JPH0225266B2 - - Google Patents
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- JPH0225266B2 JPH0225266B2 JP57079792A JP7979282A JPH0225266B2 JP H0225266 B2 JPH0225266 B2 JP H0225266B2 JP 57079792 A JP57079792 A JP 57079792A JP 7979282 A JP7979282 A JP 7979282A JP H0225266 B2 JPH0225266 B2 JP H0225266B2
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0971—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited
- H01S3/09713—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited with auxiliary ionisation, e.g. double discharge excitation
- H01S3/09716—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited with auxiliary ionisation, e.g. double discharge excitation by ionising radiation
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、レーザ共振器の軸を横切つて走るガ
ス放電を点火でき、その際一次電離がコロナ放電
によつて荷電−、放電回路およびガス循環−、冷
却系が引起される、一対の放電電極からなるレー
ザ放射発生装置に関するものである。
ス放電を点火でき、その際一次電離がコロナ放電
によつて荷電−、放電回路およびガス循環−、冷
却系が引起される、一対の放電電極からなるレー
ザ放射発生装置に関するものである。
レーザ混合気が大気圧で共振器の光学軸を横切
つて励却されるレーザ装置はTEA−レーザ
（Transversely Excited Atomospha¨rendruck
pressure Laser）として公知であり、今日レーザ
分野の最も重要な発展の一部をなすものである。
このレーザタイプの例として赤外線スペクトル領
域のCO2−TEAレーザ、可視または近紫外線ス
ペクトル領域のN2−レーザおよびEximer−レー
ザがあげられる。これらはすべて比較的操作が簡
単で効率が良好である。
つて励却されるレーザ装置はTEA−レーザ
（Transversely Excited Atomospha¨rendruck
pressure Laser）として公知であり、今日レーザ
分野の最も重要な発展の一部をなすものである。
このレーザタイプの例として赤外線スペクトル領
域のCO2−TEAレーザ、可視または近紫外線ス
ペクトル領域のN2−レーザおよびEximer−レー
ザがあげられる。これらはすべて比較的操作が簡
単で効率が良好である。
高い連続パルスのTEA−レーザは、例えばレ
ーザ化学、材料加工およびLidar−実験などの、
科学技術的応用面にきわめて重要である。これは
一方では縦に励起される連続的CO2−レーザと比
較できる高い平均効率と、他方では高いパルスピ
ーク効率をもつている。
ーザ化学、材料加工およびLidar−実験などの、
科学技術的応用面にきわめて重要である。これは
一方では縦に励起される連続的CO2−レーザと比
較できる高い平均効率と、他方では高いパルスピ
ーク効率をもつている。
TEA−レーザではレーザガス混合物は約30〜
50KVの電圧で、光学的軸方向に延びる相対する
２個の電極間の均一な放電によつて励起される。
その際放電が電極面間で同形に生じ、一つの火花
に収れんされないことが重要であつて、その理由
は、レーザガスが部分的に過熱され残りの部分が
全く励起されないからである。大気圧における同
形放電の前提は、ロゴスキーあるいはチヤン断面
をもつ一対の電極、高圧コンデンサ、高圧しや断
器とレーザ電極への導線からなるインダクタンス
の小さい放電回路の構成およびレーザガスの一次
電離である。
50KVの電圧で、光学的軸方向に延びる相対する
