JPH02277539A - マスフローコントローラ - Google Patents
マスフローコントローラInfo
- Publication number
- JPH02277539A JPH02277539A JP9915889A JP9915889A JPH02277539A JP H02277539 A JPH02277539 A JP H02277539A JP 9915889 A JP9915889 A JP 9915889A JP 9915889 A JP9915889 A JP 9915889A JP H02277539 A JPH02277539 A JP H02277539A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flow rate
- rate setting
- setting signal
- mass flow
- circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- 239000003990 capacitor Substances 0.000 abstract description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 2
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- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Flow Control (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、流量測定部によって測定された流量に対応す
る流量信号と流量設定部からの流量設定信号とを比較回
路において比較し、その結果に基づいて制御弁の開度制
御を行うようにしたマスフローコントローラの改良に関
する。
る流量信号と流量設定部からの流量設定信号とを比較回
路において比較し、その結果に基づいて制御弁の開度制
御を行うようにしたマスフローコントローラの改良に関
する。
例えば半導体の製造に用いられる各種のガスを半導体製
造装置に供給する場合、それらの供給流路にマスフロー
コントローラをそれぞれ設け、これによってガス流量を
それぞれ！ｌｉｍしている。
造装置に供給する場合、それらの供給流路にマスフロー
コントローラをそれぞれ設け、これによってガス流量を
それぞれ！ｌｉｍしている。
第４図は従来のマスフローコントローラの制御系統の構
成を概略的に示し、この図において、１は流路２を流れ
るガスＧの流量を測定する流量測定部で、測定流路３に
設けられた熱式流量センサ４と、ブリッジ回路５と、増
幅回路６とからなり、前記ガスＧの流量に対応した流量
信号ａを出力する。そして、７は前記測定流路３をバイ
パスするように設けられたバイパス流路で、定流量比特
性を有するバイパス部８を備えている。また、９は測定
流路３とバイパス流路７との合流点より下流側に設けら
れた制御弁である。
成を概略的に示し、この図において、１は流路２を流れ
るガスＧの流量を測定する流量測定部で、測定流路３に
設けられた熱式流量センサ４と、ブリッジ回路５と、増
幅回路６とからなり、前記ガスＧの流量に対応した流量
信号ａを出力する。そして、７は前記測定流路３をバイ
パスするように設けられたバイパス流路で、定流量比特
性を有するバイパス部８を備えている。また、９は測定
流路３とバイパス流路７との合流点より下流側に設けら
れた制御弁である。
１０は前記流量測定部１から出力される流量信号ａと、
流量設定部１１からの流量設定信号すとを比較する比較
回路、１２は制御回路、１３は制御弁駆動回路である。
流量設定部１１からの流量設定信号すとを比較する比較
回路、１２は制御回路、１３は制御弁駆動回路である。
而して、上記構成のマスフローコントローラにおいては
、前記流量信号ａが流量設定信号すよりも大きいときは
、制御回路１２から制御弁９の開度を小さくするための
指令が出力され、また、流量信号ａが流量設定信号すよ
りも小さいときは、制御回路１２から制御弁９の開度を
大きくするための指令が出力され、マスフローコントロ
ーラの下流側に設けられた例えば半導体製造装置（図外
）に対して所定流量のガスＧが常に供給されるようにし
ている。
、前記流量信号ａが流量設定信号すよりも大きいときは
