JPH02231438A - 1,1,1,2―テトラフルオロエタンの製造方法 - Google Patents
1,1,1,2―テトラフルオロエタンの製造方法Info
- Publication number
- JPH02231438A JPH02231438A JP1276167A JP27616789A JPH02231438A JP H02231438 A JPH02231438 A JP H02231438A JP 1276167 A JP1276167 A JP 1276167A JP 27616789 A JP27616789 A JP 27616789A JP H02231438 A JPH02231438 A JP H02231438A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature
- tetrafluoroethane
- reaction
- unreacted
- fluorine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- LVGUZGTVOIAKKC-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2-tetrafluoroethane Chemical compound FCC(F)(F)F LVGUZGTVOIAKKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 25
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 20
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 18
- RFCAUADVODFSLZ-UHFFFAOYSA-N 1-Chloro-1,1,2,2,2-pentafluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)Cl RFCAUADVODFSLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 15
- DDMOUSALMHHKOS-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-1,1,2,2-tetrafluoroethane Chemical compound FC(F)(Cl)C(F)(F)Cl DDMOUSALMHHKOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 12
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 11
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 9
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 8
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 6
- UJPMYEOUBPIPHQ-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluoroethane Chemical compound CC(F)(F)F UJPMYEOUBPIPHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000004517 catalytic hydrocracking Methods 0.000 claims description 5
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 claims description 5
- BOUGCJDAQLKBQH-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-1,2,2,2-tetrafluoroethane Chemical compound FC(Cl)C(F)(F)F BOUGCJDAQLKBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- BAMUEXIPKSRTBS-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloro-1,2,2,2-tetrafluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(Cl)Cl BAMUEXIPKSRTBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 claims 1
- 239000000047 product Substances 0.000 abstract description 15
- 238000007327 hydrogenolysis reaction Methods 0.000 abstract description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 abstract description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 abstract description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 19
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 238000007323 disproportionation reaction Methods 0.000 description 9
- KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K Aluminum fluoride Inorganic materials F[Al](F)F KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 8
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 101100004392 Arabidopsis thaliana BHLH147 gene Proteins 0.000 description 5
- DASQIKOOFDJYKA-UHFFFAOYSA-N CCIF Chemical compound CCIF DASQIKOOFDJYKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 101000870345 Vasconcellea cundinamarcensis Cysteine proteinase 1 Proteins 0.000 description 5
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 5
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940087091 dichlorotetrafluoroethane Drugs 0.000 description 4
- AJDIZQLSFPQPEY-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-Trichlorotrifluoroethane Chemical compound FC(F)(Cl)C(F)(Cl)Cl AJDIZQLSFPQPEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,3-pentafluoropropanal Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C=O IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 101100274581 Caenorhabditis elegans chc-1 gene Proteins 0.000 description 3
- 108010081348 HRT1 protein Hairy Proteins 0.000 description 3
- 102100021881 Hairy/enhancer-of-split related with YRPW motif protein 1 Human genes 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BOSAWIQFTJIYIS-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloro-2,2,2-trifluoroethane Chemical class FC(F)(F)C(Cl)(Cl)Cl BOSAWIQFTJIYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JNCMHMUGTWEVOZ-UHFFFAOYSA-N F[CH]F Chemical compound F[CH]F JNCMHMUGTWEVOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000856 hastalloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- -1 hydrogen halides Chemical class 0.000 description 2
- 229910001026 inconel Inorganic materials 0.000 description 2
- WXGNWUVNYMJENI-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoroethane Chemical compound FC(F)C(F)F WXGNWUVNYMJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102220470103 Amidophosphoribosyltransferase_C12F_mutation Human genes 0.000 description 1
- 102100025597 Caspase-4 Human genes 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical class CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical class C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100273284 Homo sapiens CASP4 gene Proteins 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- WMIYKQLTONQJES-UHFFFAOYSA-N hexafluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)F WMIYKQLTONQJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- ZBZJXHCVGLJWFG-UHFFFAOYSA-N trichloromethyl(.) Chemical compound Cl[C](Cl)Cl ZBZJXHCVGLJWFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C19/00—Acyclic saturated compounds containing halogen atoms
