JPH0222877A - 固体レーザー素子及びその製造方法 - Google Patents
固体レーザー素子及びその製造方法Info
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- JPH0222877A JPH0222877A JP63172960A JP17296088A JPH0222877A JP H0222877 A JPH0222877 A JP H0222877A JP 63172960 A JP63172960 A JP 63172960A JP 17296088 A JP17296088 A JP 17296088A JP H0222877 A JPH0222877 A JP H0222877A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ9発明の目的
(a)産業上の利用分野
本発明は、ダイヤモンド発光素子およびその製造方法に
関し、特に、可視域で波長可変な固体レーザーに用いる
のに適したダイヤモンド発光素子およびその製造方法に
関するものである。
関し、特に、可視域で波長可変な固体レーザーに用いる
のに適したダイヤモンド発光素子およびその製造方法に
関するものである。
(b)従来の技術
可視域で波長可変なレーザーとしては、色素(Dye)
レーザーが現在使用されている。
レーザーが現在使用されている。
しかしながら、色素レーザーには、下記の欠点がある。
■ 色素が励起光によって劣化するため、出力が不安定
である。
である。
■ 溶液中に色素を溶かすため、発光中心の濃度が低く
、高出力が得にくい。
、高出力が得にくい。
■ 取扱いが不便である。
このため、固体で波長可変なレーザー素子の開発が望ま
れてきた。
れてきた。
ダイヤモンドは、可視域に多数のカラーセンターを持つ
ため、最も当該目的に適した物質である。
ため、最も当該目的に適した物質である。
従来より、ダイヤモンドの各種のカラーセンターの研究
が行なわれており、たとえばDiamondRcser
ch (11−14頁、 1977年)に示されている
ように、レーザーの適用可能性が指摘されてきた。
が行なわれており、たとえばDiamondRcser
ch (11−14頁、 1977年)に示されている
ように、レーザーの適用可能性が指摘されてきた。
カラーセンターへのレーザーへの応用については、0p
tic Letters 10(481〜483頁、
1985年)に、530nmでパルス発振した例が示
されている。その報告では、H3センターを用い、53
0nmの波長で発振したとされている。
tic Letters 10(481〜483頁、
1985年)に、530nmでパルス発振した例が示
されている。その報告では、H3センターを用い、53
0nmの波長で発振したとされている。
しかし、本発明によるH4センターを用いたレーザー発
振に関しては成功していない。
振に関しては成功していない。
H4センターの一般的な製造工程としては、まず予めI
aB型窒素を含有した原石を用意し、その原石に対して
電子線照射を施して格子欠陥を作る。
aB型窒素を含有した原石を用意し、その原石に対して
電子線照射を施して格子欠陥を作る。
これを真空中で加熱処理(アニーリング)することによ
り、格子欠陥と窒素原子とを結合させH4センターを得
る。
り、格子欠陥と窒素原子とを結合させH4センターを得
る。
IaB型窒素は、2対の窒素原子(計4個)が集合した
もので、これに空格子が1ヶ結びついたものがH4セン
ターと考えられている。原石として、天然原石を用いる
と、原石中に、IaA型、 IaB型。
もので、これに空格子が1ヶ結びついたものがH4セン
ターと考えられている。原石として、天然原石を用いる
と、原石中に、IaA型、 IaB型。
Ib型、N3型窒素と様々な形態で、窒素の集合体が存
在する。
在する。
各集合体は、空格子と結びついて、あるいはそれ自身で
カラーセンターを形成する。この為、天然原石を用いる
と、複数のカラーセンターが1つの原石中に混在し、互
いにレーザー発振に対し悪影晋を与える。
カラーセンターを形成する。この為、天然原石を用いる
と、複数のカラーセンターが1つの原石中に混在し、互
いにレーザー発振に対し悪影晋を与える。
又、原石として、合成ダイヤモンドを用いると、この場
合窒素は孤立分散(Ib型)しているので、iaB型に
