JPH0226042A - Marking device - Google Patents

Marking device

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Publication number
JPH0226042A
JPH0226042A JP63175028A JP17502888A JPH0226042A JP H0226042 A JPH0226042 A JP H0226042A JP 63175028 A JP63175028 A JP 63175028A JP 17502888 A JP17502888 A JP 17502888A JP H0226042 A JPH0226042 A JP H0226042A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
marking
pellet
core
solenoid
cores
Prior art date
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Pending
Application number
JP63175028A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akihiko Ariga
有賀 昭彦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP63175028A priority Critical patent/JPH0226042A/en
Publication of JPH0226042A publication Critical patent/JPH0226042A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To enable the degree of 'conforming' and 'non-conforming' of a product to be judged easily with marking shape by having at least two cores for marking which can be printed independently and achieving marking with two or more dot patterns using these cores selectively. CONSTITUTION:A core for marking made by bundling a plurality of glass fibers, etc., are fitted to the lower edge of a plunger 10 and this core 8 is allowed to project from the lower edge for example through an ink pot 7. Also, a solenoid 6 can be operated independently from each signal line 13 and the operation of the solenoid 6 can be controlled by a control part 5. Thus, it is possible to mark various kinds of dot patterns by control of the control part 5. It allows the status of a pellet area to be easily grasped according to the inspection result by this dot pattern.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体装置の製造工程において、半導体ウェ
ハ上の各ペレット領域の良否を記録するマーキング技術
に適用して有効な技術に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a technique that is effective when applied to a marking technique for recording the quality of each pellet area on a semiconductor wafer in the manufacturing process of semiconductor devices.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

この種の技術について記載されている例としては、株式
会社工業調査会、昭和58年11月15日発行、「電子
材料別冊、超LSI製造・試験装置ガイドブックJP1
95〜198がある。
An example of this type of technology described is "Electronic Materials Special Volume, VLSI Manufacturing and Testing Equipment Guidebook JP1, published by Kogyo Chosukaikai Co., Ltd., November 15, 1988.
There are 95 to 198.

上記文献にふいては、半導体ウェハにおけるプローブ検
査技術、について説明されている。このようなプローブ
検査では、不良と判定されたペレット領域に対しては、
水溶性の赤色系のインクによって円形状のスタンプが施
され、半導体ウェハ上における不良ベレットが目視可能
となっていた。
The above documents describe probe inspection techniques for semiconductor wafers. In this type of probe inspection, for pellet areas determined to be defective,
A circular stamp was applied using water-soluble red ink, and the defective pellet on the semiconductor wafer was visible.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

ところが、上記技術においては、一定の不良基準を定め
これに適合しないペレット領域を一律に不良と判定して
スタンプを施していたため、不良内容を再度確認するた
めには、プローブ検査における記録を再度点検する必要
があり、マーキング状態のみからはその判断が困難であ
った。
However, in the above technology, pellet areas that do not meet certain defect criteria are uniformly determined to be defective and stamped, so in order to reconfirm the defect content, it is necessary to re-inspect the records from the probe inspection. It was difficult to judge from the marking condition alone.

さらに、上記プローブ検査にふいて良品と判断されたペ
レット領域であっても良品の程度、製品のグレードを知
るためには上記と同様にプローブ検査における記録を調
査する必要があり、結局、マーキングからは単に製品の
良否のみしか知ることができなかった。
Furthermore, even if the pellet area is determined to be good in the above probe test, in order to know the degree of good product and the grade of the product, it is necessary to investigate the record of the probe test in the same way as above, and in the end, from the markings. could only know the quality of the product.

本発明は、上記課題に着目してなされたものであり、そ
の目的は、マーキング形状より製品の良否の程度を容易
に判断することのできる技術を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and its purpose is to provide a technique that allows the quality of a product to be easily determined based on the shape of the marking.