- C07C19/08—Acyclic saturated compounds containing halogen atoms containing fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/093—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
- C07C17/10—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of hydrogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/093—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
- C07C17/20—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms
- C07C17/21—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms with simultaneous increase of the number of halogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/23—Preparation of halogenated hydrocarbons by dehalogenation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/35—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions not affecting the number of carbon or of halogen atoms in the reaction
- C07C17/358—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions not affecting the number of carbon or of halogen atoms in the reaction by isomerisation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、選定された有機化合物を、過剰のIFの存
在下でクロロフッ素化し、その生成物を水素化分解(h
ydrogenofysfs)することによって1,1
.1.2−テトラフルオ口エタン(FC−1348)を
製造する改良方法に関する。
在下でクロロフッ素化し、その生成物を水素化分解(h
ydrogenofysfs)することによって1,1
.1.2−テトラフルオ口エタン(FC−1348)を
製造する改良方法に関する。
〔従来の技術および課題]
D D 117.580は、促進剤金属の存在下で活性
化アルミナからフッ素化アルミナ触媒を製造するための
方法、およびこれを気相におけるc2化合物のフッ素化
に用いることを開示している。テトラクロロエチレン/
塩素/フッ化水素のモル比1/1/3ないし1/1/5
.1を用いてこの方法により非対称C2フルオロカーボ
ンおよびペンタフルオロクロ口エタン(FC−115)
が製造されるとしている。ペンタフルオロクロ口エタン
濃度は、それぞれ350℃での接触時H8.5秒および
450℃での接触時間7.3秒において、生成物の6%
ないし57%に渡っていた。
化アルミナからフッ素化アルミナ触媒を製造するための
方法、およびこれを気相におけるc2化合物のフッ素化
に用いることを開示している。テトラクロロエチレン/
塩素/フッ化水素のモル比1/1/3ないし1/1/5
.1を用いてこの方法により非対称C2フルオロカーボ
ンおよびペンタフルオロクロ口エタン(FC−115)
が製造されるとしている。ペンタフルオロクロ口エタン
濃度は、それぞれ350℃での接触時H8.5秒および
450℃での接触時間7.3秒において、生成物の6%
ないし57%に渡っていた。
M.ベッキオ(Vecchlo)らによるフッ素化学誌
(J. Fluorine Ches. )第4巻,1
17−39頁(1 974)には、フッ化アルミニウム
触媒の存在下でCI,およびHFを用い約400℃でテ
トラクロロエチレンをクロロフッ素化してジクロ口テト
ラフルオ口エタンおよびトリクロロトリフルオロエタン
の非対称異性体類を主生成物として生成させことが開示
されている。他の実験において、C.CI2FCCIF
2 (FC 113)/HFのモル比1/1混合物
を、400℃でAIF3触媒上に通じ、10.3モル%
FC−115および2.5モル%C2C14F2 (F
C−112およびFC−1128)が得られている,F
C−113/N2のモル比1/1混合物を用いた比較実
験では、6.8モル%FC−115および 8,8%C2 C14 F2 (FC−112および
FC−1128)が観察されている,FC−115の濃
度は、HFa度および不均化反応の双方に依存するが、
FC−112類の濃度は、不均化反応のみに依存する。
(J. Fluorine Ches. )第4巻,1
17−39頁(1 974)には、フッ化アルミニウム
触媒の存在下でCI,およびHFを用い約400℃でテ
トラクロロエチレンをクロロフッ素化してジクロ口テト
ラフルオ口エタンおよびトリクロロトリフルオロエタン
の非対称異性体類を主生成物として生成させことが開示
されている。他の実験において、C.CI2FCCIF
2 (FC 113)/HFのモル比1/1混合物
を、400℃でAIF3触媒上に通じ、10.3モル%
FC−115および2.5モル%C2C14F2 (F
C−112およびFC−1128)が得られている,F
C−113/N2のモル比1/1混合物を用いた比較実
験では、6.8モル%FC−115および 8,8%C2 C14 F2 (FC−112および
FC−1128)が観察されている,FC−115の濃
度は、HFa度および不均化反応の双方に依存するが、
FC−112類の濃度は、不均化反応のみに依存する。
HFが仕込中にあるときのFC−112類の濃度は、H
F/FC−113モル比が1/1であるときに不均化反
応が有意な程度に生じていることを示唆するものであり
、さらに、仕込中のIFとともにより多いFC−115
が観察されている。
F/FC−113モル比が1/1であるときに不均化反
応が有意な程度に生じていることを示唆するものであり
、さらに、仕込中のIFとともにより多いFC−115
が観察されている。
米国特許m 4,605,798号は、そのいくつかが
アルミニウムの酸化物またはハライドであると請求され
ているところの種々の触媒上での塩素,HF,およびテ
トラクロロエチレンの反応によるトリクロロトリフルオ
口エタン、ジクロ口テトラフルオ口エタンおよびモノク
ロ口ペンタフルオ口エタンの製造方法を開示している。
アルミニウムの酸化物またはハライドであると請求され
ているところの種々の触媒上での塩素,HF,およびテ
トラクロロエチレンの反応によるトリクロロトリフルオ
口エタン、ジクロ口テトラフルオ口エタンおよびモノク
ロ口ペンタフルオ口エタンの製造方法を開示している。
FC−115は、HFおよびジクロ口テトラフルオ口エ
タンの反応によるフッ素化一不均化(dlssutat
lon) (すなわち、不均化)領域で生成すると開
示されている。さらに、生成した非対称異性体CFi
CC12 F (FC−114a)の量は、ジクロ口テ
トラフルオ口エタン生成物の7%未満であるとされてい
る。
タンの反応によるフッ素化一不均化(dlssutat
lon) (すなわち、不均化)領域で生成すると開
示されている。さらに、生成した非対称異性体CFi
CC12 F (FC−114a)の量は、ジクロ口テ
トラフルオ口エタン生成物の7%未満であるとされてい
る。
c B t,so.baaは、CF,XCFYZ (こ
こで、Xはフッ素または塩素であり、Xがフッ素である
ときは、Yは塩素またはフッ素であり、Yが塩素である
ときは、Zは塩素、フッ素または水素であり、Yがフッ
素であるときは、Zは水素であり、およびXが塩素であ
るときは、Yはフッ素であり、Zは塩素または水素のい
ずれかで・ある)で示され、4個または5個のフッ素原
子を有するハロエタンを、担持Pd触媒上、200℃な
いし450℃の温度で水素化することにより、1,1.
1.2−テトラフルオ口エタン(FC−134a)また
は1,1,2.2−テトラフルオ口エタン(FC−13
4)を製造するための方法を請求している。
こで、Xはフッ素または塩素であり、Xがフッ素である
ときは、Yは塩素またはフッ素であり、Yが塩素である
ときは、Zは塩素、フッ素または水素であり、Yがフッ
素であるときは、Zは水素であり、およびXが塩素であ
るときは、Yはフッ素であり、Zは塩素または水素のい
ずれかで・ある)で示され、4個または5個のフッ素原
子を有するハロエタンを、担持Pd触媒上、200℃な
いし450℃の温度で水素化することにより、1,1.
1.2−テトラフルオ口エタン(FC−134a)また
は1,1,2.2−テトラフルオ口エタン(FC−13
4)を製造するための方法を請求している。
例7において、中間の1.1,1.2−テトラフルオ口
−2−クロロエタン(FC−124)の全てをFC−1
34aに転化するために、350℃よりも高い水素化分
解温度が必要であることが分かる。
−2−クロロエタン(FC−124)の全てをFC−1
34aに転化するために、350℃よりも高い水素化分
解温度が必要であることが分かる。
C.ゲルヴアサッチ(Gervasuttl)は、フッ
素化学誌第19巻1−20頁(1981)において、ジ
クロ口テトラフルオ口エタンの異性体混合物から、Pd
/Cによって触媒された1,1,1.2−テトラフルオ
口−2.2−ジクロ口エタン(FC−114a)の選択
水素化分解によりFC−134aを製造する方法を開示
している。1.1,2,2−テトラフルオ口−1,2−
ジクロ口エタン(FC−114)は、水素化分解に対し
てより安定であった。FC−114a水素化分解からの
、FC−134aの反応生成物中の濃度は、約200℃
の最大温度まで増加するが、それを越えると減少するこ
とが示されている。
素化学誌第19巻1−20頁(1981)において、ジ
クロ口テトラフルオ口エタンの異性体混合物から、Pd
/Cによって触媒された1,1,1.2−テトラフルオ
口−2.2−ジクロ口エタン(FC−114a)の選択
水素化分解によりFC−134aを製造する方法を開示
している。1.1,2,2−テトラフルオ口−1,2−
ジクロ口エタン(FC−114)は、水素化分解に対し
てより安定であった。FC−114a水素化分解からの
、FC−134aの反応生成物中の濃度は、約200℃
の最大温度まで増加するが、それを越えると減少するこ
とが示されている。
この発明は、冷媒として有用な1,1,1.2−テトラ
フルオ口エタン(FC−134a)を、再循環をもって
非常に高い収率で、 C,ct,F.(FC−114およびFC−114a)
の不均化によるCF)CCIF2 (FC−115)
の生成を最小にし、 しかもCCIF2CCIF.(FC−114)のCF3
CC lz F (FC−1 14a) への異性化を
抑制することなく製造するための多段階方法を提供する
ものである。
フルオ口エタン(FC−134a)を、再循環をもって
非常に高い収率で、 C,ct,F.(FC−114およびFC−114a)
の不均化によるCF)CCIF2 (FC−115)
の生成を最小にし、 しかもCCIF2CCIF.(FC−114)のCF3
CC lz F (FC−1 14a) への異性化を
抑制することなく製造するための多段階方法を提供する
ものである。
[課題を解決するための手段]
この発明は、(a)式
C2 C 14−. Z.またはC2C l 6−y
z,(ここで、x−0ないし4、y■0ないし6、およ
び2は水素またはフッ素の少なくとも1つ)で示される
少なくとも1fIJの化合物であってフッ素原子の合計
数が≦3であるものを、気相において、C2 C 14
−m Z.および/またはC2 C l b−y Zy
をC2Cl2F4へ転化するために必要な化学量論量以
上の塩素と、およびHFと、約300℃ないし約450
℃の温度で、フッ素化アルミナまたはAIF3から選ば
れる少なくとも1種の触媒の存在下で反応させて、1.