変換しなくてはならない。この変換は大変難しく超高圧
、高温下でのアニーリングの処理が必要である。合成ダ
イヤモンドIb型を用い、H4センターによるレーザー
発振の検討は、Sol 1dState La5er
s、 Springer−Verlagの「カラーセ
ンターレーザー用の合成ダイヤモンドJ(1986年、
)に記載が有る。しかし、発振には成功していない。
合窒素は孤立分散(Ib型)しているので、iaB型に
変換しなくてはならない。この変換は大変難しく超高圧
、高温下でのアニーリングの処理が必要である。合成ダ
イヤモンドIb型を用い、H4センターによるレーザー
発振の検討は、Sol 1dState La5er
s、 Springer−Verlagの「カラーセ
ンターレーザー用の合成ダイヤモンドJ(1986年、
)に記載が有る。しかし、発振には成功していない。
(c)発明を解決しようとする課題
前述の如く、H4センターにょるレーず一発振を実施し
ようと試みた場合、下記の問題点があった。
ようと試みた場合、下記の問題点があった。
■ 天然原石から作成すると、各カラーセンターが混在
し、H4カラーセンターによるレーザー発振しない。
し、H4カラーセンターによるレーザー発振しない。
■ 合成ダイヤモンドから作成しようとすると、IaB
型窒素への変換率が低く、H4センターがわずかしか出
来ない。
型窒素への変換率が低く、H4センターがわずかしか出
来ない。
■ レーザー発振に必要な光学特性が不明確であった。
本発明では、■、■の問題点を改良及び明確にし、従来
H4センターでは、発振出来なかったのを可能にする事
を目的とする。
H4センターでは、発振出来なかったのを可能にする事
を目的とする。
口8発明の構成
(a) 課題を解決するための手段
前述の■の問題を解決する為に、下記の方法を用いた。
(ア)合成ダイヤモンドIb型のうち、含有窒素量が2
x 10” 〜3.5 x 10”個/ cutの原
石を用いた。
x 10” 〜3.5 x 10”個/ cutの原
石を用いた。
(イ) IaB型窒素に変換する為、5 GPa以上2
400を以上の温度で10時間以上アニーリングした。
400を以上の温度で10時間以上アニーリングした。
(つ)IaB型窒素と空格子を結合させH4センターを
作成する為に、0.5〜5 MeVの加速電圧で、5×
lQlls〜5×1018電子/7の電子線照射をした
後、600〜1400℃の温度範囲で1時間以上アニー
リングした。
作成する為に、0.5〜5 MeVの加速電圧で、5×
lQlls〜5×1018電子/7の電子線照射をした
後、600〜1400℃の温度範囲で1時間以上アニー
リングした。
■の問題を解決する為に、下記の素子が有効である事を
明確にした。
明確にした。
(ヱ)結晶中のH4センターの光学密度の最大値が、0
.01〜3.5の範囲にある事。
.01〜3.5の範囲にある事。
(t) 490〜570nmにおけるib型富窒素原子
よる吸収の光学密度の最大値が0.1の範囲にある事。
よる吸収の光学密度の最大値が0.1の範囲にある事。
上記方法の内、(イ)、(つ)は、既知の方法であり、
本特許の特徴は(7)、(1)、(オ)に有る。
本特許の特徴は(7)、(1)、(オ)に有る。
(b)作用
以下、各作用について説明する。
(ア)の作用
合成ダイヤモンド、Ib型のうち窒素含有量が2×10
”−3,5X 1020個/ cn!の原石を用いた。
”−3,5X 1020個/ cn!の原石を用いた。
2X10’″個/ ant以下の窒素含有量ではH4セ
ンターの光学密度の最大値が0.01以下となり、レー
ザー発振は起らなかった。又、3.5 XIO20個/
cff1以上では、H4センターの光学密度が3.5以
上、又は490〜570nmにおけるlb窒素原子によ
る光学密度が0.1以上となり、レーザー発振が起らな
かった。
ンターの光学密度の最大値が0.01以下となり、レー
ザー発振は起らなかった。又、3.5 XIO20個/
cff1以上では、H4センターの光学密度が3.5以
上、又は490〜570nmにおけるlb窒素原子によ
る光学密度が0.1以上となり、レーザー発振が起らな
かった。
(イ)の作用
5 GPa以上では、ダイヤモンドが黒鉛に変化し、使
用不可となった。又、2400℃以下ではIaB型窒素
が形成されずH4センターが出来なかった。
用不可となった。又、2400℃以下ではIaB型窒素
