JPH02236901A

JPH02236901A - 発光部材

Info

Publication number: JPH02236901A
Application number: JP1056140A
Authority: JP
Inventors: Yumie Imanishi; 今西　由美恵; Hirotsugu Takagi; 高木　博嗣; Hiroko Ogawa; 小川　博子
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1989-03-10
Filing date: 1989-03-10
Publication date: 1990-09-19

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は、電場、電子線、Ｘ線、紫外線、あるいは町視
光や赤外線などの励起エネルギーを吸収させる事により
、蛍光や燐光などの光を放出する作用を有する発光部材
に関する。

［従来の技術］従来、蛍光や燐光を発する発光部材としては種々のもの
が知られて来た。例えば直接遷移型の半導体であるＧａ
ＡｓやＩｎＰなどの■一ｖ族化合物の結晶やＺｎＳ　，
　ＺｎＳｅなどの■〜■族化合物の結晶で？、これらの
材料のバンドギャップよりも大きなエネルギーの光を照
射すると、これを吸収して照射光すなわち励起光よりも
低エネルギーの光を放出して発光する。また、いわゆる
間接遷移型の材料でも例えばＳｉＣなとの様にバンドギ
ャップ内に再結合中心をつくってやわばかなり強く発光
する。また、イオン性の強い結晶では不純物による蛍光
が生じる。例えば、ＫＣＩ　：　ＴＪ”ではＴＩ”イオ
ンが短波長の励起光により励起され、１９６ｎｍ及び２
４９ｎｍに蛍光スペクトルのピークが出る。この様な発
光は電磁波だけでなく電子線によっても引き起こされる
。例えばブラウン管に用いられる蛍光体であるＹ２０■
Ｓではアクチベータ不純物としてＥｕ３４″が加えられ
、赤色の発光が電子線照射により引き起こされる。この
様な例はＺｎＳへのＡ　ｇ′″による青の蛍光、ＺｎＦ
，へのＭｎ添加によるオレンジ色の蛍光など多くの例が
知られている。また、例えば八ｐｐｌｉｅｄ　Ｐｈｙｓ
ｉｃｓ　Ｉ．ｅｔｔｅｒｓ　１３　２１０（１９６８）
にみられるように発光部材に電極をつけて電場をかける
事によワて発光させる方法も従来知られて来た方法であ
る。例えば、Ｍｎを添加したＺｎＳやＧｕとＣ１を添加
したＺｎＳなどの微結晶粒をバインダーに分散させたも
のを発光部材として用い、こわに交流電場を印加すると
、いわゆるエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）による発
光が見られ、こわらはディスプレーなどに利用される。

また、ｍ−ｖ族化合物などの直接遷移型半導体のｐ−ｎ
接合を用いた注入発光も現在では良く知られた技術であ
る。さらに、このようないわゆるＬＥＤを改良してレー
ザー発振させる事を可能にしたものが半導体レーザーで
ある。これらについては例えばＳ．Ｍ．Ｓｚｅ著のＰｈ
ｙｓｉｃｓ　ｏｆ　Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ　Ｄｅ
ｖｉｃｅｓ　　第１２章（Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　
Ｓｏｎｓ．１９８１）などの標準的な参考書に詳しく述
べられているし、製品も市場に沢山出回っている。

ところで、本発明者等は、発光波長と同程度又はそわ以
下の大きさの粒径を有する微粒子，特に、炭素、硅素及
びゲルマニウムの■族系元素を含む微粒子から成る発光
部を有するものが有用であることを見い出した。この微
粒子は、その構成元素が酸化されていると同時に、更に
該表面に水を吸着した構造であるとより効果が増し、実
質的な発光強度も大きくなるという特徴をもち、通常、
層状堆積膜、或は、バインダー分散膜の形で、発光部と
されている。

［発明が解決しようとする課題］しかしながら、上記■族系元素から成る微粒子膜は、低
湿度雰囲気中で、長時間経過すると吸着水が徐々に自然
脱水していくという欠点を有しており、発光特性の劣化
が生じていた。