1,1,2−テトラフルオ口ジク口口エタン(FC−1
14 a) 、1= 1,2,2−テトラフルオ口
ジク口ロエタン(FC−114)およびペンタフルオロ
クロ口エタン(FC−115)を生成させ、および (b)上記(a)で生成したFC−1148およびFC
−114を、気相において、約100℃ないし約350
℃の温度で、水素化分解触媒の存在下で、H2と接触さ
せて、1,1,1.2−テトラフルオロエタン(FC−
134a)、未反応FC−1 14およびFC−114
as 1,1.1,2−テトラフルオロクロ口エタン(
FC−124) 、1,1.1−}リフルオ口エタン(
FC−143a) 、並びに未反応ペンタフルオロクロ
口エタン(FC−115)を含むガス状混合物を生成さ
せる ことによって1.1.1.2−テトラフルオ口エタンを
製造するための方法の改良を提倶する。
z,(ここで、x−0ないし4、y■0ないし6、およ
び2は水素またはフッ素の少なくとも1つ)で示される
少なくとも1fIJの化合物であってフッ素原子の合計
数が≦3であるものを、気相において、C2 C 14
−m Z.および/またはC2 C l b−y Zy
をC2Cl2F4へ転化するために必要な化学量論量以
上の塩素と、およびHFと、約300℃ないし約450
℃の温度で、フッ素化アルミナまたはAIF3から選ば
れる少なくとも1種の触媒の存在下で反応させて、1.
1,1,2−テトラフルオ口ジク口口エタン(FC−1
14 a) 、1= 1,2,2−テトラフルオ口
ジク口ロエタン(FC−114)およびペンタフルオロ
クロ口エタン(FC−115)を生成させ、および (b)上記(a)で生成したFC−1148およびFC
−114を、気相において、約100℃ないし約350
℃の温度で、水素化分解触媒の存在下で、H2と接触さ
せて、1,1,1.2−テトラフルオロエタン(FC−
134a)、未反応FC−1 14およびFC−114
as 1,1.1,2−テトラフルオロクロ口エタン(
FC−124) 、1,1.1−}リフルオ口エタン(
FC−143a) 、並びに未反応ペンタフルオロクロ
口エタン(FC−115)を含むガス状混合物を生成さ
せる ことによって1.1.1.2−テトラフルオ口エタンを
製造するための方法の改良を提倶する。
その改良とする一態様は、工程(a)において、c.
c l4−m Z.および/またはC2C1b−yZy
をC2C12F4に転化すルタめに必要な化学量論量よ
りも少なくとも0.5モル過剰量のHFを用いることに
ある。過剰のHFは、不所望のFC−115の生成をも
たらすところの、FC−114aおよび/またはFC−
1 14の不均化を抑制するという有益な効果を奏する
。
c l4−m Z.および/またはC2C1b−yZy
をC2C12F4に転化すルタめに必要な化学量論量よ
りも少なくとも0.5モル過剰量のHFを用いることに
ある。過剰のHFは、不所望のFC−115の生成をも
たらすところの、FC−114aおよび/またはFC−
1 14の不均化を抑制するという有益な効果を奏する
。
これに加えて、過剰のHFは、工程(b)における水素
化分解からFC−134aを高収率で生成させるに必要
であるところの、FC−1 14のFC−114aへの
異性化を阻止することがない。
化分解からFC−134aを高収率で生成させるに必要
であるところの、FC−1 14のFC−114aへの
異性化を阻止することがない。
過剰のIFの存在は、工程(a)に再循環されたとき反
応してヘキサフルオ口エタンを生成スることによって収
率の損失をもたらすところのFC−115の実質的な生
成を排除するので、さらなる改良は、追加のFC−11
4aを製造するために、未反応のFC−1 14および
FC−114aSFC−124並びにFC−143aを
工程(b)から工程(a)へと再循環させる付加的な工
程CC)にある。なお、この発明の実施において、過剰
のHF故に、FC−1 14の、FC−134,lへ転
化されるところのFC−114aへの異性化は、阻止さ
れない。
応してヘキサフルオ口エタンを生成スることによって収
率の損失をもたらすところのFC−115の実質的な生
成を排除するので、さらなる改良は、追加のFC−11
4aを製造するために、未反応のFC−1 14および
FC−114aSFC−124並びにFC−143aを
工程(b)から工程(a)へと再循環させる付加的な工
程CC)にある。なお、この発明の実施において、過剰
のHF故に、FC−1 14の、FC−134,lへ転
化されるところのFC−114aへの異性化は、阻止さ
れない。
工程(b)の反応温度が約350℃未満であるとき、F
C−124副生物は工程(b)へ再循環され得ない。F
C−124の、FC−134aへの完全な水素化分解は
、約350℃より高い温度を要するからである。上記プ
ロセスにおけるFC−124の直接水素化分解は、追加
の水素化器を必要とし、よって費用が嵩み、プロセスが
複雑になる。水素化分解器を約200℃以上の温度で操
作することの他の不利点は、所望生成物FC−134a
の収率が低下することである。
C−124副生物は工程(b)へ再循環され得ない。F
C−124の、FC−134aへの完全な水素化分解は
、約350℃より高い温度を要するからである。上記プ
ロセスにおけるFC−124の直接水素化分解は、追加
の水素化器を必要とし、よって費用が嵩み、プロセスが
複雑になる。水素化分解器を約200℃以上の温度で操
作することの他の不利点は、所望生成物FC−134a
の収率が低下することである。
この発明に従って不均化を制御し、再w4環をおこなう
ことにより、FC−134aの総収率は95%以上とな
る。不均化の制御と再循環を伴わない従来の方法では、
FC−134aの総収率は、80%未満である。
ことにより、FC−134aの総収率は95%以上とな
る。不均化の制御と再循環を伴わない従来の方法では、
FC−134aの総収率は、80%未満である。
以下、この発明をさらに詳しく説明する。
式c, C 14−m Z. (ここで、x−0ない
し4、2は、水素、フッ素、または水素とフッ素との組
合せ)で示され、当該分子中の合計フッ素原子数が≦3
であるところの、この発明の方法に有用な出発化合物は
、好ましくは、x−4でZ−H (すなわち、CH2
−CH2 ) 、x−4でZ−FおよびH(すなわち、
CHF−CH2、 CF2舗CH2、CHF−CHF, およびCF2mcHF) 、x−3でZ−H(すなわち
、C H C l−C H x ) 、x 陶3でZ−
HおよびF(例えば、C F C I = C H 2
、CHC l−CHF,CFC I−CHF) 、x−
3でZ駒F(すなわち、CFC 1−CF2) 、x−
2でZ−H (すなわち、CCI,−CH2、およびC
HC l−CHC 1),x−2でZ−FおよびH(す
なわち、CC 12 −CHF およびCFC I−CHC 1) 、x−2でZ−F?