が形成されずH4センターが出来なかった。
又、10時間以下のアニーリングでは、IaB型への変
換率が低く、H4センターの光学密度が、0.01以下
、又は490〜570nmにおけるIb型窒素原子によ
る光学密度は0.1以上となりレーザー発振は生じなか
った。
換率が低く、H4センターの光学密度が、0.01以下
、又は490〜570nmにおけるIb型窒素原子によ
る光学密度は0.1以上となりレーザー発振は生じなか
った。
(つ)の作用
0、5MeV以下の加速電圧ではH4センターが結晶全
体に形成されず、5 MeV以上では放射化が生じ、使
用可能になるまで時間を要した。
体に形成されず、5 MeV以上では放射化が生じ、使
用可能になるまで時間を要した。
電子線照射世が、5×1018電子/cII!以下では
、H4センターの光学密度が0.01以下となるか、又
はIb型窒素原子による光学密度が0.1以上となりレ
ーザー発振が起きなかった。又、5X10′9電子/c
i以上の電子線照射を行なうと、結晶中に多数の欠陥が
形成され、可視域で大きな吸収が生じ、レーザー発振が
不可能となった。又、アニーリング温度が、600℃以
下ではH4センターが形成されず逆に1400℃以上で
はH4センターの破壊が生じた。
、H4センターの光学密度が0.01以下となるか、又
はIb型窒素原子による光学密度が0.1以上となりレ
ーザー発振が起きなかった。又、5X10′9電子/c
i以上の電子線照射を行なうと、結晶中に多数の欠陥が
形成され、可視域で大きな吸収が生じ、レーザー発振が
不可能となった。又、アニーリング温度が、600℃以
下ではH4センターが形成されず逆に1400℃以上で
はH4センターの破壊が生じた。
(1)の作用
光学密度について説明し、次に作用について説明する。
光学密度は次式で定義される。
光学密度=42n(Io/I)
ここで、ioは入射光強度、■は透過光強度である。
この場合、吸収が全くないときにI”Toとなる。
この光学密度の値は、結晶の厚みに依存する。
また、同一物質でも長さによって異なる。
第1図は、厚みTの素子に、入射側より10の励起光を
入射した場合の素子内の励起光強度分布を示す。光学密
度は、構成■の範囲内にある代表的な場合を実線1に、
それよりも大きい代表的な場合を破線2に示す。I、I
aはそれぞれ透過側での強度である。1thは、通常の
共振器を用いた場合においてレーザー発振に必要なしき
い値である。
入射した場合の素子内の励起光強度分布を示す。光学密
度は、構成■の範囲内にある代表的な場合を実線1に、
それよりも大きい代表的な場合を破線2に示す。I、I
aはそれぞれ透過側での強度である。1thは、通常の
共振器を用いた場合においてレーザー発振に必要なしき
い値である。
第1図より明らかなように、 +thより強度の高い励
起光分布を得るには、光学密度が低いほどよい。光学密
度が高すぎると、結晶内でレーザー発振に必要な励起光
強度(1th)以下となるところが生じる。
起光分布を得るには、光学密度が低いほどよい。光学密
度が高すぎると、結晶内でレーザー発振に必要な励起光
強度(1th)以下となるところが生じる。
したがって、その点より透過側では、レーザー発振が生
じなくなる。素子全体として発振させるためには、素子
全体として励起光強度を1th以上とする必要がある。
じなくなる。素子全体として発振させるためには、素子
全体として励起光強度を1th以上とする必要がある。
このためには、光学密度を3.5以下に設定する必要が
ある。一方、光学密度を低く設定することは、カラーセ
ンター濃度が減少することを意味する。カラーセンター
濃度が低すぎると、自励発振が起こらずレーザー発振し
なくなる。すなわち、H4センターの光学密度を0.0
1未満とすると、レーザー発振しなくなる。
ある。一方、光学密度を低く設定することは、カラーセ
ンター濃度が減少することを意味する。カラーセンター
濃度が低すぎると、自励発振が起こらずレーザー発振し
なくなる。すなわち、H4センターの光学密度を0.0
1未満とすると、レーザー発振しなくなる。
(才)の作用
Ib型窒素原子による吸収は、550nm付近よりゆる
やかに生ずる。一方H4センターによるレーザー発振光
は、490〜570nmである。この波長範囲に前記吸
収が存在すると、自励発振した光が吸収され、レーザー
発振しなくなる。その上限値は光学密度の最大値が0.