２個の電極間の均一な放電によつて励起される。
その際放電が電極面間で同形に生じ、一つの火花
に収れんされないことが重要であつて、その理由
は、レーザガスが部分的に過熱され残りの部分が
全く励起されないからである。大気圧における同
形放電の前提は、ロゴスキーあるいはチヤン断面
をもつ一対の電極、高圧コンデンサ、高圧しや断
器とレーザ電極への導線からなるインダクタンス
の小さい放電回路の構成およびレーザガスの一次
電離である。
まず、一次電離によつて、自由な荷電キヤリヤ
がつくられ、これが放電空間に均一に分布する。
ついで短時間に始まる主放電が電極間の全体積に
わたつて一様にひろがる。アール・ドウマンチン
（R.Dumanchin）の最初のTEA−レーザと後の
ランバートン−ピアソン（Lamberton−
Pearson）レーザおよび今日運転中のほとんど全
てのTEA−レーザは共に一次電離のため紫外線
放射または電子放射が行われる。（例えば、
Appl.Phys.Letters、19、506、1971参照）。その
際一次電離による紫外線放射は補助コンデンサを
経てアノードに至るトリガ線によつて作られる。
がつくられ、これが放電空間に均一に分布する。
ついで短時間に始まる主放電が電極間の全体積に
わたつて一様にひろがる。アール・ドウマンチン
（R.Dumanchin）の最初のTEA−レーザと後の
ランバートン−ピアソン（Lamberton−
Pearson）レーザおよび今日運転中のほとんど全
てのTEA−レーザは共に一次電離のため紫外線
放射または電子放射が行われる。（例えば、
Appl.Phys.Letters、19、506、1971参照）。その
際一次電離による紫外線放射は補助コンデンサを
経てアノードに至るトリガ線によつて作られる。
レーザガスに混合されるトリ−ｎ−プロピルア
ミンからなる補助ガスの導入は、その低い電離電
位によつて、装置の効率を高める。他の紫外線−
一次電離系は、火花連鎖からなり、これは電極の
そばあるいは電極に直接するキヤリヤ上に列とな
つてまたは全面に起る。
ミンからなる補助ガスの導入は、その低い電離電
位によつて、装置の効率を高める。他の紫外線−
一次電離系は、火花連鎖からなり、これは電極の
そばあるいは電極に直接するキヤリヤ上に列とな
つてまたは全面に起る。
すべての火花連鎖系の欠点は、消耗によつてた
いてい数千回の放電後に取り替えなければならな
いことである。
いてい数千回の放電後に取り替えなければならな
いことである。
さらに、一次電離系は、時限装置のように、コ
ンデンサ、抵抗および前トリガ装置、第２の高圧
しや断器などが付加的に必要である。その上たい
ていの一次電離系は、レーザ電極間の一様なレー
ザガス流を妨害する。これは早い連続パルスとガ
ス循環をもつTEA−レーザにとつては特に邪魔
になる。
ンデンサ、抵抗および前トリガ装置、第２の高圧
しや断器などが付加的に必要である。その上たい
ていの一次電離系は、レーザ電極間の一様なレー
ザガス流を妨害する。これは早い連続パルスとガ
ス循環をもつTEA−レーザにとつては特に邪魔
になる。
しかし、もしもレーザの側壁を同時に電極への
導電体とするときは、一次電離装置の付加を省略
することができる。
導電体とするときは、一次電離装置の付加を省略
することができる。
導電性側壁と第２電極との間に絶縁物を入れ、
各側壁上にガラス板を設ける。（H.Jetter、K.
Gu¨rs、Optical Eng.15、1976、17−19；G.J.
Ernst、A.G.Boer、A.G.Boer、Optics
Comm.27、1978、105）主放電の開始のため急速
な電圧上昇によつて上部電極と側壁との間に非常
に短時間内に強い磁力が生じる。これが絶縁材料
でおおわれた側壁上に10〜30n秒コロナ放電を起
す。このコロナ放電では紫外線−光インパルスが
生じ、これが主放電の一次電離を起す。この場合
一次電離の効率とそれによる主放電の良否は、実
質的にこの装置の形状と放電電圧に依存する。し
かし、この装置は、急速な連続パルスをもつ
TEA−レーザには適しない、それは光学軸を横
断して流れるレーザガスが、２つのレーザインパ
ルスの間にできるだけ２回放電容積で交換されな
ければならないからであり、したがつて２つの電
極を結合するリボン導体、プレート壁などは問題
外である。
各側壁上にガラス板を設ける。（H.Jetter、K.
Gu¨rs、Optical Eng.15、1976、17−19；G.J.