、制御回路１２から制御弁９の開度を小さくするための
指令が出力され、また、流量信号ａが流量設定信号すよ
りも小さいときは、制御回路１２から制御弁９の開度を
大きくするための指令が出力され、マスフローコントロ
ーラの下流側に設けられた例えば半導体製造装置（図外
）に対して所定流量のガスＧが常に供給されるようにし
ている。
［発明が解決しようとする課題］
ところで、一般にマスフローコントローラにおける流量
設定部１１からの流量設定信号すは、第５図（Ａ）に示
すように、設定値が象、激に変化するようなものである
が、従来のマスフローコントローラにおいては、これを
そのまま比較回路１０に入力するようにしているので、
流量制御時において、同図（Ｂ）に示すように、オーバ
ーシュート（矢印Ｐ部分）やアンダーシュート（矢印Ｑ
部分）が生じることがあった。
設定部１１からの流量設定信号すは、第５図（Ａ）に示
すように、設定値が象、激に変化するようなものである
が、従来のマスフローコントローラにおいては、これを
そのまま比較回路１０に入力するようにしているので、
流量制御時において、同図（Ｂ）に示すように、オーバ
ーシュート（矢印Ｐ部分）やアンダーシュート（矢印Ｑ
部分）が生じることがあった。
このようなオーバーシュートやアンダーシュートは、流
量設定信号すの急、激な変化に対して熱式流量センサ４
あるいは制御弁９の応答が遅れたり、ガス系に遅れが生
ずるため発生するものと考えられる。
量設定信号すの急、激な変化に対して熱式流量センサ４
あるいは制御弁９の応答が遅れたり、ガス系に遅れが生
ずるため発生するものと考えられる。
そして、マスフローコントローラでガスＧの流量を制御
しているとき、前記オーバーシュートやアンダーシュー
トが生ずると、例えば半導体製造装置においては、流路
内やマスフローコントローラ内に付着している微粒子が
巻き上げられて、ガスＧ内に混入し、これによって半導
体に不純物が混入するといった不都合を招来する。また
、マスフローコントローラを組み込んだ他の一触的な装
置においても、前記オーバーシュートやアンダーシュー
トによって装置の安全機構が動作して、装置が突然停止
してしまうといったことがある。
しているとき、前記オーバーシュートやアンダーシュー
トが生ずると、例えば半導体製造装置においては、流路
内やマスフローコントローラ内に付着している微粒子が
巻き上げられて、ガスＧ内に混入し、これによって半導
体に不純物が混入するといった不都合を招来する。また
、マスフローコントローラを組み込んだ他の一触的な装
置においても、前記オーバーシュートやアンダーシュー
トによって装置の安全機構が動作して、装置が突然停止
してしまうといったことがある。
本発明は、上述の事柄に留意してなされたもので、その
目的とするところは、オーバーシュートやアンダーシュ
ートを殆ど生じさせることなく、流量の制御を確実に行
うことができるマスフローコントローラを提供すること
にある。
目的とするところは、オーバーシュートやアンダーシュ
ートを殆ど生じさせることなく、流量の制御を確実に行
うことができるマスフローコントローラを提供すること
にある。
〔課題を解決するための手段］
上述の目的を達成するため、本発明に係るマスフローコ
ントローラは、流量設定部と比較回路との間に流量設定
信号の変化を滑らかにする設定信号調整回路を設けであ
る。
ントローラは、流量設定部と比較回路との間に流量設定
信号の変化を滑らかにする設定信号調整回路を設けであ
る。
（作用〕
上述の構成によれば、流量設定信号の変化が滑らかに行
われるため、熱式流量センサや制御弁がこの変化に対し
て追従することができ、従って、流量制御時にオーバー
シュートやアンダーシュートが殆ど生じなくなる。その
結果、応答速度も早くなり、また、流量を確実に制御す
ることができる。
われるため、熱式流量センサや制御弁がこの変化に対し
て追従することができ、従って、流量制御時にオーバー
シュートやアンダーシュートが殆ど生じなくなる。その
結果、応答速度も早くなり、また、流量を確実に制御す
ることができる。
以下、本発明の実施例を図面を参照しながら説明する。
第１図は、本発明の一実施例に係るマスフローコントロ
ーラの制御系統の構成を概略的に示すもので、この図に
おいて、第４図における符号と同一符号が同一物または
相当物を示す。
ーラの制御系統の構成を概略的に示すもので、この図に