1の場合である。0.1以下ではレーザー発振する。
やかに生ずる。一方H4センターによるレーザー発振光
は、490〜570nmである。この波長範囲に前記吸
収が存在すると、自励発振した光が吸収され、レーザー
発振しなくなる。その上限値は光学密度の最大値が0.
1の場合である。0.1以下ではレーザー発振する。
又、人工合成ダイヤモンドは、超高圧高温下で温度差法
を用い合成した単結晶又は、窒素原子を添加しながら気
相合成によって合成した単結晶、いずれの場合にも同様
の結果が得られた。
を用い合成した単結晶又は、窒素原子を添加しながら気
相合成によって合成した単結晶、いずれの場合にも同様
の結果が得られた。
実施例1
5.4GPa、 1350℃〜1420℃の温度圧力範
囲で、温度差法により80時間キープして1.8〜2.
2カラツトの合成ダイヤモンドlb型を5ヶ作製した。
囲で、温度差法により80時間キープして1.8〜2.
2カラツトの合成ダイヤモンドlb型を5ヶ作製した。
5mmX5mmX2mmのサイズに加工した後、赤外分
光分析を用い1130cm−’の吸収係数より、含有窒
素濃度を測定したところ、I X 10” 〜5 X
10”個/ c++tであった。
光分析を用い1130cm−’の吸収係数より、含有窒
素濃度を測定したところ、I X 10” 〜5 X
10”個/ c++tであった。
これらの試料を5.0GPa; 2400℃の圧力温度
条件で10時間アニーリングした。赤外分光分析によっ
てIaB型の吸収を調べると殆どIaB型に変換してい
た。さらに3MeV I XIO”電子/dの条件で電
子線照射を行ない、900℃で1時間アニーリングした
。第2図に示す様なレーザー発振装置を用い、レーザー
発振実験を行なった。
条件で10時間アニーリングした。赤外分光分析によっ
てIaB型の吸収を調べると殆どIaB型に変換してい
た。さらに3MeV I XIO”電子/dの条件で電
子線照射を行ない、900℃で1時間アニーリングした
。第2図に示す様なレーザー発振装置を用い、レーザー
発振実験を行なった。
結果をm1表に示す。第2図中、11のAr+レーザー
及び12のI)yeレーザーによって励起光18を発振
させた。全反射ミラー13によって方向を変え14の集
光レンズにより集光し、16の試料に当てた。
及び12のI)yeレーザーによって励起光18を発振
させた。全反射ミラー13によって方向を変え14の集
光レンズにより集光し、16の試料に当てた。
試料16は全反射ミラー15及び半透過ミラー17によ
って形成される共振器中にブリュスター角に傾けてセッ
トした。試料より発振したレーザー光19は、分光器及
びディテクターによって測定した。
って形成される共振器中にブリュスター角に傾けてセッ
トした。試料より発振したレーザー光19は、分光器及
びディテクターによって測定した。
第 1
表
実施例2
5.5GPa、 1350℃の圧力温度範囲で、温度差
法により 100時間キープして2〜2.3カラツトの
合成ダイヤモンドIb型を7ケ作製した。5.5X5X
2IIII11のサイズに加工した後、窒素含有量を測
定した所、2×1018個/CIl!であった。これら
の試料を5.5GPa、 2500℃で、30時間アニ
ーリングした。
法により 100時間キープして2〜2.3カラツトの
合成ダイヤモンドIb型を7ケ作製した。5.5X5X
2IIII11のサイズに加工した後、窒素含有量を測
定した所、2×1018個/CIl!であった。これら
の試料を5.5GPa、 2500℃で、30時間アニ
ーリングした。
さら1.:3MeV(7)加速電圧テ3 x40” 〜
I X 1020電子/cL11の電子線照射をした後
、500〜1600℃で5時間アニーリングした。実施
例1と同一の方法で、レーザー発振実験をした結果を第
2表に示す。
I X 1020電子/cL11の電子線照射をした後
、500〜1600℃で5時間アニーリングした。実施
例1と同一の方法で、レーザー発振実験をした結果を第
2表に示す。
第2表
実施例3
気相合成法を用いて、含有窒素量が5×1018〜5
X 10”個/cutであるIb型ダイヤモンドを7ケ
合成した。合成条件は32torrの圧力下で2.4G
llzの高周波を用いプラズマCVD法で行なった。窒
素元素のドープ景を変化させながら10μm/Hrの成
長速度で、厚さ1.5mmのIIa型合成ダイヤモンド
基板上に200μma長させた。
X 10”個/cutであるIb型ダイヤモンドを7ケ
合成した。合成条件は32torrの圧力下で2.4G