すなわち、CCI■一CF, およびCFC I=cFc l) 、x−1でZ−H(
すなわち、CC l 2 −CHC l) 、x−1で
Z−F(すなわち、CCI■一CFC I) 、および
x−0(すなわち、CC12−CCl2)を含む。
し4、2は、水素、フッ素、または水素とフッ素との組
合せ)で示され、当該分子中の合計フッ素原子数が≦3
であるところの、この発明の方法に有用な出発化合物は
、好ましくは、x−4でZ−H (すなわち、CH2
−CH2 ) 、x−4でZ−FおよびH(すなわち、
CHF−CH2、 CF2舗CH2、CHF−CHF, およびCF2mcHF) 、x−3でZ−H(すなわち
、C H C l−C H x ) 、x 陶3でZ−
HおよびF(例えば、C F C I = C H 2
、CHC l−CHF,CFC I−CHF) 、x−
3でZ駒F(すなわち、CFC 1−CF2) 、x−
2でZ−H (すなわち、CCI,−CH2、およびC
HC l−CHC 1),x−2でZ−FおよびH(す
なわち、CC 12 −CHF およびCFC I−CHC 1) 、x−2でZ−F?
すなわち、CCI■一CF, およびCFC I=cFc l) 、x−1でZ−H(
すなわち、CC l 2 −CHC l) 、x−1で
Z−F(すなわち、CCI■一CFC I) 、および
x−0(すなわち、CC12−CCl2)を含む。
弐C2 C 16−, Z, (::テ、y−oない
し6、Zは、水素、フッ素、または水素とフッ素との組
合せ)で示され、当該分子中の合計フッ素厚子数が≦3
であるところの、この発明の方法に有用な出発化合物は
、好ましくは、y−6でZ−H (すなわち、C H
i C H 3 ) 、)’ − 6 テZ = F
オヨびH(すなわち、CH2 FCHI 、CHF2
CH3、CH2 FCH2 F.CHF2 CH2 F
,CFI CHi ) 、y−5でZ−H (すなわち
、C H ) C H C I F , C H 2
F C H 2 C l、C H 3 C C I F
2 、C H F 2 C H 2 C l ,CH
2 FCHC I F,CF3 CH2 C 1.CH
F,CHC I FおよびCH2FCF2 C l)、
y−4でZ−H(すなわち、C H i C H C
l 2 )、y−4でZ−FおよびH(すなわち、 ? H 2F C H C l 2 、C H 2
F C C I 2 F ,CHC IFcHz
C 1.CC IF2 CH2 C I,CH
Fz CHC 12 、CF3 CHC 1
2 、CHF’2 CFC l2 、CH2 C
ICH2 C I、CHC I FCHC
J F,およびCC I F2 CHC I F)
、y−3でZ−H(すなわち、CH,CCl3 およびCHC 1■CH2 C I) 、y−3でZ−
FおよびH(すなわち,、,CC 13 CH2 F,
C C 1 i C H F 2 、C F C
1 2 C H 2 C I ,CHC 1,
CHC I F,CHC 12 CF2 C I
,CFC I 2 C}ic l F,およびC
FC I■CFiC1)、y一3でZ補F(すなわち、
CC li CF3 ) 、y−2テZ−H(例えば、
CC ls CH2 C I) , y−2”c’Z
−FおよびH(例えば、CC l,CHC I F)、
y−2でZ−F(すなわちCCI,CCIF2)、y−
iでZ−H (すなわちC C l 3C H C 1
2 )、y−11’Z−F(すなわちCC 13 C
C 12 F)、およびy−0(すなわち、C C l
i C C I i )を含む。
し6、Zは、水素、フッ素、または水素とフッ素との組
合せ)で示され、当該分子中の合計フッ素厚子数が≦3
であるところの、この発明の方法に有用な出発化合物は
、好ましくは、y−6でZ−H (すなわち、C H
i C H 3 ) 、)’ − 6 テZ = F
オヨびH(すなわち、CH2 FCHI 、CHF2
CH3、CH2 FCH2 F.CHF2 CH2 F
,CFI CHi ) 、y−5でZ−H (すなわち
、C H ) C H C I F , C H 2
F C H 2 C l、C H 3 C C I F
2 、C H F 2 C H 2 C l ,CH
2 FCHC I F,CF3 CH2 C 1.CH
F,CHC I FおよびCH2FCF2 C l)、
y−4でZ−H(すなわち、C H i C H C
l 2 )、y−4でZ−FおよびH(すなわち、 ? H 2F C H C l 2 、C H 2
F C C I 2 F ,CHC IFcHz
C 1.CC IF2 CH2 C I,CH
Fz CHC 12 、CF3 CHC 1
2 、CHF’2 CFC l2 、CH2 C
ICH2 C I、CHC I FCHC
J F,およびCC I F2 CHC I F)
、y−3でZ−H(すなわち、CH,CCl3 およびCHC 1■CH2 C I) 、y−3でZ−
FおよびH(すなわち,、,CC 13 CH2 F,
C C 1 i C H F 2 、C F C
1 2 C H 2 C I ,CHC 1,
CHC I F,CHC 12 CF2 C I
,CFC I 2 C}ic l F,およびC
FC I■CFiC1)、y一3でZ補F(すなわち、
CC li CF3 ) 、y−2テZ−H(例えば、
CC ls CH2 C I) , y−2”c’Z
−FおよびH(例えば、CC l,CHC I F)、
y−2でZ−F(すなわちCCI,CCIF2)、y−
iでZ−H (すなわちC C l 3C H C 1
2 )、y−11’Z−F(すなわちCC 13 C
C 12 F)、およびy−0(すなわち、C C l
i C C I i )を含む。
上記化合物のいずれの混合物も使用できる。テトラクロ
ロエチレンが特に好ましい。
ロエチレンが特に好ましい。
フッ素化アルミナまたはA I F 3の存在下におけ
る、出発化合物のHFおよびCl2との反応は、約30
0℃ないし450℃、好ましくは約325℃ないし40
0℃、さらに好ましくは約350℃ないし375℃でお
こなわれる。
る、出発化合物のHFおよびCl2との反応は、約30
0℃ないし450℃、好ましくは約325℃ないし40
0℃、さらに好ましくは約350℃ないし375℃でお
こなわれる。
接触時間は、所望の転化率に依存して広く渡り得、一般
に、大気圧下で約1ないし60秒、好ましくは約15な
いし30秒である。
に、大気圧下で約1ないし60秒、好ましくは約15な
いし30秒である。
不均化反応を効果的に制御するために、HFの量は、C
2 C la−Z−またはC2 C i6−, z,を
C2 C12 F4 (FC 114およびFC−
1148)へ転化するに必要な化学量論量の少なくとも
0、5モル、好ましくは少な《とも2.0モル過剰であ
るべきである。出発化合物がC C I 2 − C
C I 2である場合、HF/C C 1 2 = C