また、発光部材として実用化の段階になると、一般的な
他の発光部材同様、たとえば、耐候性をもたせるため、
発光層上に直接、保護膜層な設けるなどの封止を講じた
り、ＥＬ素子として用いる場合には、発光層＼絶縁層＼
電極層といった積ばか必要である。ところが、本発明の
微粒子膜発光層は、水を多量に含んだ構造のため、層表
面にしみ出した水が、直接前述した保護層や絶縁層に触
れて犯していき、その性能を劣化させたり、密着性が悪
くなるため、膜はがれが起きやすい等問題を有していた
。

従って、本発明の目的は、前述した従来技術の欠点を克
服した発光部材、すなわち長期的に変質がなく、かつ性
能劣化のない微粒子発光部材を提供することにある。

［課題を解決するための手段］上記の目的は、以下の本発明により達成される。

即ち、本発明は、励起エネルギーを付与することにより
光を放出する発光部材において、発光部が吸着水を保持
した■族元素を含む微粒子から成る発光層と、該層に接
して無機保湿層を有することを特徴とする発光部材であ
る。

上述発光部の微粒子からなる発光層は、主にＣ，　Ｓｔ
，　Ｇｅを代表する■族元素から成る水を吸着した微粒
子を層状に堆積させた膜、もしくは、バインダー分散膜
であり、さらには、微粒子の構成元素は酸化されたもの
である．この全体として多くの水を保持した微粒子膜が
実用に耐え得るためには、発光特性に寄与している吸着
水の自然脱水を防ぐ手段を講じなければならない。本発
明は、その手段として、該微粒子膜の上に接して、透過
率が低く（保湿性が高く）、光透過性でかつ緻密な無機
保湿層を有することにより、脱水や水のしみ出しによる
膜変質の問題を解決し発光特性の長期持続を可能とした
ものである。

以下、本発光部材の１例を第１図構成図を用い説明する
。

図中１は基体、２は微粒子から成る発光層、そして３は
無機保湿層である。基体１としては、石英ガラス、シリ
コンウェハー等、各種基板が使用可能である。基体ｌ上
に形成される微粒子から成る発光層２は、Ｃ，　Ｓｔ，
　Ｇｅを代表する■族系元素を単独もしくは、複合体と
して含む微粒子の膜であり、さらに、該微粒子はその構
成元素が酸化され、また、その表面に単位表面積あたり
０．１個／ｎｍ”以上、好ましくは、１個／　ｎ　ｍ　
２以上の水分子を吸着した構造のものである。

ここで用いられる■族系元素を含む微粒子は、その大き
さが発光波長と同程度、又は、それ以下のものであれば
良く、可視光の発光の場合には、粒径が１μｍ以下、好
ましくは０．１μｍ以下、さらに好ましくは５００人以
下のものである。

前記微粒子に吸着した水分子の量は熱重量分析、ＦＴ−
　Ｉ　Ｒスペクトル測定等により求めることができ、微
粒子の大きさは透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）又は電界放
射型走査電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ）により観察するこ
とができる。

又、酸化された構成元素から成る該微粒子の酸化の程度
は完全酸化状態に比して８０〜９０％であり、熱重量分
析により測定することができる。

又、微粒子から成る発光層２の微粒子は■族元素を含む
が、ここで■族元素を含むとは、該微粒子中の■族元素
の割合が５０〜９５ａｔ％程度であり、該微粒子の特性
が■族元素により規定されることをいうが、微粒子生成
用の原料ガス種類や成膜後の酸化処理等により水素原子
、酸素原子等を含有していてもよい。

又発光部材の形態としては■族元素主体の微粒子による
堆Ｍ膜又はバインダー分敗膜であるが、堆積膜の厚みと
しては０．Ｉ　Ｎ１０μｍ程度、又バインダー分散膜の
厚みは１０〜１００μｍ程度でよく、バインダーとして
は合成樹脂等を用いることができる。

微粒子から成る発光層上には無機保湿層が設けられてい
るが、該保湿層は、水の透過率が低くて撥水性に優れ（
接触角７０”以上、好ましくは９０゜以ト）、かつ下地
となる微粒子膜との密着性が良好なものが良く、また、
光吸収率の低い材料を選ぶことも重要であり、好ましい
透過率としては可視光に対し９５％以上である。本発明
においては、以上の特性を満足する無機材料の緻密な膜
により保湿層を形成するもめである。該無機保湿層の材
料には、ＡＩＮ　．ＭｇＦ２　，　ＳｉＣ　，　ＺｒＮ
等のものを用いることができる。