llzの高周波を用いプラズマCVD法で行なった。窒
素元素のドープ景を変化させながら10μm/Hrの成
長速度で、厚さ1.5mmのIIa型合成ダイヤモンド
基板上に200μma長させた。
各試料を3mmX5mmのサイズに加工した後5.0G
Pa 、 2400℃の圧力温度範囲で5〜30時間ア
時間アダリングった。その後3 MeV、 5 X I
Q”電子/dの条件で電子線照射を行なった後、1 t
orrの真空下で5X30時間アニーリングを行なった
。その後第3図に示す如く、IIaダイヤモンド基板2
6上にエピタキシャル成長した気相合成層21の両端面
22、23にそれぞれ半透過ミラー、全反射ミラーとな
る被覆層をコーティングした。当試料を第4図に示す様
なレーザー発振装置中位置37にセットした。31のA
r” レーザー及び32の口yeレーザーで励起光を発
振させ33のコリメーターにより集束させた。34の全
反射ミラーで方向を変え35のシリンドリカ゛ルレンズ
で一軸方向に36の如く集光させた。
Pa 、 2400℃の圧力温度範囲で5〜30時間ア
時間アダリングった。その後3 MeV、 5 X I
Q”電子/dの条件で電子線照射を行なった後、1 t
orrの真空下で5X30時間アニーリングを行なった
。その後第3図に示す如く、IIaダイヤモンド基板2
6上にエピタキシャル成長した気相合成層21の両端面
22、23にそれぞれ半透過ミラー、全反射ミラーとな
る被覆層をコーティングした。当試料を第4図に示す様
なレーザー発振装置中位置37にセットした。31のA
r” レーザー及び32の口yeレーザーで励起光を発
振させ33のコリメーターにより集束させた。34の全
反射ミラーで方向を変え35のシリンドリカ゛ルレンズ
で一軸方向に36の如く集光させた。
試料部の拡大図を第3図に示す。第4図36は第3図2
5に相当する。25の一軸方向に集光した励起光が、気
相合成層21に入射されると、22と23で形成される
共振器によって24方向にレーザー光が発振する。第4
図では、第3図の24が38に相当する。
5に相当する。25の一軸方向に集光した励起光が、気
相合成層21に入射されると、22と23で形成される
共振器によって24方向にレーザー光が発振する。第4
図では、第3図の24が38に相当する。
39のアパーチャーを通過させた後40のディテクター
でレーザー光38の強度を測定した。結果を第3表に示
す。
でレーザー光38の強度を測定した。結果を第3表に示
す。
尚、前記気相合成法の他に、DCプラズマ法、マイクロ
波プラズマ法、レーザー発振可能、熱フイラメント法、
熱フイラメントCVD法、イオンビーム蒸着法によって
合成したダイヤモンド薄膜を用いたが、実施例と同様な
結果が得られた。
波プラズマ法、レーザー発振可能、熱フイラメント法、
熱フイラメントCVD法、イオンビーム蒸着法によって
合成したダイヤモンド薄膜を用いたが、実施例と同様な
結果が得られた。
又、H4センター及びrb型窒素の光学密度は実施例1
と同一方法で測定した。
と同一方法で測定した。
ハ1発明の効果
以上述べた様に合成ダイヤモンド(超高圧、気相法)を
用いて、従来発振出来なかったH4センターの発振が可
能となり、490〜570nmで波長可変な固体レーザ
ー素子が供給可能となった。
用いて、従来発振出来なかったH4センターの発振が可
能となり、490〜570nmで波長可変な固体レーザ
ー素子が供給可能となった。
第1図は素子厚みと励起光強度の関係を示す。
1は、本発明によるレーザー発振可能な素子を、2はレ
ーザー発振しない素子をそれぞれ示す。 1thはしきい値を示す。 第2図はレーザー発振装置を示す。11はAr÷レーザ
ー 12はDyeレーザー、13は光路変向用の全反射
ミラー、14はレンズ、15は全反射ミラー、16は試
料、17は半透過ミラー、 16は試料、 1gは励起
光、19は発振したレーザー光をそれぞれ示す。 第3図は気相合成によって作製した素子の拡大図を示す
。21は合成層、22は半透過コーティング膜、23は
全反射コーティング膜、24は発振したレーザー光、2
5は励起光、26はna型ダイヤモンド基板をそれぞれ
示す。 第4図は気相合成によって作製した素子のレーザー発振
装置を示す。311iAr◆レーザー、32は口yeレ
ーザー、33はコリメーター、34は光路変向用全反射
ミラー、35はシリンドリカル集光レンズ、36は励起
光、37は試料、38は発振したレーザー光。 39はアパーチャー、40はディテクターをそれぞれ示
す。