Ernst、A.G.Boer、A.G.Boer、Optics
Comm.27、1978、105）主放電の開始のため急速
な電圧上昇によつて上部電極と側壁との間に非常
に短時間内に強い磁力が生じる。これが絶縁材料
でおおわれた側壁上に10〜30n秒コロナ放電を起
す。このコロナ放電では紫外線−光インパルスが
生じ、これが主放電の一次電離を起す。この場合
一次電離の効率とそれによる主放電の良否は、実
質的にこの装置の形状と放電電圧に依存する。し
かし、この装置は、急速な連続パルスをもつ
TEA−レーザには適しない、それは光学軸を横
断して流れるレーザガスが、２つのレーザインパ
ルスの間にできるだけ２回放電容積で交換されな
ければならないからであり、したがつて２つの電
極を結合するリボン導体、プレート壁などは問題
外である。
本発明の課題は、簡単で、消耗がなく、光学軸
を横断するガス流が妨害構造を示さず、公知の装
置の欠点を生じない、急速な連続パルスをもつ
TEA−レーザを開発することである。
を横断するガス流が妨害構造を示さず、公知の装
置の欠点を生じない、急速な連続パルスをもつ
TEA−レーザを開発することである。
この課題は、はじめに述べたような装置、すな
わち第１電極が非導電性材料からつくられたガス
室の壁に固定され、その際の固定要素が導電体と
して役立ち、第２電極が第１電極と同じ壁の複数
の金属棒上に取付けられ、この金属棒は機械的保
持機能と同時に導電性であり、少なくともガス室
内は高い誘電率の絶縁管で囲まれ、第１電極と絶
縁された金属棒の間にコロナ放電を起しうる装置
によつて解決されることがわかつた。本発明によ
る装置の有利な態様は特許請求の範囲第２項ない
し第９項に記載されている。
わち第１電極が非導電性材料からつくられたガス
室の壁に固定され、その際の固定要素が導電体と
して役立ち、第２電極が第１電極と同じ壁の複数
の金属棒上に取付けられ、この金属棒は機械的保
持機能と同時に導電性であり、少なくともガス室
内は高い誘電率の絶縁管で囲まれ、第１電極と絶
縁された金属棒の間にコロナ放電を起しうる装置
によつて解決されることがわかつた。本発明によ
る装置の有利な態様は特許請求の範囲第２項ない
し第９項に記載されている。
優れた光学的放射と速い連続パルスが高出力効
率で得られる本発明の装置は、安価に製造でき、
組立てが簡単で、消耗がなく、提案されるガス循
環系とコンデンサユニツトの配置によつて容易に
達成される。コロナ放電の発生装置はレーザガス
の流通を妨害しない。ガス循環速度は、２つのレ
ーザインパルス間に、放電電極間のガス体積の交
換が２回起るように、容易に設定できる。
率で得られる本発明の装置は、安価に製造でき、
組立てが簡単で、消耗がなく、提案されるガス循
環系とコンデンサユニツトの配置によつて容易に
達成される。コロナ放電の発生装置はレーザガス
の流通を妨害しない。ガス循環速度は、２つのレ
ーザインパルス間に、放電電極間のガス体積の交
換が２回起るように、容易に設定できる。
第１図は本発明による装置の光学的軸を横断す
る断面図であり、第２図は、本発明の装置の実施
態様を示す光学的軸に平行する断面図である。
る断面図であり、第２図は、本発明の装置の実施
態様を示す光学的軸に平行する断面図である。
第３図のａ〜ｅはコロナ放電を強化するため、
電極と絶縁金属棒の間に導線を取付ける例を示す
もので、第４図ａ〜ｃは導線の別の取付けの例で
ある。
電極と絶縁金属棒の間に導線を取付ける例を示す
もので、第４図ａ〜ｃは導線の別の取付けの例で
ある。
第１図による本発明の装置は、ガス室１とそれ
に隣接する高圧室２から構成され、非導電性材料
で作られ、特にプレキシガラス（Plexiglas）か
らなる中間プレート３で互いに分けられている。
高圧室２とガス室１は、個々の要素の受入れを可
能にするため取外しできるふた４および５を備え
ている。
に隣接する高圧室２から構成され、非導電性材料
で作られ、特にプレキシガラス（Plexiglas）か
らなる中間プレート３で互いに分けられている。
高圧室２とガス室１は、個々の要素の受入れを可
能にするため取外しできるふた４および５を備え
ている。
ガス室１には、その断面がロゴスキーまたはチ
ヤン断面に形成された光学軸方向に延び、相対し
ている２つの放電電極６と７が設けられている。
上部電極６は中間プレート３に固定され、同時に
電圧供給として役立つ固定ねじ（図示していな
い）を介して高圧室２内の電極板８とねじ止めさ
れる。下部電極７は同じく中間プレート３に取付
けられ、しかも放電区間の両側に設けられた金属
棒９の若干を介して固定される。金属棒９は、第
２電極に対して絶縁するため、ポリテトラフルオ
ロエチレンまたはプレキシガラスからなる管１０
で囲まれている。ガス室１には、この絶縁物１０
上にさらに高い誘電定数の物質からなる、たとえ
ばガラス製の外被管が設けられる。ガス混合物の
１次電離にはコロナ放電が役立つがこれは電極６
と金属棒９との間の固有の電圧インパルス前の強
力な界磁の上昇によつて発生する。
