザー光によ
ってハロゲン化物への反応が促進されるため、ガスの劣
化も速い。
[課題を解決するための手段] 本発明の特徴的な構成を以下に列挙する。
(1)、第1図に示すように、レーザーガスを劣化させ
る不純物の発生部である予1iii7に離ピン4のガス
淀み部lに吸引管2を設けて、浄化装置0へ導く。
(2)、浄化装置6を通して主流へ戻す浄化ガスの駆動
は、ガス循環用ファンlOと同軸で、かつ圧力隔壁12
内に設置した遠心ファン7で行なう。ファンlO及びフ
ァン7はカップリング8を介して、モータ9により糸外
より駆動する。
(3)、浄化したガスは、窓ガラスあるいはミラー14
と主放電電極5とのレーザー光軸方向の中間部分13か
ら環流させる。
[作用] 前記のように構成されているので、不純物濃度の高い状
態でガスを浄化装置へ導くことができ、浄化の効率が高
く、ガス寿命を大きく延ばすことができる。
浄化の効率が高いため、主流からの吸引流量は従来より
少なくて済む。ガス浄化装置に於ける浄化効果(不純物
の補集効果)は浄化用フィルタを通過する際の流速に支
配され、ある一定値以下にする必要がある。従って、浄
化用ガス流量を少なくできることによって浄化装置をコ
ンパクトにできる。
また、小流量であるが故に、酸素系もコンパクトにでき
、配管系の圧力損失に見合うだけの吐出圧をもった遠心
ファン7もコンパクトなものとなり、主流循環用ファン
10と同軸で接続し、カップリング8を介して同一モー
タ9で駆動できる。
浄化したガスは、窓ガラスあるいはミラー14と放電電
極5の中間に設けた環流部13から放電部の主流へ環す
中間部に設けたことによって、窓ガラスあるいはミラー
14と環流部13の間に、不純物を含まない初期のガス
を長時間閉じ込めておくことができる。従って、窓ガラ
スあるいはミラー14への不純物付着、あるいは蒸若を
長時間防止することができ、窓ガラスあるいはミラー1
4の長寿命化につながる。
環流部13は電極5の間の主流によるベンチュリ効果に
よって、主流より低い圧力となる。一方、予備電離ピン
4の淀み部1は、主流の静圧より高くなっており、浄化
ガス流路の入口、出口の差圧は浄化ガスの循環を促進す
る方向に作用するため、浄化ガス用遠心ファン7の吐出
性能を助ける。従って流路の入口、出口をこのように設
けることにより、遠心ファン7を更にコンパクトなもの
とすることができる。
一方、予1iiiI電離ピンで発生した不純物がガス循
環主流中へ拡散する割合いが減少するため、主放電部の
パルス放電ごとのレーザーガス置換量、従って主流のガ
ス循環量も少なくて済む。即ち、主流のガス循環ファン
の容量も小さくて済むため、コンパクトにできる。
更に、エキシマレーザ−の場合、不純物の主流中への拡
散が減ることによって、レーザー光によるハロゲン化反
応も減少するため、レーザーガスの劣化速度が抑制され
、ガスの長寿命化が達成できる。
[第1実施例] 第1図に第1の実施例を示す。又、第2図は同実施例に
於ける主流部分の断面構造を示す、上記第1図のA−A
矢視断面図、第3図は上記第2図のA’−A’矢視拡大
図、第4図は上記第3図のB−B矢視断面図である。
ガス流れ淀み部lに開孔して、吸引管2が、電極5の両
側に配設されている予備電離ピン4の間に設けられる。
吸引管2の直後には均圧室15を設け、それぞれの吸引
管2からの吸引量を一様にする。予備電離ピン4はこの
均圧室15を貫通して、圧力隔壁12によって仕切られ
た系の外へ引き出し、系外の電気回路へ接続される。
均圧室15に平行して配設した電極両側の連通管3は合
流され浄化装置6に連結される。
本実施例では円筒型の浄化装置の円筒に浄化用ガスを導
き、浄化用フィルタを介して外筒より浄化ガスを引き出
す。浄化装置Gの下流側に浄化ガス循環用遠心ファン7
が設置される。ファン7の吐出側から、ガス環流部13
へ配管17される。環流部13は窓ガラスあるいはミラ
ー14と放電部との中間に設置され、レーザービームの
通路に対して、四周より一様に流入させる。このため、
吐出部は一様に分布させたスリット群あるいは金網等で
構成する。
このようにして吐出した浄化ガスは、放電部と窓ガラス
あるいはミラー14の間を所謂エアカーテンとして仕切
ることになり、これによって窓ガラスあるいはミラー1
4と環流部13の間に閉じ込めたガス中への不純物の拡
散を長時間防止することができる。
[第2実施例] 第2の実施例を第5図に示す。第6図は第5図A−A矢
視である。
この第2の実施例は、浄化装置6を浄化ガス環流部13
に組込んだものである。
浄化ガス用遠心ファン7によって吸引された浄化ガスは
、ファン出口より配管17によって円筒状のガス浄化装
置6の外筒部へ導かれる。
外筒部から浄化装置6を通って浄化されたガスは周囲か