C 1 2のモル比は、約4.5/1ないし10/1
、好ましくは約5/1ないし10/1、さらに好ましく
は約6/1ないし7/1に渡り得る。IFは、そうする
ことを望むなら、不活性物質で希釈してもよい。この発
明の方法に適切なそのような不活性物質は、窒素、ヘリ
ウム、またはアルゴンを含む。
2 C la−Z−またはC2 C i6−, z,を
C2 C12 F4 (FC 114およびFC−
1148)へ転化するに必要な化学量論量の少なくとも
0、5モル、好ましくは少な《とも2.0モル過剰であ
るべきである。出発化合物がC C I 2 − C
C I 2である場合、HF/C C 1 2 = C
C 1 2のモル比は、約4.5/1ないし10/1
、好ましくは約5/1ないし10/1、さらに好ましく
は約6/1ないし7/1に渡り得る。IFは、そうする
ことを望むなら、不活性物質で希釈してもよい。この発
明の方法に適切なそのような不活性物質は、窒素、ヘリ
ウム、またはアルゴンを含む。
Cl2の量は、少なくとも、C2 C 14−Z−また
はC2 C 16−F Z,をC2C 1,F4へ転化
するに必要な化学量論量である。一般に、C12/CC
lz=CC12のモル比は、約1/1ないし10/1に
渡り得る。
はC2 C 16−F Z,をC2C 1,F4へ転化
するに必要な化学量論量である。一般に、C12/CC
lz=CC12のモル比は、約1/1ないし10/1に
渡り得る。
出発化合物のHF/CI,との反応は、固定床および流
動床反応器を含むいずれもの好適な反応器でおこなうこ
とができる。反応容器は、ハステロイ(Hastel
Ioy)やインコネル( l ncone I )のよ
うな、フッ化水素および塩素の腐食効果に耐性の材料か
ら構成すべきである。
動床反応器を含むいずれもの好適な反応器でおこなうこ
とができる。反応容器は、ハステロイ(Hastel
Ioy)やインコネル( l ncone I )のよ
うな、フッ化水素および塩素の腐食効果に耐性の材料か
ら構成すべきである。
上記のように調製された、FC−1148およびFC−
114を含む反応混合物は、固定床および流動床を含む
いずれもの好適な反応器において、約100℃ないし2
30℃で、カーボン上の白金?存在下において、水素と
接触させる。反応容器は、ハロゲン化水素の腐食効果に
耐性の材料から構成すべきである。
114を含む反応混合物は、固定床および流動床を含む
いずれもの好適な反応器において、約100℃ないし2
30℃で、カーボン上の白金?存在下において、水素と
接触させる。反応容器は、ハロゲン化水素の腐食効果に
耐性の材料から構成すべきである。
接触時間は、所望の転化率に依存して広く渡り得、一般
に、約1ないし60秒、好ましくは約10ないし30秒
である。
に、約1ないし60秒、好ましくは約10ないし30秒
である。
一般に、H2と1.1.1.2−テトラフルオ口ジク口
口エタンとのモル比は、約0.5/1ないし20/1、
好まし《は約0.5/1ないし10/1、さらに好まし
くは約1/1ないし3/1に渡り得る。反応過程中、未
反応FC−114a,FC−114、FC−124、お
よびFC−143aを、所望生成物FC−134aを分
離した後、最初の接触工程に再循環させることができる
。
口エタンとのモル比は、約0.5/1ないし20/1、
好まし《は約0.5/1ないし10/1、さらに好まし
くは約1/1ないし3/1に渡り得る。反応過程中、未
反応FC−114a,FC−114、FC−124、お
よびFC−143aを、所望生成物FC−134aを分
離した後、最初の接触工程に再循環させることができる
。
圧力は、HFおよびCI■との反応またはその後の水素
化分解のいずれにおいても重要でない。
化分解のいずれにおいても重要でない。
大気圧および加圧が最も都合がよく、したがって好まし
い。
い。
[実施例]
以下、この発明の例示的実施例を記載する。全実施例中
、全ての「部」は、特に他の指示がない限り、重量部で
ある。全ての生成物の組成は、面積%(area pe
rcent)で与えられている。
、全ての「部」は、特に他の指示がない限り、重量部で
ある。全ての生成物の組成は、面積%(area pe
rcent)で与えられている。
クロロフッ素化の一般手順
反応器(内径0.5インチ、長さ12インチのインコネ
ルパイブ)に、以下の実施例に示すように、アルミナま
たはフッ化アルミニウムを仕込み、砂浴中に置いた。微
量の水を除去するために反応器に50cc/分でN2を
通じながら、この浴を徐々に400℃に熱した。反応器
仕込がアルミナである場合、温度を低下させ、約200
℃に維持し、その間、’H FおよびN2 (1/4モ
ル比)を反応器に通じ、ついでN2流量をゆっくりと減
少させてHFのみが反応器に通じるようにした。その時
点で、温度を徐々に450℃まで上昇させ、同温度を1
5ないし300分間維持した。このHF処理は、アルミ
ナをフッ素化アルミナに転化差せた。反応器仕込がフッ
化アルミニウムである場合は、この最後の工程は省いた
。
ルパイブ)に、以下の実施例に示すように、アルミナま
たはフッ化アルミニウムを仕込み、砂浴中に置いた。微
量の水を除去するために反応器に50cc/分でN2を
通じながら、この浴を徐々に400℃に熱した。反応器
仕込がアルミナである場合、温度を低下させ、約200
℃に維持し、その間、’H FおよびN2 (1/4モ
ル比)を反応器に通じ、ついでN2流量をゆっくりと減
少させてHFのみが反応器に通じるようにした。その時
点で、温度を徐々に450℃まで上昇させ、同温度を1
5ないし300分間維持した。このHF処理は、アルミ
ナをフッ素化アルミナに転化差せた。反応器仕込がフッ
化アルミニウムである場合は、この最後の工程は省いた
。
ついで、温度を、指摘の値に調節し、ハロゲン化エタン
またはエチレン誘導体の流れを開始した。
またはエチレン誘導体の流れを開始した。
全ての流れは、実施例中で指摘のモル比および接触時間
を与えるように51wJシた。
を与えるように51wJシた。
反応器流出物は、不活性担体上のクリトックス(Kry
tox)を含有する20゜ X1/8”カラムおよび3
5cc/分のヘリウム流量を用いたヒュウレットーバッ
カードHP5890ガスクロマトグラフとオンラインで
サンプリングした。分析条件は、70℃で3分、ついで
、6℃/分の速度で180℃まで温度プログラミングし
たものであった。
tox)を含有する20゜ X1/8”カラムおよび3
5cc/分のヘリウム流量を用いたヒュウレットーバッ
カードHP5890ガスクロマトグラフとオンラインで
サンプリングした。分析条件は、70℃で3分、ついで
、6℃/分の速度で180℃まで温度プログラミングし
たものであった。
水素化分解の一般手順
ステンレス鋼またはハステロイ製のチューブ状反応器(
外径1/4゜ないし3/4’ )に、所望の触媒を仕込
んだ。25cc/分の水素を反応器に通じ、温度を0.