ヤン断面に形成された光学軸方向に延び、相対し
ている２つの放電電極６と７が設けられている。
上部電極６は中間プレート３に固定され、同時に
電圧供給として役立つ固定ねじ（図示していな
い）を介して高圧室２内の電極板８とねじ止めさ
れる。下部電極７は同じく中間プレート３に取付
けられ、しかも放電区間の両側に設けられた金属
棒９の若干を介して固定される。金属棒９は、第
２電極に対して絶縁するため、ポリテトラフルオ
ロエチレンまたはプレキシガラスからなる管１０
で囲まれている。ガス室１には、この絶縁物１０
上にさらに高い誘電定数の物質からなる、たとえ
ばガラス製の外被管が設けられる。ガス混合物の
１次電離にはコロナ放電が役立つがこれは電極６
と金属棒９との間の固有の電圧インパルス前の強
力な界磁の上昇によつて発生する。
この装置で発生するコロナ放電は、本発明によ
るガラス外被管１１の囲りに設けられて１つの電
極６、例えばアノードと結合している電気導体例
えば細い銅線１２の取付けによつて増大される。
この導電線とカソードの間隔の変化によつて、一
定の電極間隔に対する１次電離が調整される。
るガラス外被管１１の囲りに設けられて１つの電
極６、例えばアノードと結合している電気導体例
えば細い銅線１２の取付けによつて増大される。
この導電線とカソードの間隔の変化によつて、一
定の電極間隔に対する１次電離が調整される。
電極の全長にわたる一様なガス循環は、例えば
電極７（カソード）の下のプレキシガラスプレー
ト１４で絶縁された電子フアン１３（80mm×80
mm）によつて行われる。レーザガスの冷起用には
フアン１３の直後に水の流通するガスクーラ１５
がある。冷却されたレーザガスはガス誘導器１６
を介して励起体積によつて閉回路内へ導入され
る。
電極７（カソード）の下のプレキシガラスプレー
ト１４で絶縁された電子フアン１３（80mm×80
mm）によつて行われる。レーザガスの冷起用には
フアン１３の直後に水の流通するガスクーラ１５
がある。冷却されたレーザガスはガス誘導器１６
を介して励起体積によつて閉回路内へ導入され
る。
他のガス循環系に比べると、この仕組みはそれ
が直接ガス室内にあるけれども、丸いひもリング
で密閉された底ふた５の取外しだけで容易に取付
けられるという利点がある。このガス循環系によ
つて電極６と７の間に３ｍ／秒の速度の一様なガ
ス流通が得られる。光学軸に沿つて、ガス流速は
わずか２％変動するが、これは外被管１１に流線
型に流れ、わずかの抵抗しかないことを示してい
る。図面に示し得ないレーザ鏡は、好ましくは熱
膨張率の低い材料、例えば鉄−ニツケル合金
（Invar）からなり中間プレート３と絶縁プレート
１７に取付けられた４本の間隔棒１７によつて保
持される。この間隔棒１７もまた例えばプレキシ
ガラスからなる絶縁管１８で囲まれている。
が直接ガス室内にあるけれども、丸いひもリング
で密閉された底ふた５の取外しだけで容易に取付
けられるという利点がある。このガス循環系によ
つて電極６と７の間に３ｍ／秒の速度の一様なガ
ス流通が得られる。光学軸に沿つて、ガス流速は
わずか２％変動するが、これは外被管１１に流線
型に流れ、わずかの抵抗しかないことを示してい
る。図面に示し得ないレーザ鏡は、好ましくは熱
膨張率の低い材料、例えば鉄−ニツケル合金
（Invar）からなり中間プレート３と絶縁プレート
１７に取付けられた４本の間隔棒１７によつて保
持される。この間隔棒１７もまた例えばプレキシ
ガラスからなる絶縁管１８で囲まれている。
高圧室２内の電極プレート８上には放電開閉回
路の火花放電区間１９があり、さらに第２の電極
プレート２０上にはインダクタンスの少ない高圧
蓄電コンデンサ２１がある。コンデンサユニツト
２１はカバー４を取外すと容易に手にとどくから
所望のパネルエネルギに応じて速かに変えられ
る。高圧室２はトリガトランスフオーマ２２、直
列抵抗とさらに高圧構成部を収容する十分な空間
をもつている。
路の火花放電区間１９があり、さらに第２の電極
プレート２０上にはインダクタンスの少ない高圧
蓄電コンデンサ２１がある。コンデンサユニツト
２１はカバー４を取外すと容易に手にとどくから
所望のパネルエネルギに応じて速かに変えられ
る。高圧室２はトリガトランスフオーマ２２、直
列抵抗とさらに高圧構成部を収容する十分な空間
をもつている。
ポリテトラフルオロエチレン管１０で囲まれる
金属棒９は高圧室２内に入りこみ、例えばねじを
用いて電極プレート２０にねじこまれる。第２図
の側面図から特にレーザ共振器の構成とガラス外
被管１１で囲まれる金属棒９が明かである。
金属棒９は高圧室２内に入りこみ、例えばねじを
用いて電極プレート２０にねじこまれる。第２図
の側面図から特にレーザ共振器の構成とガラス外
被管１１で囲まれる金属棒９が明かである。
さらに、レーザ鏡２４が調整可能にその上に設
けられた高級鋼製の端板２３は、第１図に示す間
隔棒１７の端部にねじ止めされ、プレキシガラス
からなるケースをＯ−リングで密閉する。プレキ
