JPH02288219A - 電子ビーム露光装置 - Google Patents
電子ビーム露光装置Info
- Publication number
- JPH02288219A JPH02288219A JP11021589A JP11021589A JPH02288219A JP H02288219 A JPH02288219 A JP H02288219A JP 11021589 A JP11021589 A JP 11021589A JP 11021589 A JP11021589 A JP 11021589A JP H02288219 A JPH02288219 A JP H02288219A
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- JP
- Japan
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- mask substrate
- cassette
- exposed
- film
- electron beam
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- Pending
Links
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 26
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- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電子ビーム露光装置に関し、特にマスク基板を
設置するためのカセットの構造に関する。
設置するためのカセットの構造に関する。
電子ビーム露光装置においては、マスク基板を設置する
ためにカセットが用いられるが、このマスク基板の金属
膜と電子ビーム露光装置を電気的に導通させる方法とし
ては、カセットに設けられた導通用ビンを板バネ等を使
用して、機械的に金属膜上に形成された被露光媒体膜を
貫通させるという方法が用いられていた。
ためにカセットが用いられるが、このマスク基板の金属
膜と電子ビーム露光装置を電気的に導通させる方法とし
ては、カセットに設けられた導通用ビンを板バネ等を使
用して、機械的に金属膜上に形成された被露光媒体膜を
貫通させるという方法が用いられていた。
上述した従来の機械的な導通方法では、導通ビンを押し
当る強さが不足した場合、被露光媒体膜を完全に貫通す
ることができず、マスク基板が電子ビームによりチャー
ジアップし描画精度を悪化させるという欠点がある。
当る強さが不足した場合、被露光媒体膜を完全に貫通す
ることができず、マスク基板が電子ビームによりチャー
ジアップし描画精度を悪化させるという欠点がある。
また、導通を完全にとるために導通ビンを押し当てる強
さを増すと、マスク基板に大きな応力が加わり、たわみ
等が発生して同様に描画精度を悪化させるという欠点も
あった。
さを増すと、マスク基板に大きな応力が加わり、たわみ
等が発生して同様に描画精度を悪化させるという欠点も
あった。
上述した従来の機械的な力により導通をとる方法に対し
本発明は、可変矩形型電子ビーム露光装置のビーム照射
が断続的であるという点を利用して、被露光媒体膜上に
金属電極を設置し、金属電極と被露光媒体膜とマスク基
板上の金属膜とでコンデンサーを構成し、マスク基板の
チャージアップを防止するという相違点を有する。
本発明は、可変矩形型電子ビーム露光装置のビーム照射
が断続的であるという点を利用して、被露光媒体膜上に
金属電極を設置し、金属電極と被露光媒体膜とマスク基
板上の金属膜とでコンデンサーを構成し、マスク基板の
チャージアップを防止するという相違点を有する。
本発明の電子ビーム露光装置は、上面に被露光媒体膜が
形成されたマスク基板を設置するためのカセットを有す
る電子ビーム露光装置において、前記マスク基板を構成
する透明基板上の金属膜と被露光媒体膜がコンデンサを
構成するように、被露光媒体膜上の一部を覆うように前
記カセットに接続する金属電極を設けたものである。
形成されたマスク基板を設置するためのカセットを有す
る電子ビーム露光装置において、前記マスク基板を構成
する透明基板上の金属膜と被露光媒体膜がコンデンサを
構成するように、被露光媒体膜上の一部を覆うように前
記カセットに接続する金属電極を設けたものである。
第1図は本発明の第1の実施例の断面図である。
被露光媒体膜1を塗布法により形成したマスク基板4は
、カセット5に設置される。カセット5に設けられた導
通ビン8が被露光媒体膜1を貫通してマスク基板4を構
成する透明基板3上のクロム等からなる金属膜2と導通
状態にあれば電子ビーム9によるパターン描画時にチャ
ージアップにより描画精度が悪化するという事はない。