5℃/分の速度で300℃まで高め、300℃で3時間
維持した。ついで、反応器温度を所望の温度まで低下さ
せ、所定の比のH2 /Cz F4 C Izを触媒上
に通じた。
外径1/4゜ないし3/4’ )に、所望の触媒を仕込
んだ。25cc/分の水素を反応器に通じ、温度を0.
5℃/分の速度で300℃まで高め、300℃で3時間
維持した。ついで、反応器温度を所望の温度まで低下さ
せ、所定の比のH2 /Cz F4 C Izを触媒上
に通じた。
実施例 I
CC 12 −CC 12のクロロフ・ソ素化? I
F 3 ( 1 5 . 7 g , 2
5 m L , 1 2 〜2 0メッシュ)を
用いて、クロロフッ素化の一般手順をおこなった。反応
温度は、375℃、HF/C2C14/CI2のモル比
は、5/1/1、接触時間は、15秒であった。生成物
流の組成は、0.5%CF,CCIF2、 0.8%CCIF2 CCIFz、 49.2%C F s C C l 2 F ,0.7
%C F 3 C H C 1 2、3.2%C C
l 2 F C C I F 2、12.9%CF3C
C13、 0.1%CCIFzCHClz、 0.6%C C I F = C C l 2、1.1
%C C 1 2 F C C I 2 F ,0.3
%CC 12 FCC 13 、および30,5%CC
I■一CC 12であった。
F 3 ( 1 5 . 7 g , 2
5 m L , 1 2 〜2 0メッシュ)を
用いて、クロロフッ素化の一般手順をおこなった。反応
温度は、375℃、HF/C2C14/CI2のモル比
は、5/1/1、接触時間は、15秒であった。生成物
流の組成は、0.5%CF,CCIF2、 0.8%CCIF2 CCIFz、 49.2%C F s C C l 2 F ,0.7
%C F 3 C H C 1 2、3.2%C C
l 2 F C C I F 2、12.9%CF3C
C13、 0.1%CCIFzCHClz、 0.6%C C I F = C C l 2、1.1
%C C 1 2 F C C I 2 F ,0.3
%CC 12 FCC 13 、および30,5%CC
I■一CC 12であった。
C F s C C l z Fの収率(転化されたC
C1z=CClzに基づく)は、70.8%であった。
C1z=CClzに基づく)は、70.8%であった。
実施例 2
C C 1 2 − C C l 2のクロロフッ素化
手順およびAIF3触媒は、実施例1と同じであった。
手順およびAIF3触媒は、実施例1と同じであった。
反応温度は、375℃、HF/C2C14/CI2のモ
ル比は、5/1/1、および接触時間は、30秒であっ
た。生成物流の組成は、1.0%C F s C C
I F z、1,2%C C I F 2 C C I
F 2、58.8%CFs CC 12 F, 0,9%C F i C H C 1 2、1.6%C
C 12 FCC I F2、9.4%CFI CC
1B , 06 1%C C I F 2 C H C l 2、
0.9%CCIF=CC1z、 0.5″″% C F 2 C I C C l 3、
0.2%CC 12FCC 13 、および25.4%
CC1z=CClzであった。
ル比は、5/1/1、および接触時間は、30秒であっ
た。生成物流の組成は、1.0%C F s C C
I F z、1,2%C C I F 2 C C I
F 2、58.8%CFs CC 12 F, 0,9%C F i C H C 1 2、1.6%C
C 12 FCC I F2、9.4%CFI CC
1B , 06 1%C C I F 2 C H C l 2、
0.9%CCIF=CC1z、 0.5″″% C F 2 C I C C l 3、
0.2%CC 12FCC 13 、および25.4%
CC1z=CClzであった。
CF,CC 12Fの収率(転化されたC C l 2
− C C 1 2に基づく)は、78.8%であっ
た。
− C C 1 2に基づく)は、78.8%であっ
た。
実施例 3
CF3 CC 12 F (FC−114a)のCF3
C触媒として0.5%Pd/C (5.0g)を用い
、446KPaの水素圧で、水素化分解の一般手順をお
こなった。他の反応条件および生成物は、表1に示され
ている。
C触媒として0.5%Pd/C (5.0g)を用い
、446KPaの水素圧で、水素化分解の一般手順をお
こなった。他の反応条件および生成物は、表1に示され
ている。
表 1
CFi CC 12 F (.FC− 114 a)の
水素化分解 ^ 150 1.0 4+83m
l49 2.0 13.76Clフ
4 1.0 6.84D I
?4 2.O l3.77E 17
5 4.0 27.6Or 174
2.0 9.98G 226
4.0 25.0961.1 46.9
g.753.8 4G.3 6
.697+3 75.5 13.5119
.5 68.6 1G.881.3
62.5 9.276.7 .59.S
フ.798.5 6B.3 1
1.6実施例 4 CF3CHCIFのクロロフッ素化 手順およびAIF,触媒は、実施例1および2と同じで
あった。反応温度は、375℃、HF/C F 3 C
H C I F / C I 2のモル比は、1/1
/1.5、接触時間は、30秒であった。反応流出物の
組成は、 7.3%CF3CCIF2、 2.5%CCIF2CIF2、 54.5%CF3 CC12 F, 5.0%CF.CHC 12、 0,6%CC 12 FCC IFz、6.4%CFs
CC 13、 2.Q%CF,CHF2、 0.5%CF2HCF2C l、 0.1%CC i,FCC I2 F,および21,1
%CF,CHC I Fであった。
水素化分解 ^ 150 1.0 4+83m
l49 2.0 13.76Clフ
4 1.0 6.84D I
?4 2.O l3.77E 17
5 4.0 27.6Or 174
2.0 9.98G 226
4.0 25.0961.1 46.9
g.753.8 4G.3 6
.697+3 75.5 13.5119
.5 68.6 1G.881.3
62.5 9.276.7 .59.S
フ.798.5 6B.3 1
1.6実施例 4 CF3CHCIFのクロロフッ素化 手順およびAIF,触媒は、実施例1および2と同じで
あった。反応温度は、375℃、HF/C F 3 C
H C I F / C I 2のモル比は、1/1
/1.5、接触時間は、30秒であった。反応流出物の
組成は、 7.3%CF3CCIF2、 2.5%CCIF2CIF2、 54.5%CF3 CC12 F, 5.0%CF.CHC 12、 0,6%CC 12 FCC IFz、6.4%CFs
CC 13、 2.Q%CF,CHF2、 0.5%CF2HCF2C l、 0.1%CC i,FCC I2 F,および21,1
%CF,CHC I Fであった。
CF3 CC12 Fの収率(転化されたCFiCHC
IFに基づく)は、69.1%であった。
IFに基づく)は、69.1%であった。
実施f15
CF.CH,のクロロフッ素化
手順およびAIF3触媒は、実施fll、2および4と
同じであった。反応温度は、350℃、HF / C
F s C H s / C I 2のモル比は、2/
1/4、接触時間は、20秒であった。生成物流の組成
は、1.2%CF3 CC IF,、2,1%CCIF
2CIFz、 59.5%CF,CC 1,F, 12,8%C F 3 C H C I 2、2.5%
CCl2FCCIF2、 18.9%CF,CC l,、 1.2%CF3CHIF, 0. 8%C F i C H2 C I ,および0
.7%CF2CICC13であった。
同じであった。反応温度は、350℃、HF / C
F s C H s / C I 2のモル比は、2/
1/4、接触時間は、20秒であった。生成物流の組成
は、1.2%CF3 CC IF,、2,1%CCIF
2CIFz、 59.5%CF,CC 1,F, 12,8%C F 3 C H C I 2、2.5%
CCl2FCCIF2、 18.9%CF,CC l,、 1.2%CF3CHIF, 0. 8%C F i C H2 C I ,および0
.7%CF2CICC13であった。
CFs CC12 Fの収率(転化されたC F 3
C H sに基づく)は、59.5%であった。
C H sに基づく)は、59.5%であった。
実施例 6
CCIF2CCIF2の異性化
a,手順およびAIF,触媒は実施例1、2、?及び5
