JPH0226573Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 この考案は、ワイヤカツト加工装置に加工液を
供給する装置に関し、さらに詳細には、より稼働
率を向上したワイヤカツト加工装置における加工
液供給装置に関する。

一般に、ワイヤカツト加工装置では、加工液と
して純水を使用するが、この純水の製造には、陽
イオンおよび陰イオン用のイオン交換樹脂を用い
た銃水製造装置を利用している。また従来のワイ
ヤカツト加工装置における加工液の供給装置とし
ては、加工に使用された加工液の戻りを第１槽に
受入れ後、濾過器を通して第２槽に送り、該第２
槽の液を再度加工液として使用する２槽式が用い
られている。

上記従来の加工液の供給装置には、通常加工液
の戻りの中に被加工物およびワイヤ電極等から金
属粉、イオンなどが入つて加工液の電気伝導率、
あるいは比抵抗が変わるため、このことによる加
工精度への影響を制御する目的で、前記第２槽の
液の比抵抗を所定の範囲に維持する装置が設けら
れている。一般に、この装置としては、第２槽か
らワイヤカツト加工装置の加工部への加工液の供
給路に分岐路を形成し、該分岐路に比抵抗測定器
を設けて、測定結果を制御装置によつて処理し、
比抵抗を所定範囲に保持すべく第２槽の液を前記
純水製造装置に送る構成である。

上述した従来のワイヤカツト加工装置における
加工液供給装置としてはそれぞれ第１槽の使用済
の加工液を濾過するため、第２槽の加工液をワイ
ヤカツト加工装置の加工部に送るため、第２槽の
液を純水製造装置に送るためのポンプおよびモー
タ等の動力源が３台必要であつた。このため、該
３台のポンプおよび動力源のいずれか１台でも故
障した場合には、加工液供給装置としての機能を
発揮することができず、稼働率の向上を図ること
が因難であつた。

すなわち、従来においてはワイヤカツト加工装
置の加工部へ加工液を供給する系において複数台
のポンプを必要とするものであるから、それだけ
構成が複雑化すると共に、製造価格が高くなるも
のであつた。また、第１槽内の加工液をポンプで
もつて吸い上げた後、フイルタを経て第２槽に移
送するものであるから、第１槽内において金属粉
等の沈澱が行なわれず、フイルタの目詰り発生が
頻繁に生じて稼働率を低下するなどの問題があつ
た。

この考案は、上記に鑑みてなされたもので、そ
の目的としては、加工液を供給する系のポンプを
１台にして構成を簡素化し、かつフイルタおよび
純水製造装置の長寿命化を図つて、稼働率をより
向上したワイヤカツト加工装置における加工液供
給装置を提供することにある。

以下、図面を用いて、この考案の実施例につい
て説明する。

第１図は、この考案の実施例を示すもので、ま
ずその構成について説明する。１は加工液の貯水
槽、３は駆動源とするポンプ、７は汲上げられた
加工液を濾過するフイルタ、９は濾過した加工液
について比抵抗を測定する比抵抗測定装置、１１
は比抵抗が所定範囲より低下したときには駆動し
て、濾過した加工液を純水製造装置を構成するイ
オン交換装置１３を介して前記貯水槽１に還流さ
せる通流切換手段を構成するソレノイドバルブ、
１５はワイヤカツト加工装置の加工部、１７は該
加工部１５から使用済の加工液が流れ込み、該加
工液に混在する金属粉等を沈澱させる沈澱槽であ
る。なお、該沈澱槽１７と貯水槽１とは隔壁１９
で仕切られており、沈澱槽１７であふれた液が該
隔壁１９を越えて貯水槽１に流れ込むようになつ
ている。また、２１は前記ポンプ３の吐出圧力を
所定レベルに調整するためのリリーフバルブ、２
３は前記フイルタ７の目詰りを検知するための圧
力計である。

加工部１５は、濾過された加工液を被加工物に
噴射する上ノズル２５および下ノズル２７と、該
上下ノズル２５，２７の噴射圧を表示する第１お
よび第２の圧力計２９および３１と、使用済の加
工液を集めて前記沈澱槽１７に流す加工槽３３と
を有するものである。なお、３５は予備ノズルで
ある。

次に、この実施例の作用について説明する。

まず、加工液の流れについて説明すると、貯水
槽１からポンプ３の駆動により汲上げられた加工
液は、フイルタ７で濾過され比抵抗を測定された
後、加工部１５における上下ノズル２５，２７か
ら被加工物に噴射されて加工槽３３から沈澱槽１
７に流れ込み、該沈澱槽１７で加工部１５で混入
した金属粉等を沈澱させて貯水槽１に戻る。