又、膜厚は、１０００人以上、好ましくは５０００人〜
１００００人程度あれば性能上充分である。

次に本発明の発光部材の作成方法について説明する。

まず第１図中微粒子からなる発光層２は、該微粒子を堆
Ｍ　ＩＩＱもしくは、バインダー分敗膜の形で基板１上
に成膜後、続けて、酸化及び水吸着処理を施す工程を経
て作成される。

微粒子膜の製造方法は種々あるが、その１例として、第
２図にマイクロ波プラズマＣＶＤ法で、かつ、微粒子を
ビーム化するノズルを具備した装置を示す。

例えばＳｉ系微粒子膜を作成する場合には、まずガス導
入口１３よりＳｉＨ４ガスとＨ２等のキャリアガスを原
料として送り込み、反応室である空胴共振器８内でマイ
クロ波によりプラズマを発生させて、ガスの分解反応を
起こし、微粒子を形成する。この微粒子は、一部末反応
の気体状の活性種とともに磁気コイル６を配した、縮小
拡大ノズル５から下流室７ヘビーム状に噴出させホルダ
ー９に担持された基体１０上に吹き付け固定する。この
際の下流室７内は通常１　０　−’Ｔｏｒｒ以下程度の
低圧で、ノズル上流側との圧力比は、ａ１０〜１００程
度が望ましい。

また、原料ガスについては、Ｓｉｆｔ．たけてなく通常
Ｓｉ成膜に使われるシラン誘さ体例えばＳｉ，Ｉ＋．や
ＳｉＦ４なども使用可能である。さらに他の■族系のガ
ス、例えばＣＩ１４　，　ＣＨ３０１１　，　Ｃ２Ｈｓ
その他の炭化水素系ガスを用いればアモルファスの炭素
膜ができるし、ＧｅＨ．などによりＧｅ膜も全く同様の
装置を用いて微粒子構造の発光層が形成出来る。

またＳｉ系ガスとＣ系のガス、Ｓｉ系ガスとＧｅ系のガ
スの様に２種、３種のガスを混合して使用することも可
能である。

このようにして作成した微粒子膜は、続けて、酸化及び
水吸着処理を施す。その方法は、簡単には、空中酸素と
水により経時変化させるだけでよいが、実用的には、高
温高湿環境下で加速処理することが望ましい。また後者
においては、温度（５０〜１００℃）、湿度（５０〜１
００％ＲＨ），処理時間を選ぶことにより酸化度、吸着
水量を制御できる。

上述の如く形成された微粒子から成る発光層２の上には
、本発明の特徴である無機保湿層３を設ける。

該保湿層３は通常の高周波マグネトロンスバッタ法（Ｒ
Ｆ−ｍｓＰ法）や電子ビーム蒸着法（ＥＢ蒸着法）によ
り形成することができる。

尚、前記微粒子をバインダー分散膜の形で成膜する場合
は加熱蒸発等でバインダー材を微粒子表面にコーティン
グ後、堆積させるようにして行なっても良い。

［実施例］次に実施例に基づき、さらに具体的に説明する。

実施例ＩＳｉ基板＼Ｓｉ系微粒子堆積膜の発光層上に、保湿層と
して八ＩＮをＲＦ−ｍＳＰ法により成膜した。

Ｓｉ系微粒子堆積膜は、第２図装置を用い作成した。到
達真空度２ｘ　１　０””　Ｔｏｒｒ　，原料ガスであ
る１１２３％稀釈のＳｉｌｌ４混合ガスを１　０　０　
５ＣＣＭ流し、２．４５ＧＨｚのマイクロ波をバワー１
５０Ｗ投入して放電プラズマを発生させ、生成した微粒
子をノズルを介しＳｉ基板上に厚み３．０μｍ堆積させ
た。

この際の上流室、下流室圧力は、それぞれ４×１　０　
−’．　４．５　Ｘ　１　０−”ｒｏｒｒであった。ま
た、基板温度は室温であった。

１：ＩられたＳｉ系微粒子堆積膜は、電界放射塑走査電
子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ）観察で、均一球形で平均１０
０人ほどの、微粒子から成っていた。

