JPH0226912Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0226912Y2 JPH0226912Y2 JP1985178547U JP17854785U JPH0226912Y2 JP H0226912 Y2 JPH0226912 Y2 JP H0226912Y2 JP 1985178547 U JP1985178547 U JP 1985178547U JP 17854785 U JP17854785 U JP 17854785U JP H0226912 Y2 JPH0226912 Y2 JP H0226912Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- circular rotor
- side wall
- glaze
- forming substance
- coating film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Description
【考案の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本考案は例えば碍子のような円筒形陶磁器の内
周面に施釉する場合等に用いられる遠心施釉装置
に関するものである。
周面に施釉する場合等に用いられる遠心施釉装置
に関するものである。
(従来の技術)
従来、碍子のような円筒形陶磁器の内周面に釉
薬を施釉する場合には継ぎ込み施釉法や刷毛、ロ
ーラー等による押し伸ばし施釉法や噴射ノズル等
による流し掛け及び霧掛け施釉法等が知られてい
る。ところがこれらの方法による場合は施釉面と
無施釉面との境界寸法精度が悪く、釉むらや釉筋
等の施釉面の不均一性が生じ易いうえ、釉薬の粘
度管理幅が狭く、またロスとなる釉薬の量が多く
なる等の多くの問題点があつた。
薬を施釉する場合には継ぎ込み施釉法や刷毛、ロ
ーラー等による押し伸ばし施釉法や噴射ノズル等
による流し掛け及び霧掛け施釉法等が知られてい
る。ところがこれらの方法による場合は施釉面と
無施釉面との境界寸法精度が悪く、釉むらや釉筋
等の施釉面の不均一性が生じ易いうえ、釉薬の粘
度管理幅が狭く、またロスとなる釉薬の量が多く
なる等の多くの問題点があつた。
(考案が解決しようとする問題点)
本考案は上記のような従来の問題点を解決し
て、円筒形陶磁器等の内周面に釉薬等の塗膜形成
物質を寸法精度よく、また釉薬等のロスを極力少
なくして均一に施釉することができる遠心施釉装
置を提供することを目的として完成されたもので
ある。
て、円筒形陶磁器等の内周面に釉薬等の塗膜形成
物質を寸法精度よく、また釉薬等のロスを極力少
なくして均一に施釉することができる遠心施釉装
置を提供することを目的として完成されたもので
ある。
(問題点を解決するための手段)
本考案は、高速回転できる回転軸の下端に、上
部開口周縁部に水平な鍔部を突出させ、側壁に複
数の貫通孔を透設した皿形の円形ローターを取り
付けるとともに、該円形ローターの上方に塗膜形
成物質の供給管を配したことを特徴とするもので
ある。
部開口周縁部に水平な鍔部を突出させ、側壁に複
数の貫通孔を透設した皿形の円形ローターを取り
付けるとともに、該円形ローターの上方に塗膜形
成物質の供給管を配したことを特徴とするもので
ある。
(実施例)
以下に本考案の一例を図示の大物円筒陶磁器用
遠心施釉装置の実施例について詳細に説明する
と、1は圧縮空気を動力源として6000〜
12000RPM程度の高速度で回転する回転機、2は
その回転軸、3は該回転軸2の下端に取付られた
例えば深さ3〜20mm、上部内径30〜50mm程度の皿
形をした円形ローターである。この円形ローター
3はその上部開口周縁部に水平な鍔部4を突出さ
せた形状のもので、この鍔部4は先端が薄肉状に
形成されていることが好ましい。また、この円形
ローター3はその側壁が上方に5〜15度の角度で
拡開した傾斜面に形成されているとともに、太径
の円筒内面に塗布する場合は側壁の上方部の全周
に直径が1〜5mm程度の多数の貫通孔5が透設さ
れている。6はこの円形ローター3の内部に釉薬
等の塗膜形成物質を供給するため、回転軸2の近
傍に配された供給管であり、円筒形陶磁器の内径
寸法や施釉幅等に応じて一定の割合で塗膜形成物
質を流下させる。なお上記の回転機1は図示を略
した上下機構によつて毎秒15〜80mmの速度で昇降
運動を行うように構成されており、供給管6も回
転機1と一体的に昇降運動を行うことは言うまで
もない。なお、円形ローター3上に塗膜形成物質
を供給する供給管6は、上記のように回転軸2と
別体に設けてもよいが、回転軸を中空状としてそ
の回転軸の中空部を塗膜形成物質の供給管として
も勿論よい。この場合は回転軸2の下端近傍に塗