一般に、使用済の加工液中には被加工物、ワイ
ヤ電極等から金属粉ばかりでなくイオンも入つて
くることが知られているが、前記沈澱槽１７では
イオンを除去することができないので、貯水槽１
にはイオンを含んだ使用済の加工液が次々に戻つ
て来て、貯水槽１における加工液のイオン濃度が
増加して比抵抗が低下して行くことになる。そし
て、加工液の比抵抗が比抵抗測定装置９により測
定されていることは既に述べたが、測定の結果比
抵抗が所定範囲より低下した場合には、図示はし
ていないが制御装置によつてソレノイドバルブ１
１が駆動せしめられる。該ソレノイドバルブ１１
の駆動により、濾過された加工液の一部は、イオ
ン交換装置１３に送られてイオンの除去がなさ
れ、ほぼ銃水となつて貯水槽１に戻るので、該貯
水槽１における加工液中のイオン濃度を低下する
ことになり、もつて比抵抗が増加して、所定範囲
にもどることとなる。

なお、逆に、加工液の比抵抗が所定範囲を越え
た場合には、イオン交換装置１３への送水を停止
する。

従つて、この実施例によれば、ワイヤカツト加
工装置の加工部への送水のために貯水槽から汲上
げた加工液について、比抵抗を測定して、所定範
囲を越えた場合には、上記汲上げた加工液の一部
を純水製造装置を介して前記貯水槽に還流する構
成としたので、加工液の比抵抗を所定範囲に保持
でき、もつて加工精度の低下を招くようなことが
なく、また従来装置に比してポンプおよびその駆
動源が１台で済むため、装置のコストを低減でき
ると共に、稼働率の向上を図ることができる。

以上のごとき実施例の説明より理解されるよう
に、要するに本考案の要旨は実用新案登録請求の
範囲に記載のとおりであるから、その記載より明
らかなように、本考案においては、加工部におい
て使用された後の加工液を流入する沈澱槽に隣接
して設けられた貯水槽には沈澱槽から加工液が溢
れて流入するものである。したがつて、沈澱槽か
ら貯水槽へ加工液を流入するためのフイルタ等を
必要とせず、構成が簡単になると共に、貯水槽内
の加工液は金属粉等が沈澱除去されて浄化された
状態にあるものである。

また、本考案においては、貯水槽内の加工液を
加工部への圧送するためのポンプにフイルタが接
続されているので、フイルタを通過する加工液
は、前述したように金属粉等が既に除去された状
態にあるので、フイルタの目詰りが少なくなるも
のである。

特に本考案においては、前記フイルタによつて
濾過されて加工部へ送給される途中の加工液を比
抵抗を測定するための比抵抗測定装置が設けてあ
り、かつフイルタによつて濾過された後の加工液
の１部を前記貯水槽に還流するための還流回路が
設けてあるものである。そして、上記還流回路に
は、還流回路を連通遮断自在でかつ前記比抵抗測
定装置の測定値が所定値になつたときに還流回路
を連通状態に保持する切換バルブが配置してあ
り、かつ貯水槽に還流される加工液を純水化する
純水製造装置が還流回路に配置してあるものであ
る。

したがつて本考案によれば、切換バルブが還流
回路を遮断した状態にあるときには、加工液は全
て加工部へ送給されることとなり、加工液および
圧力の損失が少ないものである。また、還流回路
に加工液が流入して純水製造装置が機能する時
は、比抵抗測定装置の測定値が所定値になつて切
換バルブが連通状態にあるときである。よつて高
価なポンプは１台で良いものであり、構成が簡単
であると共に、純水製造装置の使用は連続的なも
のではなく、必要が生じたときのみであつて間欠
的な使用となり、純水製造装置の寿命を長くでき
るものである。

なお、本考案は前述の実施例のみに限るもので
はなく、適宜の変更を行なうことにより、その他
の態様でも実施し得るものである。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの考案の実施例を示すものである。 図面の主要な部分を表わす符号の説明、１……
貯水槽、３……ポンプ、７……フイルタ、９……
比抵抗測定装置、１１……ソレノイドバルブ（切
換バルブ）、１３……イオン交換装置（純水製造
装置）、１５……加工部、１７……沈澱槽。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. ワイヤカツト加工装置における加工部１５にお
   いて使用された後の加工液を流入する沈澱槽１７
   に隣接して、沈澱槽１７から溢れた加工液を受け
   入れる貯水槽１を設け、この貯水槽１内の加工液
   を吸上げて前記加工部１５に圧送するポンプ３を
   設けると共に吸上げられた加工液を濾過するフイ
   ルタ７をポンプ３に接続して設け、上記フイルタ
   ７により濾過されて加工部１５へ供給される途中
   の加工液の比抵抗を測定するための比抵抗測定装
   置９を設け、前記フイルタ７によつて濾過された
   後の加工液の１部を前記貯水層１に還流するため
   の還流回路を設け、上記還流回路を連通遮断自在
   でかつ前記比抵抗測定装置９の測定値が所定値に
   なつたときに還流回路を連通状態に保持する切換
   バルブを上記還流回路に配置して設けると共に還
   流回路から貯水槽１に還流される加工液を純水化
   する純水製造装置を上記還流回路に配設してなる
   ことを特徴とするワイヤカツト加工装置における
   加工液供給装置。