本発明の上記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、概ね次の通りである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、少なくとも2以上の独立して印点可能なマー
キング用芯を備えるとともに、このマーキング用芯を選
択的に用いて2以上のドツトパターンによる印点を可能
としたものである。
That is, it is equipped with at least two or more marking cores that can be used to make marks independently, and by selectively using these marking cores, it is possible to make marks using two or more dot patterns.

〔作用〕[Effect]

上記した手段によれば、ベレット領域毎の検査結果によ
って良・不良状態を複数のグレードに分類し、該グレー
ド毎にドツトパターンを変更した印点をそれぞれのベレ
ット領域上に行うことが可能となるため、このドツトパ
ターンによって検査結果によるペレット領域の状態をき
わめて容易に把握することが可能となる。
According to the above-mentioned means, it is possible to classify the good/bad condition into multiple grades based on the inspection results for each bullet area, and to mark each bullet area with a different dot pattern for each grade. Therefore, this dot pattern makes it possible to understand the condition of the pellet area based on the inspection results very easily.

〔実施例〕〔Example〕

第1図(a)、(ハ)右よび(C)はそれぞれ本発明の
一実施例であるマーキング機構を示す正面図、側面図お
よび底面図、同図(6)はその先端部分の拡大図、第2
図は本実施例のマーキング装置の全体構成を示す説明図
、第3図は半導体ウェハ上における印点パターンの一例
を示す説明図である。
Figures 1 (a), (c) right and (C) are front, side and bottom views showing a marking mechanism which is an embodiment of the present invention, respectively, and Figure 1 (6) is an enlarged view of the tip thereof. , second
The figure is an explanatory diagram showing the overall configuration of the marking device of this embodiment, and FIG. 3 is an explanatory diagram showing an example of a mark pattern on a semiconductor wafer.

本実施例のマーキング装置1は、第2図に示されるよう
にプローブ検査の終了した半導体ウェハ2の載置される
XYステージ3と、該XYステージ3上に配置されこの
XYステージ3上の半導体ウェハ2に対してマーキング
を行うマーキング機構4と、XYステージ3とマーキン
グ機構4とを制御する制御部5とから構成されている。
As shown in FIG. 2, the marking device 1 of this embodiment includes an XY stage 3 on which a semiconductor wafer 2 that has undergone probe inspection is placed, and a semiconductor wafer placed on the XY stage 3 and placed on the XY stage 3. The marking mechanism 4 includes a marking mechanism 4 that performs marking on the wafer 2, and a control section 5 that controls the XY stage 3 and the marking mechanism 4.

マーキング機構4は、第1図に示されるように支持部材
15に固定されたソレノイド6およびインク壷7、並び
に上記ソレノイド6とインク壷7との間を貫通され、軸
方向に移動可能なマーキング用芯8を有している。
The marking mechanism 4 includes a solenoid 6 and an ink bottle 7 fixed to a support member 15 as shown in FIG. It has a core 8.

上記ソレノイド6はその内部に軸動可能なプランジャl
Oを備えており、該プランジャ10は、その一端をソレ
ノイド6の端面より突出させた状態とされており、該上
端面には大径部10aが設けられ、この大径部10aと
ソレノイド端面との間にはコイル状のばね11が介装さ
れている。したがって通常の状態ではプランジャ10は
第1図(a)および(b)において上方に付勢された状
態となっている。
The above-mentioned solenoid 6 has a plunger l that can be pivoted inside.
The plunger 10 has one end protruding from the end surface of the solenoid 6, and a large diameter portion 10a is provided on the upper end surface, and the large diameter portion 10a and the solenoid end surface are connected. A coiled spring 11 is interposed between them. Therefore, under normal conditions, the plunger 10 is urged upward as shown in FIGS. 1(a) and 1(b).