と同じであった。CCIF,CCIF,仕込は、約9%
のC F s C C 1 2 Fを含んでいた。
と同じであった。CCIF,CCIF,仕込は、約9%
のC F s C C 1 2 Fを含んでいた。
反応温度は、375℃、HF/
CC I F2 CC I F2 /N2のモル比は、
0/1/2、接触時間は、30秒であった。生成物流の
組成は、31.4%CF,CCIF,、2.2%CCI
Fz CCIFz、 18,2%CFiCCI■F1 3.0%CCl2FCCIF2、 36%C F ) C C J 3、 4.4%CC li CC I F2、0.8%CC1
.CC1■F1および 3.9%C C l 2 − C C 1 2であった
。
0/1/2、接触時間は、30秒であった。生成物流の
組成は、31.4%CF,CCIF,、2.2%CCI
Fz CCIFz、 18,2%CFiCCI■F1 3.0%CCl2FCCIF2、 36%C F ) C C J 3、 4.4%CC li CC I F2、0.8%CC1
.CC1■F1および 3.9%C C l 2 − C C 1 2であった
。
CF3 CC IF2 、CF3 CC 13 、およ
びC C l x F C C I F 2の高い濃度
は、有意量のC2Cl,F,が不均化されていることを
示している。
びC C l x F C C I F 2の高い濃度
は、有意量のC2Cl,F,が不均化されていることを
示している。
b . H F / C C I F 2 C C I
F 2 / N 2のモル比を6/I/Oとし、接触
時間を15秒として、上記実験を425℃で繰り返した
。生成物流の組成は、10.9%CF3CC IF2、
38. 7%C C I F 2 C C I
F x 、50.2%CF3 CC12 F,お
よび0.2%CF3CC13であった。
F 2 / N 2のモル比を6/I/Oとし、接触
時間を15秒として、上記実験を425℃で繰り返した
。生成物流の組成は、10.9%CF3CC IF2、
38. 7%C C I F 2 C C I
F x 、50.2%CF3 CC12 F,お
よび0.2%CF3CC13であった。
これらの結果は、CCIF,CCIF2のCFi CC
12 Fへの異性化に悪影響を及ぼすことなく、HF
がC2C l,F4不均化を防止するという効果を明瞭
に示している。
12 Fへの異性化に悪影響を及ぼすことなく、HF
がC2C l,F4不均化を防止するという効果を明瞭
に示している。
Claims (7)
- (1)(a)式 C_2Cl_4_−_xZ_xまたはC_2Cl_6_
−_yZ、(ここで、x=0ないし4、y=0ないし6
、およびZは水素またはフッ素の少なくとも1つ)で示
される少なくとも1種の化合物であってフッ素原子の合
計数が≦3であるものを、気相において、C_2Cl_
4_−_xZ_xおよび/またはC_2Cl_6_−_
yZ_yをC_2Cl_2F_4へ転化するために必要
な化学量論量以上の塩素と、およびHFと、約300℃
ないし約450℃の温度で、フッ素化アルミナまたはA
lF_3から選ばれる少なくとも1種の触媒の存在下で
反応させて、1,1,1,2−テトラフルオロジクロロ
エタン(FC−114a)、1,1,2,2−テトラフ
ルオロジクロロエタン(FC−114)およびベンタフ
ルオロクロロエタン(FC−115)を生成させ、およ
び (b)上記(a)で生成したFC−11 4aおよびFC−114を、気相において、約100℃
ないし約350℃の温度で、水素化分解触媒の存在下で
、H_2と接触させて、1,1,1,2−テトラフルオ
ロエタン(FC−134a)、未反応FC−114およ
びFC−114a、1,1,1,2−テトラフルオロク
ロロエタン(FC−124)、1,1,1−トリフルオ
ロエタン(FC−143a)、並びに未反応ベンタフル
オロクロロエタン(FC−115)を含むガス状混合物
を生成させる ことによって1,1,1,2−テトラフルオロエタンを
製造する方法において、 上記(a)においてC_2Cl_4_−_xZ_xおよ
び/またはC_2Cl_6_−_yZ_yをC_2Cl
_2F_4へ転化するために必要な化学量論量の少なく
とも0.5モル過剰量のHFを用いることを特徴とする
方法。 - (2)未反応FC−114およびFC−114a、FC
−124、およびFC−143aを工程(b)から工程
(a)へ再循環させる工程(c)をさらに含む請求項1
記載の方法。 - (3)工程(a)の化合物が、テトラクロロエチレンで
ある請求項2記載の方法。 - (4)HFの量が、化学量論量の少なくとも1.0モル
過剰である請求項2記載の方法。 - (5)HFの量が、化学量論量の少なくとも2.0モル
過剰である請求項2記載の方法。 - (6)工程(a)における温度が、約325℃ないし約
400℃である請求項2記載の方法。 - (7)工程(a)における温度が、約350℃ないし約
375℃である請求項2記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US26229888A | 1988-10-25 | 1988-10-25 | |
US262,298 | 1988-10-25 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02231438A true JPH02231438A (ja) | 1990-09-13 |
Family
ID=22996953
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1276167A Pending JPH02231438A (ja) | 1988-10-25 | 1989-10-25 | 1,1,1,2―テトラフルオロエタンの製造方法 |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0366404B1 (ja) |
JP (1) | JPH02231438A (ja) |
CN (1) | CN1024538C (ja) |
AT (1) | ATE84775T1 (ja) |
AU (1) | AU618638B2 (ja) |
BR (1) | BR8905439A (ja) |
CA (1) | CA2001421A1 (ja) |
DE (1) | DE68904523T2 (ja) |
ES (1) | ES2046492T3 (ja) |
MX (1) | MX169984B (ja) |
RU (1) | RU1836314C (ja) |
ZA (1) | ZA898087B (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4873381A (en) * | 1988-05-20 | 1989-10-10 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Hydrodehalogenation of CF3 CHClF in the presence of supported Pd |
GB9007029D0 (en) * | 1990-03-29 | 1990-05-30 | Ici Plc | Chemical process |
ITMI20010287A1 (it) | 2001-02-13 | 2002-08-13 | Ausimont Spa | Procedimento per ottenere cfc 113a da cfc 113 |
CN112341311A (zh) * | 2020-11-06 | 2021-02-09 | 江苏蓝色星球环保科技股份有限公司 | 1,1,2-三氟-2-氯乙烯的制备方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1578933A (en) * | 1977-05-24 | 1980-11-12 | Ici Ltd | Manufacture of halogenated hydrocarbons |
FR2498591A1 (fr) * | 1980-12-31 | 1982-07-30 | Ugine Kuhlmann | Procede continu de preparation en phase gazeuse du trichlorotrifluorethane, du dichlorotetrafluorethane et du monochloropentafluorethane en proportions controlees |