続いて、上記１漠を、６０℃、８５％ＲＨ環境下で、２
４時間放置し、酸化及び水吸着処理を施したところ、赤
外吸収スペクトル（ＦＴ−ＩＲ）測定から、第３図に示
す１０８０．４７０ｃｍ−　’のＳｉ　−　０　−　Ｓ
ｉ構造を主体とし、かつ、３５００ｃｍ−’付近のブロ
ードピークに見られるように、水を吸着したものであ−
ることが確認された。水吸着量は、熱重量（ＴＧ）分析
より、微粒子単位表面積当り約８個／ｎｍ’の水分子、
すなわち、１００人微粒子１個に２５００個の水分子が
吸着していることがわかった。

また、膜而に４３０ｎｍに分光したＸｅランプを照射し
たところ、第５図のａに示す如く発光スペクトルが得ら
れ、６００ｎｍ付近にピークをもつ蛍光を発した。

次に、発光層上に、保湿層として、ＡＩＮ膜を５（ＩＯ
Ｑ人成膜した。製法は、ＲＦ−ｍＳＰ法であり、陰極タ
ーゲットを５インチφのＡＩＮ合金、ＡｒＮ２　（１０
％）ガスの導入圧力の０．５　Ｐａ，ＲＦ投入バワー５
００Ｗで、基板温度は室温とした。

得られた膜は、ＳＥＭ観寮で、緻密な連続膜であること
が確かめられ、また、可視光に対し、透過率９５％以，
Ｆの透明膜であった。この保湿層の膜面に、４３０ｎｍ
分光したＸｅランブを照射したところ、下地であるＳｉ
系の発光層のみで得られた発光スペクトル（第５図のａ
）と同等の特性を示した。

次に、耐候試験を行った。経時条件は４０℃、１５％Ｒ
Ｈ環境下で２００時間放置し、構造トの変化及び、発光
強度の変化を調べた。第４図に、２００時間経Ａ後の、
発光層のＦＴ−ＩＲスペクトル結果を示す，　３５００
ｃ＋ｕ−’付近の水吸着起因のブロードピークの強度は
、第３図耐較試験前のスベクトルと比較してほとんど変
化はなく第６図のａのごとく、発光強度の時間変化をと
っても２００時間まで、安定した特性をもつ発光部材と
なった。

比較例！比較のため、」―記と同様の発光層に保湿層を設けず、
同環境下（４０℃、１５％ＲＨ）で耐候試験を行った。

第７図に、２００時間，１１過後の発光層のＦＴ−　Ｉ
　Ｒスペクトルを示す，３５００ｃｍ−’付近のブロー
ドピークの強度に大幅な減少か見られ、また、発光強度
も第５図ｂのように減少した。発光強度の時間変化は、
第６図のｂに示す。

実施例２Ｓｉ基板＼Ｓｉ系微粒子堆積膜の発光層上に、保湿層と
してＡＩＮを反応性ＲＦ−ｍＳＰ法により成膜した。

発光層は、実施例１に準ずる方法・条件で作成し、さら
に酸化及び水吸着処理を施し、約３μｍ厚のＳｉ系微粒
子堆禎１摸から成る。

保湿層は、反応ガスとして、Ａｒ　　Ｎ２　　（９０％
）ガスを用い、陰極ターゲットを５インチφのＡ１金属
とし、ガス圧０．５　Ｐａ，　Ｒ　Ｆ投人パワー５００
Ｗで成膜した。この際基板温度は室温とし、約５０００
人の八１Ｎを４１た。

得られた膜は、ＳＥＭ観寮で、緻密な連続膜であること
が確かめられ、町視光に対する透過率９５％以」二の透
明膜となり、膜面からの４３０ｎｍ光照射で下地である
発光層の発光スペクトル（第５図のａ）と同等の特性を
示した〜。

また、４０℃，１５％ＲＨ環境下で２００時間放置し、
耐候試験を行ったところ、実施例１と同様に、発光層の
構造変化がほとんど無く、２００時間経過してなお安定
な発光特性を保っていた。

実施例３Ｓｉ基板＼Ｓｉ系微粒子堆積膜の発光層上に、保湿層と
してＳｉＣをＲＦ−ｍｓｐ方で成膜した。

発光層は，実施例１に準ずる方法・条件で作成、さらに
酸化及び水吸着処理を施し、約３μｍ厚のＳｉ系微粒子
堆積膜から成る。

保湿層は、陰極ターゲットとして５インチφのＳｉＧ合
金を用い静ガス圧０．５　Ｐａ導入、ＲＦ投人パワー４
００Ｗ，基板温度は室温の条件で成膜し、約６０００人
の厚みのＳｉＣ膜を作成した。