、カセット5に設置される。カセット5に設けられた導
通ビン8が被露光媒体膜1を貫通してマスク基板4を構
成する透明基板3上のクロム等からなる金属膜2と導通
状態にあれば電子ビーム9によるパターン描画時にチャ
ージアップにより描画精度が悪化するという事はない。
しかし第1図に示したごとく、板バネ7のおし当てる力
の強弱によっては導通ビン8が金属膜2と完全に導通が
とれないという事態が発生する。
の強弱によっては導通ビン8が金属膜2と完全に導通が
とれないという事態が発生する。
そこで本実施例では可変矩形型電子ビーム露光装置の電
子ビーム9が20MHz 〜80MHzのパルス状のビ
ームである事を利用して、マスク基板4の被露光媒体膜
1の一部を覆うようにカセット5と接続された金属膜f
!6を設置する。
子ビーム9が20MHz 〜80MHzのパルス状のビ
ームである事を利用して、マスク基板4の被露光媒体膜
1の一部を覆うようにカセット5と接続された金属膜f
!6を設置する。
このように構成された本実施例によれば、金属電極6と
金属膜2は被露光媒体膜1をはさんでコンデンサを構成
することになり、電子ビーム9による電荷は金属電極6
を通ってカセット5に流れることになり、マスク基板4
のチャージアップを防止することができる。
金属膜2は被露光媒体膜1をはさんでコンデンサを構成
することになり、電子ビーム9による電荷は金属電極6
を通ってカセット5に流れることになり、マスク基板4
のチャージアップを防止することができる。
第2図は本発明の第2の実施例の断面図である。
本箱2の実施例では、被露光媒体膜1を覆うカセット5
の一部5Aを電極として利用するものであり、カセット
5の一部と被露光媒体膜1と金属膜2とでコンデンサを
構成させるため、第1の実施例に比べ構造が簡単になる
という利点をもち、かつチャージアップを防止できると
いう同様の効果を有する。
の一部5Aを電極として利用するものであり、カセット
5の一部と被露光媒体膜1と金属膜2とでコンデンサを
構成させるため、第1の実施例に比べ構造が簡単になる
という利点をもち、かつチャージアップを防止できると
いう同様の効果を有する。
以上説明した様に本発明は、被露光媒体を塗布したマス
ク基板をカセットに設置した場合、マスク基板を構成す
る金属膜と被露光媒体膜とがコンデンサを構成するよう
に、被露光媒体膜の一部を覆うようにカセットに接続す
る金属電極を設けることにより、電子ビーム照射による
マスク基板のチャージアップを防止することができると
いう効果がある。
ク基板をカセットに設置した場合、マスク基板を構成す
る金属膜と被露光媒体膜とがコンデンサを構成するよう
に、被露光媒体膜の一部を覆うようにカセットに接続す
る金属電極を設けることにより、電子ビーム照射による
マスク基板のチャージアップを防止することができると
いう効果がある。
7・・・板バネ、8・・・導通ビン、9・・・電子ビー
ム。
ム。
Claims (1)
- 上面に被露光媒体膜が形成されたマスク基板を設置する
ためのカセットを有する電子ビーム露光装置において、
前記マスク基板を構成する透明基板上の金属膜と被露光
媒体膜がコンデンサを構成するように、被露光媒体膜上
の一部を覆うように前記カセットに接続する金属電極を
設けたことを特徴とする電子ビーム露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11021589A JPH02288219A (ja) | 1989-04-27 | 1989-04-27 | 電子ビーム露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11021589A JPH02288219A (ja) | 1989-04-27 | 1989-04-27 | 電子ビーム露光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02288219A true JPH02288219A (ja) | 1990-11-28 |
Family
ID=14529987
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11021589A Pending JPH02288219A (ja) | 1989-04-27 | 1989-04-27 | 電子ビーム露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02288219A (ja) |
-
1989
- 1989-04-27 JP JP11021589A patent/JPH02288219A/ja active Pending
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