おいて、第４図における符号と同一符号が同一物または
相当物を示す。
さて、この図において、１４は流量設定部１１と比較回
路１０との間に設けられる設定信号調整回路で、流量設
定部１１からの流量設定信号すの変化を滑らかにするも
のであり、図示する例においては、抵抗１５とコンデン
サ１６とを組み合わせてなる積分回路よりなる。
路１０との間に設けられる設定信号調整回路で、流量設
定部１１からの流量設定信号すの変化を滑らかにするも
のであり、図示する例においては、抵抗１５とコンデン
サ１６とを組み合わせてなる積分回路よりなる。
次に、上記構成のマスフローコントローラの動作につい
て、第３図（Ａ）、 （Ｂ）をも参照しながら説明する
。
て、第３図（Ａ）、 （Ｂ）をも参照しながら説明する
。
今、同図（Ａ）に示すように、流量設定信号すをＱ、か
らＱ、まで変化させるのに時間Ｔ、だけかかり、また、
流量設定信号すをＱ、からＱｔまで変化させるのに時間
Ｔ、たけかかるように、前記抵抗１５とコンデンサ１６
の値をそれぞれ設定しておくと、そのときの流量は、同
図（Ｂ）に示すように、オーバーシュートやアンダーシ
ュートを生ずることなく制御される。
らＱ、まで変化させるのに時間Ｔ、だけかかり、また、
流量設定信号すをＱ、からＱｔまで変化させるのに時間
Ｔ、たけかかるように、前記抵抗１５とコンデンサ１６
の値をそれぞれ設定しておくと、そのときの流量は、同
図（Ｂ）に示すように、オーバーシュートやアンダーシ
ュートを生ずることなく制御される。
この場合、前記時間ＴＩ、Ｔ！のそれぞれを、第５図（
Ｂ）に示す応答時間Ｔ＋ ’、Ｔｔ ”よりも短くな
るように、前記抵抗１５とコンデンサ１６の値を選定す
ることが好ましい。このようにすることにより、応答時
間も従来のものより早くなる。
Ｂ）に示す応答時間Ｔ＋ ’、Ｔｔ ”よりも短くな
るように、前記抵抗１５とコンデンサ１６の値を選定す
ることが好ましい。このようにすることにより、応答時
間も従来のものより早くなる。
上述の実施例では、設定信号調整回路１４として抵抗１
５とコンデンサ１６とからなる積分回路を用いていたが
、これに代えて、第２図に示すように、波形整形回路１
７を設け、この波形整形回路１７に前記Ｑ１．Ｑｓ （
Ｑｚ ）、”ｒ＋ Ｃｒｔ ）を予め設定入力しておく
ことにより、流量設定信号すの傾き（滑らかさの度合い
）を変化させるようにしてもよい。
５とコンデンサ１６とからなる積分回路を用いていたが
、これに代えて、第２図に示すように、波形整形回路１
７を設け、この波形整形回路１７に前記Ｑ１．Ｑｓ （
Ｑｚ ）、”ｒ＋ Ｃｒｔ ）を予め設定入力しておく
ことにより、流量設定信号すの傾き（滑らかさの度合い
）を変化させるようにしてもよい。
以上説明したように、本発明においては、流量設定部と
比較回路との間に流量設定信号の変化を滑らかにする設
定信号調整回路を設けであるので、流量設定信号の変化
が滑らかに行われ、熱式流量センサや制御弁がこの変化
に対して追従することができ、従って、流量制御時にオ
ーバーシュートやアンダーシュートが殆ど生じなくなる
。その結果、応答速度も早くなり、また、流量を確実に
制御することができる。
比較回路との間に流量設定信号の変化を滑らかにする設
定信号調整回路を設けであるので、流量設定信号の変化
が滑らかに行われ、熱式流量センサや制御弁がこの変化
に対して追従することができ、従って、流量制御時にオ
ーバーシュートやアンダーシュートが殆ど生じなくなる
。その結果、応答速度も早くなり、また、流量を確実に
制御することができる。
第１図は本発明の一実施例に係るマスフローコントロー
ラの制御系統の構成を概略的に示す図、第２図は他の実
施例に係るマスフローコントローラの制御系統の構成を
概略的に示す図、第３図は動作説明図で、同図（Ａ）は
流量設定信号の変化を示す図、同図（Ｂ）は制御される
流量の変化を示す図である。 第４図は従来のマスフローコントローラの制御系統の構
成を概略的に示す図、第５図はその動作説明図で、同図
（Ａ）は流量設定信号の変化を示す図、同図（Ｂ）は制
御される流量の変化を示す図である。 １・・・流量測定部、９・・・制御弁、１０・・・比較
回路、１１・・・流量設定部、１４．１７・・・設定信
号調整回路、ａ・・・流量信号、ｂ・・・流量設定信号
。
ラの制御系統の構成を概略的に示す図、第２図は他の実
施例に係るマスフローコントローラの制御系統の構成を