シガラスからなるケースに対する、この高級鋼の
枠組構造が高度の機械的、熱的安定性を保証す
る。共振器の熱的安定性が特に要求される場合に
は、共振棒１７はInvar、石英またはガラスセラ
ミツク（Zerodur）から作ることができる。
けられた高級鋼製の端板２３は、第１図に示す間
隔棒１７の端部にねじ止めされ、プレキシガラス
からなるケースをＯ−リングで密閉する。プレキ
シガラスからなるケースに対する、この高級鋼の
枠組構造が高度の機械的、熱的安定性を保証す
る。共振器の熱的安定性が特に要求される場合に
は、共振棒１７はInvar、石英またはガラスセラ
ミツク（Zerodur）から作ることができる。
第３図ａ〜ｅはコロナ放電を強化するための可
能な装置を示すものである。この実施態様は第１
図、第２図に示されている。第３図ａとｂによれ
ば電線１２は電極６と７に沿つて配置された、絶
縁金属棒９の周囲に導かれ、電極６と２個所で点
接触する。第３図ｃ〜ｅでは、電線１２の取付け
に若干広い可能性が得られる。
能な装置を示すものである。この実施態様は第１
図、第２図に示されている。第３図ａとｂによれ
ば電線１２は電極６と７に沿つて配置された、絶
縁金属棒９の周囲に導かれ、電極６と２個所で点
接触する。第３図ｃ〜ｅでは、電線１２の取付け
に若干広い可能性が得られる。
ガス室内の金属棒９は、ポリテトラフルオロエ
チレン管１０で囲まれその上をガラス外被管１１
が包被する。
チレン管１０で囲まれその上をガラス外被管１１
が包被する。
レーザ励起体積が均一なガス流の場合、コロナ
放電の強化は第４図ａ〜ｃの装置で得られる。こ
の場合短い電線２５がガラスまたはプラスチツク
２６中に溶融され、各ガラス外被管１１に平行に
配置され、電極６または７（例えばアノード）と
電気的に結合される。この場合、短い電線２５は
ガラスまたはプラスチツク２６内に溶封され、各
ガラス外被管１１に平行におかれて電極６または
７（例えばアノード）と結合する。
放電の強化は第４図ａ〜ｃの装置で得られる。こ
の場合短い電線２５がガラスまたはプラスチツク
２６中に溶融され、各ガラス外被管１１に平行に
配置され、電極６または７（例えばアノード）と
電気的に結合される。この場合、短い電線２５は
ガラスまたはプラスチツク２６内に溶封され、各
ガラス外被管１１に平行におかれて電極６または
７（例えばアノード）と結合する。
第１図は本発明による装置の縦断面図、第２図
は側断面図、第３図ａは本発明装置の一部の縦断
面図、ｂはその部分側面図、ｃ，ｄおよびｅはそ
の部分横断面図であり、第４図ａは本発明装置の
一部の縦断面図、ｂはその部分側面図、ｃはその
部分横断面図である。 １……ガス室、２……高圧室、３……中間プレ
ート、４，５……ふた、６，７……放電電極、８
……電極プレート、９……金属棒、１０……絶縁
体、１１……金属外被管、１２……導線、１３…
…電子フアン、１４……プレキシガラスプレー
ト、１５……ガスクーラ、１６……ガス誘導器、
１７……間隔棒、１８……絶縁管、１９……高圧
しや断器、２０……プレート、２１……コンデン
サユニツト、２２……トリガトランスフオーマ、
２３……端板、２４……レーザ鏡、２５……導
線。
は側断面図、第３図ａは本発明装置の一部の縦断
面図、ｂはその部分側面図、ｃ，ｄおよびｅはそ
の部分横断面図であり、第４図ａは本発明装置の
一部の縦断面図、ｂはその部分側面図、ｃはその
部分横断面図である。 １……ガス室、２……高圧室、３……中間プレ
ート、４，５……ふた、６，７……放電電極、８
……電極プレート、９……金属棒、１０……絶縁
体、１１……金属外被管、１２……導線、１３…
…電子フアン、１４……プレキシガラスプレー
ト、１５……ガスクーラ、１６……ガス誘導器、
１７……間隔棒、１８……絶縁管、１９……高圧
しや断器、２０……プレート、２１……コンデン
サユニツト、２２……トリガトランスフオーマ、
２３……端板、２４……レーザ鏡、２５……導
線。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 第１電極６が非導電性材料からつくられたガ
ス室１の壁に固定され、その際固定要素が導電体
として役立ち、第２電極７が第１電極６と同じ壁
についた複数の金属棒９に取付けられ該金属棒９
は機械的保持機能と同時に導電可能であり、少な
くともガス室１内は高い誘電率の絶縁管１１で囲
まれ、第１電極６と絶縁された金属棒９の間にコ
ロナ放電を発生しうることを特徴とする、レーザ
共振器の軸を横切つて走るガス放電を点火でき、
その際一次電離がコロナ放電によつて荷電−、放
電回路およびガス循環−、冷却系に引起される、
一対の放電電極からなるレーザ放射発生装置。 ２ コロナ放電強化のために、少なくとも第１電
極６と結合した導線１２，２５が設けられている
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の装
置。 ３ 導体が電極６，７に平行し、絶縁管１１上を
横切つて張られた導線１２からなり、第１電極６