得られた膜は、ＳＥＭ観察で、緻密な連続膜であること
がわかり、可視光に対する透過率９５％以上の透明膜で
、膜面からの４３０ｎｍ光照射で下地発光層と同等の発
光特性（第５図のａ）を示した。

また、４０℃、１５％ＲＨ環境下で２００時間放置し、
耐候試験を行ったところ、実施例ｌと同様に発光層の構
造変化がほとんど無く、２００時間経過してなお安定な
発光特性を保っていたう実施例４Ｓｉ基板＼Ｓｉ系微粒子堆積膜の発光層上に、保湿層と
してＺｒＮをＲＦ−ｍＳＰ法で成ｎ党シた。

発光層は、実施例１に準ずる方法・条件で作成、さらに
酸化及び水吸着処理を施し、約３μｍ厚のＳｌ系微粒子
堆８ｔ膜から成る。

保湿層は、陰極ターゲットとして、５インチφのＺｒＮ
合金を用い、Ａｒ−Ｎ，（１０％）ガス圧０．５　Ｐａ
ＳＲＦ投入バワー５００Ｗ，基板温度は室温で成膜、約
５０００人厚みのＺｒＮ膜を作成した。

得られた膜は、ＳＥＭ′ｉＡ察で、１ａ密な連続膜であ
り、可視光に対し透過率９５％以上の透明膜で、膜而か
らの４３０ｎｍ光照射で下地発光層と同等の発光特性（
第５図のａ）を示した。

また、４０℃、１５％ＲＨ環境下で２００時間放置し、
耐候試験を行ったところ、実施例１と同様に発光層の構
造変化がほとんど無く、２００時間経過してなお安定な
発光特性を保っていた。

実施例５実施例４と同じ構成、すなわちＳｉ基板＼Ｓｊ系微粒子
堆積膜＼ＺｒＮ膜の構成で、かつ、保湿層であるＺｒＮ
膜をＥＢ蒸着法で作成した。

ＺｒＮを蒸発源とし、１　０　−’　Ｔｏｒｒ高真空で
厚み５０００人程度成膜した。

得られた膜は実施例４同様、透明な連続膜で、４０℃、
１５％Ｒ｝Ｉ環境下で２００時間放置し、耐候試験を行
ったところ発光層の構造変化がほとんど無く、２００時
間経過してなお安定な発光特性のものであった。

実施例６実施例１に準ずるＳｉ系微粒子堆積膜の発光層及びＲＦ
−ｍｓＰによる１９Ｎ膜保湿層を用いてＥＬ素子を作成
した。但し、発光層厚みは０．２５μｍ、保湿層厚みは
０．３μｍとした。

ガラス基板上に透明電極としてＩＴＯを０．　２μｍ、
第１絶縁層としてＳｉＪ４を０．２μｍそれぞれスパッ
タ法およびＣＶＤで形成した。その上に保湿層としてＡ
Ｉ２Ｎ膜を０．３μｍ、さらにＳｉ系微粒子膜を０．２
５μｍ成膜した。この際基板温度は室温であった。

続いて、６０℃、８５％ＲＦ環境下で２４時間放置し、
酸化及び水吸着処理を施した後、ＡＩ２Ｎ膜保湿層を０
．３μｍ、第２絶縁層としてＳｉｓＮ４を０．２μｍ，
ＡＩ２の上部電極を０．５μｍ積層し、ＥＬ素子を作成
した。

得られたＥＬ素子をＩ　ＫＨｚで駆動した時の発光スペ
クトルを第８図のａに示す。

また、４０℃、ｌ５％ＲＦ環境下で２００時間放置し、
耐候試験を行ったところ２００時間経過してなお安定な
発光特性を保っていた。

比較例２比較のため上記と同様のＥＬ素子構成中発光層と第１絶
縁層及び第２絶縁層の間に保湿層を設けず、同環境下（
４０℃、１５％ＲＨ）で耐候試験を行った。２００時間
経過後、Ｉ　ＫＨｚで駆動したところ発光強度は第８図
ｂのように減少した。