膜形成物質の流出孔を有することが必要である。
また、円形ローター3の側壁の深さと鍔部の長さ
との比は1:3〜1:0.4好ましくは1:1程度
が最もよい。
遠心施釉装置の実施例について詳細に説明する
と、1は圧縮空気を動力源として6000〜
12000RPM程度の高速度で回転する回転機、2は
その回転軸、3は該回転軸2の下端に取付られた
例えば深さ3〜20mm、上部内径30〜50mm程度の皿
形をした円形ローターである。この円形ローター
3はその上部開口周縁部に水平な鍔部4を突出さ
せた形状のもので、この鍔部4は先端が薄肉状に
形成されていることが好ましい。また、この円形
ローター3はその側壁が上方に5〜15度の角度で
拡開した傾斜面に形成されているとともに、太径
の円筒内面に塗布する場合は側壁の上方部の全周
に直径が1〜5mm程度の多数の貫通孔5が透設さ
れている。6はこの円形ローター3の内部に釉薬
等の塗膜形成物質を供給するため、回転軸2の近
傍に配された供給管であり、円筒形陶磁器の内径
寸法や施釉幅等に応じて一定の割合で塗膜形成物
質を流下させる。なお上記の回転機1は図示を略
した上下機構によつて毎秒15〜80mmの速度で昇降
運動を行うように構成されており、供給管6も回
転機1と一体的に昇降運動を行うことは言うまで
もない。なお、円形ローター3上に塗膜形成物質
を供給する供給管6は、上記のように回転軸2と
別体に設けてもよいが、回転軸を中空状としてそ
の回転軸の中空部を塗膜形成物質の供給管として
も勿論よい。この場合は回転軸2の下端近傍に塗
膜形成物質の流出孔を有することが必要である。
また、円形ローター3の側壁の深さと鍔部の長さ
との比は1:3〜1:0.4好ましくは1:1程度
が最もよい。
(作用)
このように構成されたものは、図面に示したよ
うに円筒形陶磁器10等の内部において回転軸2
を高速度で回転させつつ供給管6から5〜200ポ
イズの粘度に調整された釉薬等の塗膜形成物質を
皿形の円形ローター3の内部に供給すれば、塗膜
形成物質は遠心力により皿形の円形ローター3の
内周面にそつて上昇してその上部開口周縁部に水
平に突設された鍔部4の先端から外方に均一に飛
散し、円筒形陶磁器10の内周面11に付着する
こととなる。また前述したとおり、回転機1は上
下機構によつて所定の範囲内で昇降運動を行うの
で、これにつれて円形ローター3からの塗膜形成
物質の飛散高さも変化し、円筒形陶磁器10等の
内周面11の所定範囲内に均質な塗膜が形成され
る。この塗膜形成物質の飛散は円形ローター3の
水平な鍔部4の先端から行われるので、施釉面と
無施釉面との境界は極めて鮮明となり、特に鍔部
4の先端を薄肉状としたものはこの効果に優れて
いる。また塗膜の厚さは塗膜形成物質の供給量と
円形ローター3の昇降速度とによつて決定される
ので、任意にコントロールすることができ、例え
ば、円筒形陶磁器用の施釉面がテーパ面である場
合には円形ローター3の昇降速度を大径部に至る
ほど遅くすることにより均一な塗膜厚さを得るこ
とができる。また本考案では円形ローター3の上
方部の側壁に多数の貫通孔5を透設してあり、塗
膜形成物質がこれらの貫通孔5からも飛散するの
で、釉むらや釉筋等の欠陥を生じることなく、ま
たより能率的に塗膜形成を行うことができる。
うに円筒形陶磁器10等の内部において回転軸2
を高速度で回転させつつ供給管6から5〜200ポ
イズの粘度に調整された釉薬等の塗膜形成物質を
皿形の円形ローター3の内部に供給すれば、塗膜
形成物質は遠心力により皿形の円形ローター3の
内周面にそつて上昇してその上部開口周縁部に水
平に突設された鍔部4の先端から外方に均一に飛
散し、円筒形陶磁器10の内周面11に付着する
こととなる。また前述したとおり、回転機1は上
下機構によつて所定の範囲内で昇降運動を行うの
で、これにつれて円形ローター3からの塗膜形成
物質の飛散高さも変化し、円筒形陶磁器10等の
内周面11の所定範囲内に均質な塗膜が形成され
る。この塗膜形成物質の飛散は円形ローター3の
水平な鍔部4の先端から行われるので、施釉面と
無施釉面との境界は極めて鮮明となり、特に鍔部
4の先端を薄肉状としたものはこの効果に優れて
いる。また塗膜の厚さは塗膜形成物質の供給量と
円形ローター3の昇降速度とによつて決定される
ので、任意にコントロールすることができ、例え
ば、円筒形陶磁器用の施釉面がテーパ面である場
合には円形ローター3の昇降速度を大径部に至る
ほど遅くすることにより均一な塗膜厚さを得るこ
とができる。また本考案では円形ローター3の上
方部の側壁に多数の貫通孔5を透設してあり、塗
膜形成物質がこれらの貫通孔5からも飛散するの
で、釉むらや釉筋等の欠陥を生じることなく、ま
たより能率的に塗膜形成を行うことができる。
(考案の効果)