と１ケ所または数ケ所で結合していることを特徴
とする特許請求の範囲第２項記載の装置。 ４ 各絶縁管１１に平行に第１電極６と結合した
絶縁導線２５が設けられていることを特徴とする
特許請求の範囲第２項記載の装置。 ５ 絶縁管１１がガラスからなり、金属棒９と絶
縁管１１の間にポリテトラフルオロエチレン−層
１０が存在することを特徴とする特許請求の範囲
第１項ないし第４項のいずれかの項に記載の装
置。 ６ ガス室１内の第２電極７の下部に第２電極に
対し絶縁された複数の電子フアン１３とガスクー
ラ１５が配置され、２個の曲板のガス誘導器１６
が設けられていることを特徴とする特許請求の範
囲第１項ないし第６項のいずれかの項に記載の装
置。 ７ レーザ共振器が２個の端板２３に調整可能に
保持されたレーザ鏡２４と電気放電回路から絶縁
された間隔棒１７によつて構成されていることを
特徴とする特許請求の範囲第１項ないし第６項の
いずれかの項に記載の装置。 ８ ガス室１に隣接して高圧室２が設けられ、高
圧室内にエネルギー供給コンデンサ２１と高圧し
や断器１９が配置され、絶縁金属棒９がこの室内
のプレート２０に固定されていることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項ないし第７項のいずれか
の項に記載の装置。 ９ 高圧室２内の金属棒９がポリテトラフルオロ
エチレン管１０だけで絶縁されていることを特徴
とする特許請求の範囲第８項記載の装置。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19813118868 DE3118868A1 (de) | 1981-05-13 | 1981-05-13 | "vorrichtung zur erzeugung von laserstrahlung" |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57210678A JPS57210678A (en) | 1982-12-24 |
| JPH0225266B2 true JPH0225266B2 (ja) | 1990-06-01 |
Family
ID=6132116
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57079792A Granted JPS57210678A (en) | 1981-05-13 | 1982-05-12 | Laser radiation generator |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4491949A (ja) |
| JP (1) | JPS57210678A (ja) |
| CA (1) | CA1167151A (ja) |
| DE (1) | DE3118868A1 (ja) |
| FR (1) | FR2506085B1 (ja) |
| GB (1) | GB2098389B (ja) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3242085A1 (de) * | 1982-11-13 | 1984-05-17 | Battelle-Institut E.V., 6000 Frankfurt | Vorrichtung zur erzeugung von laserstrahlung |
| DE3313811A1 (de) * | 1983-04-15 | 1984-10-18 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Transversal angeregter gaslaser |
| JPS60192467U (ja) * | 1984-05-31 | 1985-12-20 | 日本電気株式会社 | パルスガスレ−ザ装置 |
| JPS61137380A (ja) * | 1984-12-10 | 1986-06-25 | Toshiba Corp | 横励起形ガスレ−ザ発振装置 |
| JPS6231186A (ja) * | 1985-08-02 | 1987-02-10 | Mitsubishi Electric Corp | パルスレ−ザ発振器 |
| JPH0445268Y2 (ja) * | 1985-08-20 | 1992-10-23 | ||
| JPH06105807B2 (ja) * | 1986-05-08 | 1994-12-21 | 三菱電機株式会社 | レ−ザ励起装置 |
| JPS636886A (ja) * | 1986-06-27 | 1988-01-12 | Nec Corp | 横方向励起型レ−ザ装置 |
| JPH03504063A (ja) * | 1988-04-26 | 1991-09-05 | シーメンス、アクチエンゲゼルシヤフト | マルチチヤネル‐擬似火花スイツチを有するガスレーザー用励起回路および励起回路の用途 |