実施例７実施例２に準ずる発光層及び反応性ＲＦ−ｍＳＰ法によ
るＡ！２Ｎ膜保湿層を用いて、実施例６と同一の材料及
び方法でＥＬ素子を作成した。

得られたＥＬ素子をＩ　Ｋｌ｛ｚで駆動したところ、実
施例１０と同等の発光スペクトル（第８図のａ）となっ
た。

また、４０℃、１　５％ＲＨ環境下で２００時間放置し
、耐候試験を行ったところ、２００時間経過してなお安
定な発光特性を保っていた。

実施例８実施例３に準ずる発光層およびＲＦ−ｍｓＰ法によるＳ
ｉＣ膜保湿層を用いて、実施例６と同一の材料及び方法
でＥＬ素子を作成した。

得られたＥＬ素子を１κＨｚで駆動したところ、実施例
１０と同等の発光スペクトル（第８図のａ）となった。

また、４０℃、１５％ＲＨ環境下で２ｏＯ時間放置し、
耐候試験を行ったところ、２００時間経過してなお安定
な発光特性を保っていた。

実施例９実施例４に準ずる発光層及びＲＦ−ｍｓＰ法によるＺｒ
Ｎ膜保湿層を用いて、実施例１０と同一の材料及び方法
でＥＬ素子を作成した。

得られたＥＬ素子をｌ　Ｋ｝ｌｚで駆動したところ、実
施例１ｏと同等の発光スペクトル（第８図のａ）となっ
た。

また、４０’Ｃ、１　５％ＲＨ環境下で２００時間放置
し、耐候試験を行ったところ、２００時間経過してなお
安定な発光特性を保っていた。

実施例１ｏ実施例５に準ずる発光層及びＥＢ蒸着法によるＺｒＮ膜
保湿層を用いて、実施例６と同一の材料及び方法でＥＬ
素子を作成した。

また、４０℃、１５％ＲＨ環境下で２００時間放置し、
耐候試験を行ったところ、２００時間経過してなお安定
な発光特性を保っていた。

［発明の効果］以上説明したように、本発明によれば、■族元素を含み
かつ水吸着した微粒子膜から構成される発光部材におい
て、係る微粒子膜に接して、透明度が高く、密着性に冨
み、緻密な無機材料保湿膜層な有することにより、発光
特性の長期持続が可能となる効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の発光部材の断面構造を示す模式図、第２図は、本発明の発光部材の発光層である微粒子膜を
作成するのに用いる装置の例を示す装置の模式構成図、第３図は、実施例１において作成した発光部材の発光層
である微粒子膜の耐候試験前のＦＴ−ＩＲスペクトルを
示す図、第４図は、実施例１において作成した発光部材の発光層
である微粒子膜の耐候試験後のＦＴ一ＩＲスペクトルを
示す図、第５図は、実施例１，２，３，４．５及び比較例１にお
いて作成した微粒子膜のＸｅランプ４３０ｎｍ励起光に
よる蛍光スペクトルを示す図でａは実施例１，２，３．
４及び５、ｂは比較例１のものを示し、第６図は、実施
例ｌ及び比較例１における微粒子膜のＸｅランプ４３０
ｎｍ励起光による６００ｎｍ波長の発光強度、耐候試験
による時間変化を示す図でａは実施例、ｂは比較例１の
ものを示し、第７図は、比較例１における微粒子膜の耐候試験後のＦ
Ｔ−　Ｉ　Ｒスペクトルを示す図、第８図は、電界発光
素子の発光スペクトルを示す図でａは実施例６，７，８
．９及び１０、ｂは比較例２のものを示す。１・・・基体、２・・・微粒子から成る発光層、３・・・無機保湿層、４・・・縮小拡大ノズル、５・・・ノズルののど部、６・・・磁気コイル、７・・・下流室、８・・・空胴共振器、９・・・基体ホルダー１０・・・基体、ｌ１・・・マイクロ波投入窓、１２−・・マイクロ波の導波管、１３・・・ガス導入口、１４・・・排気ボンブ．

Claims

【特許請求の範囲】

（１）　励起エネルギー付与で光を放出する発光部材に
おいて、発光部が、吸着水を保持しかつ酸化されたIV族
元素を含む微粒子から成る発光層と、該発光層に接して
、無機保湿層を有することを特徴とする発光部材。