本考案は以上の説明からも明らかように、円筒
形陶磁器等の内周面に塗膜形成物質を寸法及び膜
厚精度良く施釉することができるものであり、ま
た供給管から供給された塗膜形成物質は全量が飛
散されるので従来法のように無駄を生ずることが
ない。なお、本考案は碍子のような円筒形陶磁器
のみならず、パイプ等の筒状体の内周面への施釉
に広く用いることができるものであり、従来の問
題点を解決した遠心施釉装置として、その実用的
価値は極めて大である。
形陶磁器等の内周面に塗膜形成物質を寸法及び膜
厚精度良く施釉することができるものであり、ま
た供給管から供給された塗膜形成物質は全量が飛
散されるので従来法のように無駄を生ずることが
ない。なお、本考案は碍子のような円筒形陶磁器
のみならず、パイプ等の筒状体の内周面への施釉
に広く用いることができるものであり、従来の問
題点を解決した遠心施釉装置として、その実用的
価値は極めて大である。
図面は本考案の実施例を示す一部切欠正面図で
ある。 1:回転軸、3:円形ローター、4:鍔部、
5:貫通孔、6:供給管。
ある。 1:回転軸、3:円形ローター、4:鍔部、
5:貫通孔、6:供給管。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 1 高速回転できる回転軸1の下端に、上部開口
周縁部に水平な鍔部4を突出させ、側壁に複数
の貫通孔5を透設した皿形の円形ローター3を
取り付けるとともに、該円形ローター3の上方
に塗膜形成物質の供給管6を配したことを特徴
とする遠心施釉装置。 2 円形ローター3の側壁の上方を5〜15゜の傾
斜面に形成した実用新案登録請求の範囲第1項
記載の遠心施釉装置。 3 円形ローター3の側壁の深さと鍔部4の長さ
との比を1:3〜1:0.4とした実用新案登録
請求の範囲第1項または第2項記載の遠心施釉
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985178547U JPH0226912Y2 (ja) | 1985-11-20 | 1985-11-20 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985178547U JPH0226912Y2 (ja) | 1985-11-20 | 1985-11-20 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6288729U JPS6288729U (ja) | 1987-06-06 |
| JPH0226912Y2 true JPH0226912Y2 (ja) | 1990-07-20 |
Family
ID=31120779
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985178547U Expired JPH0226912Y2 (ja) | 1985-11-20 | 1985-11-20 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0226912Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013215705A (ja) * | 2012-04-12 | 2013-10-24 | Yamakatsu Kogyo Kk | 塗膜形成装置及び塗膜形成方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015147184A (ja) * | 2014-02-06 | 2015-08-20 | 株式会社イズミフードマシナリ | 炭酸飲料製造装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56121658A (en) * | 1980-02-29 | 1981-09-24 | Kiyotomi Kogyo Kk | Coating method by using centrifugal force |
-
1985
- 1985-11-20 JP JP1985178547U patent/JPH0226912Y2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013215705A (ja) * | 2012-04-12 | 2013-10-24 | Yamakatsu Kogyo Kk | 塗膜形成装置及び塗膜形成方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6288729U (ja) | 1987-06-06 |
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