概略的に示す図、第３図は動作説明図で、同図（Ａ）は
流量設定信号の変化を示す図、同図（Ｂ）は制御される
流量の変化を示す図である。 第４図は従来のマスフローコントローラの制御系統の構
成を概略的に示す図、第５図はその動作説明図で、同図
（Ａ）は流量設定信号の変化を示す図、同図（Ｂ）は制
御される流量の変化を示す図である。 １・・・流量測定部、９・・・制御弁、１０・・・比較
回路、１１・・・流量設定部、１４．１７・・・設定信
号調整回路、ａ・・・流量信号、ｂ・・・流量設定信号
。
Claims (1)
- 流量測定部によって測定された流量に対応する流量信号
と流量設定部からの流量設定信号とを比較回路において
比較し、その結果に基づいて制御弁の開度制御を行うよ
うにしたマスフローコントローラにおいて、前記流量設
定部と比較回路との間に前記流量設定信号の変化を滑ら
かにする設定信号調整回路を設けたことを特徴とするマ
スフローコントローラ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9915889A JPH02277539A (ja) | 1989-04-19 | 1989-04-19 | マスフローコントローラ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9915889A JPH02277539A (ja) | 1989-04-19 | 1989-04-19 | マスフローコントローラ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02277539A true JPH02277539A (ja) | 1990-11-14 |
Family
ID=14239865
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9915889A Pending JPH02277539A (ja) | 1989-04-19 | 1989-04-19 | マスフローコントローラ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02277539A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009217833A (ja) * | 2002-11-20 | 2009-09-24 | Air Products & Chemicals Inc | 体積流量制御器 |
| KR20140035820A (ko) * | 2012-09-14 | 2014-03-24 | 가부시키가이샤 호리바 에스텍 | 유량 제어 장치 및 유량 제어 장치용 프로그램을 기록한 기록 매체 |
-
1989
- 1989-04-19 JP JP9915889A patent/JPH02277539A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009217833A (ja) * | 2002-11-20 | 2009-09-24 | Air Products & Chemicals Inc | 体積流量制御器 |
| US8336544B2 (en) | 2002-11-20 | 2012-12-25 | Air Products And Chemicals, Inc. | Volume flow controller |
| KR20140035820A (ko) * | 2012-09-14 | 2014-03-24 | 가부시키가이샤 호리바 에스텍 | 유량 제어 장치 및 유량 제어 장치용 프로그램을 기록한 기록 매체 |
| JP2014059609A (ja) * | 2012-09-14 | 2014-04-03 | Horiba Ltd | 流量制御装置及び流量制御装置用プログラム |
| US9459629B2 (en) | 2012-09-14 | 2016-10-04 | Horiba Stec, Co., Ltd. | Flow rate controller and recording medium recorded with program for flow rate controller |
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