US4766260A (en) * | 1987-07-07 | 1988-08-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Gas-phase fluorination process |
US4766259A (en) * | 1987-08-13 | 1988-08-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Gas-phase fluorination process |
-
1989
- 1989-10-24 RU SU894742365A patent/RU1836314C/ru active
- 1989-10-24 ES ES198989310935T patent/ES2046492T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1989-10-24 DE DE8989310935T patent/DE68904523T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-10-24 EP EP89310935A patent/EP0366404B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-10-24 AT AT89310935T patent/ATE84775T1/de active
- 1989-10-24 MX MX018078A patent/MX169984B/es unknown
- 1989-10-25 BR BR898905439A patent/BR8905439A/pt not_active Application Discontinuation
- 1989-10-25 JP JP1276167A patent/JPH02231438A/ja active Pending
- 1989-10-25 ZA ZA898087A patent/ZA898087B/xx unknown
- 1989-10-25 CA CA002001421A patent/CA2001421A1/en not_active Abandoned
- 1989-10-25 CN CN89108943A patent/CN1024538C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1989-10-25 AU AU43738/89A patent/AU618638B2/en not_active Ceased
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ES2046492T3 (es) | 1994-02-01 |
ATE84775T1 (de) | 1993-02-15 |
BR8905439A (pt) | 1990-10-16 |
EP0366404A1 (en) | 1990-05-02 |
DE68904523T2 (de) | 1993-05-27 |
CN1024538C (zh) | 1994-05-18 |
CA2001421A1 (en) | 1990-04-25 |
MX169984B (es) | 1993-08-03 |
EP0366404B1 (en) | 1993-01-20 |
DE68904523D1 (de) | 1993-03-04 |
AU618638B2 (en) | 1992-01-02 |
CN1042344A (zh) | 1990-05-23 |
RU1836314C (ru) | 1993-08-23 |
ZA898087B (en) | 1991-06-26 |
AU4373889A (en) | 1990-05-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0298662B2 (en) | Gas-phase fluorination process | |
US6706935B2 (en) | Catalytic equilibration to increase the relative mole fraction of CF3CHCI, CF3CHCI2 or CF3CF2H in a composition | |
JP2695042B2 (ja) | 1,1,1,2―テトラフルオロエタンの製造 | |
US5714655A (en) | Process of manufacturing 1,1,1,3,3-pentafluoropropane, process of manufacturing 2,2,3-trichloro 1,1,1,3,3-pentafluoropropane and process of manufacturing 2,3,3-trichloro-1,1,1-trifluoropropene | |
US2110369A (en) | Manufacture of organic fluorine compounds | |
JP2005536539A (ja) | 1,1,1,2,2−ペンタフルオロエタンを製造するための方法 | |
US5185482A (en) | Manufacture of 1,1,1,2-tetrafluoroethane | |
US5763698A (en) | Process for reducing the fluorine content of hydrofluorocarbons and hydrohalofluorocarbons | |
US4766259A (en) | Gas-phase fluorination process | |
JP4378779B2 (ja) | 含フッ素エタンの製造方法 | |
EP0349298A1 (en) | Gas-phase hydrofluorination process | |
US5710351A (en) | Process for producing hexafluoroethane | |
US5446216A (en) | Process for manufacture of high purity 1,1-dichlorotetrafluoroethane | |
JP3130656B2 (ja) | 1,1−ジクロロ−1,3,3,3− テトラフルオロプロパンの製造法 | |
US5258561A (en) | Catalytic chlorofluorination process for producing CF3 CHClF and CF3 CHF2 | |
RU2024474C1 (ru) | Способ получения 1,1-дихлор-1-фторэтана и способ снижения содержания 1,1-дихлорэтилена | |
JPH02231438A (ja) | 1,1,1,2―テトラフルオロエタンの製造方法 | |
US5008475A (en) | Gas-phase fluorination process | |
US5395999A (en) | Catalytic chlorofluorination process for producing CHClFCF3 and CHF2 CF3 | |
KR100286793B1 (ko) | 하이드로플루오로알칸 제조방법 | |
US5475167A (en) | Process for the manufacture of pentafluoroethane | |
JP2930697B2 (ja) | 1,1―ジクロロテトラフルオロエタンの製造方法 | |
JP2659253B2 (ja) | 気相フッ素化方法 | |
US5008476A (en) | Process for the preparation of 1,1,1,2-tetrafluoroethane | |
US5030372A (en) | Catalytic equilibration to improve the relative yield of selected halocarbons |