ーザー発振しない素子をそれぞれ示す。 1thはしきい値を示す。 第2図はレーザー発振装置を示す。11はAr÷レーザ
ー 12はDyeレーザー、13は光路変向用の全反射
ミラー、14はレンズ、15は全反射ミラー、16は試
料、17は半透過ミラー、 16は試料、 1gは励起
光、19は発振したレーザー光をそれぞれ示す。 第3図は気相合成によって作製した素子の拡大図を示す
。21は合成層、22は半透過コーティング膜、23は
全反射コーティング膜、24は発振したレーザー光、2
5は励起光、26はna型ダイヤモンド基板をそれぞれ
示す。 第4図は気相合成によって作製した素子のレーザー発振
装置を示す。311iAr◆レーザー、32は口yeレ
ーザー、33はコリメーター、34は光路変向用全反射
ミラー、35はシリンドリカル集光レンズ、36は励起
光、37は試料、38は発振したレーザー光。 39はアパーチャー、40はディテクターをそれぞれ示
す。
Claims (3)
- (1)人工合成ダイヤモンド中のH4センターにおける
励起光方向の光学密度の最大値が0.01〜3.5の範
囲に有り、かつ、490〜570nmにおける I b型
窒素原子の光学密度の最大値が、0.1以下の範囲にあ
る事を特徴とするダイヤモンド固体レーザー素子。 - (2)前記人工合成ダイヤモンドは、結晶中の窒素濃度
が2×10^1^8〜3.5×10^2^0個/cm^
3である事を特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載
のダイヤモンド固体レーザー素子。 - (3)結晶中の窒素含有量が2×10^1^8〜3.5
×10^2^0個/cm^3である人工合成 I b型ダ
イヤモンドを用い、当該結晶を、5GPa以上、240
0℃以上の温度で、10時間以上アニーリングした後、
0.5〜5MeVの加速電圧で5×10^1^6〜5×
10^1^9電子/cm^3の電子線照射をした後、6
00〜1400℃の温度範囲で1時間以上アニーリング
する事を特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載のダ
イヤモンド固体レーザー素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63172960A JPH0222877A (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | 固体レーザー素子及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63172960A JPH0222877A (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | 固体レーザー素子及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0222877A true JPH0222877A (ja) | 1990-01-25 |
Family
ID=15951551
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63172960A Pending JPH0222877A (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | 固体レーザー素子及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0222877A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005538018A (ja) * | 2002-09-06 | 2005-12-15 | エレメント シックス リミテッド | 着色されたダイヤモンド |
-
1988
- 1988-07-11 JP JP63172960A patent/JPH0222877A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005538018A (ja) * | 2002-09-06 | 2005-12-15 | エレメント シックス リミテッド | 着色されたダイヤモンド |
JP4711677B2 (ja) * | 2002-09-06 | 2011-06-29 | エレメント シックス リミテッド | 着色されたダイヤモンド |
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