プランジャ10の他端、すなわち同図で示すプランジャ
10の下端には複数本のガラス繊維等を東ねたマーキン
グ用芯8が装着されて右り、該マーキング用芯8は同図
下方に延設され上記インク117を経てその下端より突
出されている。このマーキング用芯8は、インク壷7内
において充填された液状のインク材12と接触される構
造となっており、該インク材12はマーキング用窓80
毛管現象を利用して該マーキング用芯8の先端に達して
いる。本実施例では、マーキング用芯8は第1図(C)
に示されるようにその底面方向からみて縦3本、横3本
の合計9本がマトリクス状に配置されている。
A marking core 8 made of a plurality of glass fibers or the like is attached to the other end of the plunger 10, that is, the lower end of the plunger 10 shown in the figure, and the marking core 8 extends downward in the figure. It passes through the ink 117 and protrudes from its lower end. This marking core 8 has a structure in which it comes into contact with a liquid ink material 12 filled in the ink bottle 7, and the ink material 12 is placed in a marking window 80.
The tip of the marking lead 8 is reached using capillary action. In this embodiment, the marking core 8 is shown in FIG. 1(C).
As shown in the figure, a total of nine wires, three vertically and three horizontally, are arranged in a matrix when viewed from the bottom direction.

上記ソレノイド6はそれぞれ信号線13により独立して
作動可能とされており、該ソレノイド6の作動は制御部
5によって制御されている。制御部5内にはソレノイド
6の作動信号を生成するためのデコーダ並びにドライバ
回路等を有しており、半導体ウェハ2のプローブ検査に
ふける検査結果に基づいて各ソレノイド6に対して信号
を供給する構造となっている。したがって、制御部5に
おける制御によって第3図に示すような各種のドツトパ
ターンによる印点が可能となっている。本実施例では9
個のドツトの組合せによりドツトパターンを形成するた
め、理論的には91通りのパタ−ン表現が可能である。
Each of the solenoids 6 can be operated independently by a signal line 13, and the operation of the solenoid 6 is controlled by a control section 5. The control unit 5 includes a decoder, a driver circuit, etc. for generating operating signals for the solenoids 6, and supplies signals to each solenoid 6 based on the inspection results obtained from the probe inspection of the semiconductor wafer 2. It has a structure. Therefore, under the control of the control section 5, it is possible to mark various dot patterns as shown in FIG. In this example, 9
Since a dot pattern is formed by a combination of individual dots, it is theoretically possible to express patterns in 91 ways.

次に、本実施例の作用を説明する。Next, the operation of this embodiment will be explained.

半導体ウェハ2のプローブ検査が完了した後、個々のペ
レット領域14毎の検査結果が制御部5に人力されると
、制御部5の制御によってXYステージ3が作動されマ
ーキング機構4の直下に所定のペレット領域14が配置
されるよう半導体ウェハ2の位置が修正される。
After the probe inspection of the semiconductor wafer 2 is completed, when the inspection results for each pellet area 14 are manually input to the control unit 5, the XY stage 3 is operated under the control of the control unit 5, and a predetermined position is placed directly under the marking mechanism 4. The position of semiconductor wafer 2 is corrected so that pellet region 14 is located.

この状態で、マーキング機構4の直下に配置されている
ペレット領域14に関する検査結果を制御部5が読み取
ると、該ペレット領域14の状態が予め基準化されたい
ずれのグレードに属するかを判断し、該グレードに基づ
いた信号を生成し、該信号を信号線13を介してソレノ
イド6に対して送出する。
In this state, when the control unit 5 reads the inspection results regarding the pellet area 14 located directly below the marking mechanism 4, it determines to which pre-standardized grade the condition of the pellet area 14 belongs, A signal based on the grade is generated and sent to the solenoid 6 via the signal line 13.

上記信号により選択的にON状態とされたソレノイド6
では、プランジャ10がばね11の付勢力に抗し第1図
(a)、(b)の下方に移動され、マーキング用芯8が
OFF状態の他のマーキング用芯8に比べて1分だけ下
方に突出された状態となる第1図(d))。
Solenoid 6 selectively turned on by the above signal
Now, the plunger 10 is moved downward in FIGS. 1(a) and 1(b) against the biasing force of the spring 11, and the marking lead 8 is moved downward by one minute compared to the other marking leads 8 in the OFF state. (Fig. 1(d)).