ら一様に環流部より電極5へ環流される。
この第2の実施例に於いても上記した第1の実施例と同
様の作用効果を有する。
[第3実施例〕 第3の実施例を第7図に示す。
この第3の実施例は浄化装置Gを遠心ファン7の下流側
に設置し、がっ、発振”器本体がら配管18及び19に
よって引き出したものである。
作用効果は第1の実施例と同じであるが、更に浄化装置
の保守が容易となる。
また、浄化装置として別置き型の構成となるため、フィ
ルタ等による浄化のみならず、ガス再成用の装置を組み
込むことも可能となる。
[発明の効果] 以上に述べたように本発明によれば、放電によって劣化
したガスの浄化を少量の浄化用ガス循環によって達成で
き、従ってコンパクトでレーザーガス寿命の長いガスレ
ーザー発振器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1実施例の構成を示す電極長手方向
(光軸方向)の断面図、第2図は同第1実施例に於ける
レーザーガス主流のガス循環を示す断面図(第1図のA
−A矢硯図)、第3図は第2図のA’−A’矢視拡大図
、第4図は第3図のB−B矢視断面図1、第5図は本発
明の第2実施例を示す構成図、第6図は第5図のA−A
矢視断面図、第7図は本発明の第3実施例を示す構成図
、第8図は従来の技術を説明するための説明図である。 l・・・ガス淀み部、2・・・吸引管、3・・・連通管
、4・・・予備電離ピン、5・・・主放電電極、6・・
・浄化装置、7・・・浄化ガス循環用ファン、8・・・
カップリング、9・・・ファン駆動用モータ、1o・・
・ガス循環用ファン、11・・・仕切板、12・・・圧
力隔壁、13・・・浄化ガス環流部、14・・・窓ガラ
スあるいはミラー、15・・・均圧室、1G・・・熱交
換器、17・・・ファン出口と浄化ガス粘環部外筒との
連結管、18・・・ファン出口と浄化装置との連結管、
19・・・浄化装置と浄化ガス循環部との連結管。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  直流高電圧によって充電されるエネルギをスイッチン
    グさせ、予備電離ピンのアーク放電によって一対の主放
    電電極間のガス流中にレーザー発振を生ぜしめるガスレ
    ーザー発振装置に於いて、予備電離ピン近傍のガス流れ
    淀み部から、循環ガスの一部を吸引する吸引管と、同吸
    引管により吸引したガスを浄化するガス浄化装置と、同
    浄化したガスを光軸に沿って電極端と窓の間へ吐出する
    浄化ガス循流部とを具備することを特徴とするガスレー
    ザー装置。
JP11007889A 1989-04-28 1989-04-28 ガスレーザー装置 Pending JPH02288385A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06152030A (ja) * 1992-11-05 1994-05-31 Komatsu Ltd ガスレーザ装置
JPH06237029A (ja) * 1993-02-09 1994-08-23 Nec Corp 放電励起エキシマレーザ装置
EP1430573A1 (en) * 2001-08-29 2004-06-23 Cymer, Inc. SIX TO TEN KHz, OR GREATER GAS DISCHARGE LASER SYSTEM
WO2023040226A1 (zh) * 2021-09-14 2023-03-23 北京科益虹源光电技术有限公司 一种激光器出光窗片防尘结构和激光器

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06152030A (ja) * 1992-11-05 1994-05-31 Komatsu Ltd ガスレーザ装置
JPH06237029A (ja) * 1993-02-09 1994-08-23 Nec Corp 放電励起エキシマレーザ装置
EP1430573A1 (en) * 2001-08-29 2004-06-23 Cymer, Inc. SIX TO TEN KHz, OR GREATER GAS DISCHARGE LASER SYSTEM
EP1430573A4 (en) * 2001-08-29 2006-07-05 Cymer Inc Gas discharge system with six to ten kHz or more
WO2023040226A1 (zh) * 2021-09-14 2023-03-23 北京科益虹源光电技术有限公司 一种激光器出光窗片防尘结构和激光器

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