| US4882735A (en) * | 1988-12-01 | 1989-11-21 | United Technologies Corporation | Modular UV preionization package for a CO2 laser |
| US5081638A (en) * | 1990-12-05 | 1992-01-14 | Lumonics Inc. | Excimer laser |
| US6456643B1 (en) | 1999-03-31 | 2002-09-24 | Lambda Physik Ag | Surface preionization for gas lasers |
| US6650679B1 (en) | 1999-02-10 | 2003-11-18 | Lambda Physik Ag | Preionization arrangement for gas laser |
| US6757315B1 (en) | 1999-02-10 | 2004-06-29 | Lambda Physik Ag | Corona preionization assembly for a gas laser |
| US6671302B2 (en) | 2000-08-11 | 2003-12-30 | Lambda Physik Ag | Device for self-initiated UV pre-ionization of a repetitively pulsed gas laser |
| DE102006023392A1 (de) * | 2006-05-17 | 2007-11-22 | Forschungszentrum Karlsruhe Gmbh | Schaltfunkenstrecke mit einer Koronaelektrode |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3721915A (en) * | 1969-09-19 | 1973-03-20 | Avco Corp | Electrically excited flowing gas laser and method of operation |
| CA1038070A (en) * | 1973-05-23 | 1978-09-05 | Martin S. Piltch | Pulsed multiline co2 laser oscillator apparatus and method |
| DE2910177C3 (de) * | 1979-03-15 | 1981-11-26 | Opower, Hans, Dipl.-Phys. Dr., 8033 Krailling | Elektrisch angeregter CO↓2↓-Laser |
| DD150974A1 (de) * | 1980-05-20 | 1981-09-23 | Matthias Scholz | Laserkanal fuer einen impulsgaslaser |
-
1981
- 1981-05-13 DE DE19813118868 patent/DE3118868A1/de active Granted
-
1982
- 1982-05-10 FR FR8208092A patent/FR2506085B1/fr not_active Expired
- 1982-05-12 JP JP57079792A patent/JPS57210678A/ja active Granted
- 1982-05-12 US US06/377,561 patent/US4491949A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-05-12 GB GB8213833A patent/GB2098389B/en not_active Expired
- 1982-05-12 CA CA000402803A patent/CA1167151A/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA1167151A (en) | 1984-05-08 |
| US4491949A (en) | 1985-01-01 |
| GB2098389B (en) | 1984-08-01 |
| GB2098389A (en) | 1982-11-17 |
| JPS57210678A (en) | 1982-12-24 |
| DE3118868A1 (de) | 1982-11-25 |
| FR2506085A1 (fr) | 1982-11-19 |
| FR2506085B1 (fr) | 1985-12-20 |
| DE3118868C2 (ja) | 1987-07-23 |
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