この状態で、図示されないX軸方向駆動手段によりマー
キング機構4がXYステージ3の方向に下降されると、
その直下位置にあるペレット領域14において上記突出
状態のマーキング用芯8の先端が接触状態となる。この
接触によって、マーキング用芯8の、先端に充填されて
いたインク材12はペレット領域14の表面に移り、ペ
レット領域14の表面において所定のドツトパターンに
よるマーキングが施される。
In this state, when the marking mechanism 4 is lowered in the direction of the XY stage 3 by an X-axis direction driving means (not shown),
The tip of the marking core 8 in the protruding state comes into contact with the pellet region 14 located directly below the pellet region 14 . Due to this contact, the ink material 12 filled at the tip of the marking core 8 is transferred to the surface of the pellet region 14, and a predetermined dot pattern is marked on the surface of the pellet region 14.

上記のペレット領域14におけるマーキング完了後、マ
ーキング機構4がX軸方向に上昇されると、XYステー
ジ3が所定量移動されて次のペレット領域14がマーキ
ング機構4の直下位置となるように配置される。以降の
ペレット領域14において上記と同様の動作を繰り返す
ことにより半導体ウェハ2上に順次マーキングが施され
る。
After the marking in the pellet area 14 is completed, when the marking mechanism 4 is raised in the X-axis direction, the XY stage 3 is moved by a predetermined amount and the next pellet area 14 is placed directly below the marking mechanism 4. Ru. By repeating the same operation as described above in the subsequent pellet region 14, markings are sequentially applied on the semiconductor wafer 2.

このように本実施例では、マーキングが単純な円形のも
のではなく第3図に示すように多数のドツトパターンに
よって形成されるものであるため、ペレット領域14が
不良である場合にはその不良類型に応じたマーキングを
行うことにより、ペレット領域14を目視したのみで容
易に不良類型を把握できる。また、良品のペレット領域
14に対しても、良品の度合、すなわちグレード別にド
ツトパターンを変更してマーキングを施すことにより、
半導体ウェハ2を観察するのみでペレット領域14毎の
良品グレードの把層がきわめて容易となる。
In this way, in this embodiment, the marking is not a simple circular one but is formed by a large number of dot patterns as shown in FIG. By marking in accordance with the above, it is possible to easily identify the type of defect just by visually observing the pellet area 14. In addition, by marking the good pellet area 14 by changing the dot pattern depending on the degree of good quality, that is, the grade,
By simply observing the semiconductor wafer 2, it is extremely easy to collect a good grade layer for each pellet region 14.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that the present invention is not limited to the above Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor.

たとえば、上記実施例ではw&横それぞれ3個ずつ合計
9個のドツトの組合せの印点により良否のグレード分類
をした例について説明したが、当該ドツト数をさらに増
加させて、ドツトの集合によりペレット領域14に対し
て直接数字あるいは記号の印字を行ってもよい。
For example, in the above embodiment, an example was described in which grades of pass/fail were classified based on a total of 9 dots, 3 dots each on the W and lateral sides. Numbers or symbols may be printed directly on 14.

以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその利用分野である、インクを用いたマーキング装置
に適用した場合について説明したが、これに限定される
ものではなく、たとえばレーザマーキング等のように光
の照射によるマーキング装置にも適用可能である。この
ような場合には、マーキング芯を光ファイバ等で構成し
、各マーキング芯に入光されるレーザ光をマーキング芯
毎に制御することにより上記実施例と同様の効果が得ら
れる。
In the above explanation, the invention made by the present inventor was mainly applied to a marking device using ink, which is the field of application of the invention, but the invention is not limited to this, and for example, it can be applied to a marking device using ink. It is also applicable to a marking device that uses light irradiation. In such a case, the same effect as in the above embodiment can be obtained by constructing the marking core with an optical fiber or the like and controlling the laser beam incident on each marking core for each marking core.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
A brief explanation of the effects obtained by typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、半導体ウェハ上のペレット領域毎の検査結果
によって良・不良状態を複数のグレードに分類し、該グ
レード毎にドツトパターンを変更した印点をそれぞれの
ペレット領域上に行うことが可能となるため、このドツ
トパターンによって検査結果によるペレット領域の状態
をきわめて容易に把握することが可能となる。
In other words, it is possible to classify good and bad conditions into multiple grades based on the inspection results for each pellet area on a semiconductor wafer, and to mark each pellet area with a different dot pattern for each grade. This dot pattern makes it possible to very easily understand the condition of the pellet area based on the inspection results.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図(a)、υふよび(C)はそれぞれ本発明の一実
施例であるマーキング機構を示す正面図、側面図および
底面図、 第1図(6)はその先端部分を示す拡大図、第2図は実
施例のマーキング装置の全体構成を示す説明図、 第3図は実施例を用いた半導体ウェハ上における印点パ
ターンの一例を示す説明図である。 1・・・マーキング装置、2・・・半導体ウェハ、3・
・・xYステージ、4・・・マーキング機構、5・・・
制御部、6・・・ソレノイド、7・・・インク壷、8・
・・マーキング用芯、10・・・プランジャ、10a・
・・大径部、11・・・ばね、12・・・インク材、1
3・・・信号線、14・・・ペレット領域、15・・・
支持部材。 ((f) 1Z:イン7)λ 13:41!%、昧
Figures 1(a) and υ (C) are a front view, side view, and bottom view respectively showing a marking mechanism which is an embodiment of the present invention, and Figure 1(6) is an enlarged view showing the tip thereof. , FIG. 2 is an explanatory diagram showing the overall configuration of the marking device of the embodiment, and FIG. 3 is an explanatory diagram showing an example of a mark pattern on a semiconductor wafer using the embodiment. 1... Marking device, 2... Semiconductor wafer, 3.
...xY stage, 4...marking mechanism, 5...
Control unit, 6... Solenoid, 7... Ink bottle, 8.
...Marking lead, 10...Plunger, 10a.
...Large diameter part, 11...Spring, 12...Ink material, 1
3... Signal line, 14... Pellet area, 15...
Support member. ((f) 1Z:in7)λ 13:41! %, vague

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、半導体ウェハ上の複数の各ペレット領域における良
否検査の結果によって当該ペレット領域上にマーキング
を実施するマーキング装置であって、少なくとも2以上
の独立して印点可能なマーキング用芯を備え、1または
2以上のマーキング用芯を選択的に用いて2以上のドッ
トパターンによる印点を可能としたことを特徴とするマ
ーキング装置。 2、上記2以上のマーキング用芯が印点面に対してドッ
トマトリクス状に配列されていることを特徴とする請求
項1記載のマーキング装置。
[Claims] 1. A marking device that performs marking on a plurality of pellet regions on a semiconductor wafer based on the results of a quality inspection in each of the pellet regions, the marking device being capable of marking at least two or more independently. 1. A marking device, characterized in that it is equipped with a marking core and is capable of marking points with two or more dot patterns by selectively using one or more marking cores. 2. The marking device according to claim 1, wherein the two or more marking cores are arranged in a dot matrix on the marking surface.
JP63175028A 1988-07-15 1988-07-15 Marking device Pending JPH0226042A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63175028A JPH0226042A (en) 1988-07-15 1988-07-15 Marking device

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JP63175028A JPH0226042A (en) 1988-07-15 1988-07-15 Marking device

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100514040B1 (en) * 2002-01-29 2005-09-13 주식회사 넥사이언 Marking apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100514040B1 (en) * 2002-01-29 2005-09-13 주식회사 넥사이언 Marking apparatus

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