JPH02227213A - マイクロ波乾燥装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 本発明はマイクロ波乾燥装置に関する。

（ロ）従来の技術 実開昭５９−９１５９２号公報には、被乾燥物が供給さ
れる乾燥室内にマイクロ波を与えて、上記被乾燥物をマ
イクロ波乾燥するマイクロ波乾燥装置が開示されている
。

そして、マイクロ波乾燥される被乾燥物は乾燥室内に上
部から供給される。

而して、この場合、乾燥室内に供給される被乾燥物は乾
燥室の上方にないと乾燥室内にその上部から供給するこ
とができず、即ち被乾燥物が乾燥室より下方にある場合
には被乾燥物を乾燥室内に供給することができない。

（ハ）発明が解決しようとする課題 本発明は、例え、乾燥室内に供給される被乾燥物が乾燥
室より下方にあっても、被乾燥物を乾燥室内に供給する
ことができ、且つこれを実現するに際し掃除が栗でマイ
クロ波漏洩が生じない構造にしようとするものである。

（ニ）課組を解決するための手段 本発明のマイクロ波乾燥装置は、乾燥室と、該乾燥室に
マイクロ波乾燥を行なうためのマイクロ波を供給するマ
イクロ波供給手段と、粒状または粉状被乾燥物を貯留す
る貯留部と、該貯留部と上記乾燥室とを連結した被乾燥
物供給パイプと、上記乾燥室にマイクロ波遮断バイブを
介して連結された吸引室と、該吸引室内に着脱自在に配
置されたフィルタと、上記吸引室、マイクロ波遮断パイ
プ、乾燥室、供給パイプを介して上記貯留部内の被乾燥
物を吸引し、該被乾燥物を上記乾燥室内へ供給せしめる
吸引手段とを備える。

（ホ）作用 被乾燥物を貯留する貯留部が乾燥室より下方にあっても
、被乾燥物は吸引手段の駆動により吸引されて乾燥室内
へ供給される。

更に、斯る吸引のために設けられている吸引室はマイク
ロ波遮断バイブを介して乾燥室に連結されているため、
吸引室の方へマイクロ波が漏洩するのが防止される。

更に、上記吸引室にはフィルタが設けられているため、
吸引室まで被乾燥物が吸引されても、そこから先へ被乾
燥物が吸引されるのが防止される。

更に、上記フィルタは着脱自在であるため汚れた場合等
に簡単に掃除できると共に、上記フィルタは吸引室にあ
ってマイクロ波が漏洩しないところにあるためフィルタ
を金網で構成することができる。

（へ）実施例 第１図は本発明実施例のマイクロ波乾燥装置の構造を示
し、同装置は乾燥装置本体（１）とその周辺機構とから
なる。

上記乾燥装置本体（１）は主要部として開閉自在の上Ｍ
（２）を有する円筒状乾燥室（３）が設けられている。

該乾燥室には左上部に供給パイプ（４）が連接されてお
り、該供給パイプの先端は、粒状又は粉状被乾燥物（５
）を貯留する貯１１Ｆ（６）内に至っている。該貯ｔ！
Ｆ（６）は乾燥室（３）より下方にある。斯る被乾燥物
（５）としては、例えば樹脂ベレット、米、薬品粉粒物
などがある。樹脂ベレットは溶融された後成形されるも
のであるが、斯る溶融成形に先立って樹脂ベレットを乾
燥させるとその後の成形が良好になされるのである。本
実施例では被乾燥物（５）として樹脂ベレットが選ばれ
ている。又、上記乾燥室（３）の上蓋（２）の中央には
吸引室即ち吸引ホッパ（７）が一体成形のマイクロ波遮
断バイブ（７ａ）を介して連接されている。

斯る吸引ホッパ（７）は第２図をも参照するに、吸引ホ
ッパ本体（７ｂ）と、該本体に着脱自在に配置されるホ
ッパ上蓋（７ｃ）とからなる。斯る上蓋（７Ｃ）は装着
時下所望に外れないように鉤部（７ｄ）（７ｄ）が係合
される。そして、上記吸引ホッパ本体（７ｂ）とホッパ
上蓋（７ｃ）とに挟まれるようにして、バッキング（７
ｅ）と共に着脱自在にフィルタ金網（８ａ）及びフィル
タ紙（８）が配置されている。これらフィルタ金網（８
ａ）及びフィルタ紙（８）は上記被乾燥物（５）の材料
径より小さいメツシュを有し、又フィルタ紙（８）はフ
ィルタ金網（８ａ）よりメツシュが小さい。

ここで、上記ホッパ（７）内には、マイクロ波遮断リン
グ（７ａ）が存在しているため、後述するように乾燥室
（３）内に供給されるマイクロ波が漏れてこす、従って
安全であると共に、上記フィルタ金網（８ａ）が用いら
れている。仮にホッパ（７）内にマイクロ波が漏れる状
況であると、斯る漏れマイクロ波の作用によりフィルタ
金網（８ａ）で不所望な放電が発生するために、斯るフ
ィルタ金網（８ａ）は用いることができない。更に、上
記フィルタ金網（８ａ）及びフィルタ紙（８）は着脱自
在であるため、汚れた場合などには容易に掃除或いは交
換することができる。

又、上記フィルタ金網（８ａ）及びフィルタ紙（８）の
上部に位置して、上記ホッパ（７）の上蓋（７ｃ）内に
ポペット弁（９）が設けられている。そして、斯るポペ
ット弁（９）の上部において、上記吸引ホッパ（７）に
は吸気パイプ（１０）を介して吸引手段即ち吸引ブロワ
（１１）が連結されている。この場合、ポペット弁（９
）が開放駆動された状態で上記ブロワ（１１）を駆動す
ると、斯るブロワ（１１）の吸気作用が吸気パイプ（１
０）、吸引ホッパ（７）、マイクロ波遮断バイブ（７ａ
）及び乾燥室（３）を介して供給パイプ（４）まで及び
、上記貯ｆｌＦ（６）内の被乾ｍｖＪ（５）カ吸引され
て供給パイプ（４）を通って乾燥室（３）に至る。被乾
燥物（５）は乾燥室（３）に至ると該乾燥室内に自重に
より落下して溜る。

ここで、被乾燥物（５）は乾燥室（３）に落下せずその
後更に吸引されて上記吸引ホッパ（７）内に至るものが
あるが、斯る被乾燥物（５）はこれから先へはフィルタ
金網（８ａ）、フィルタ紙（８）により阻止されて行く
ことができず、従って吸引ブロワ（１１）の方へ被乾燥
物（５）が不所望に吸引されるのが阻止されている。

上記乾燥室（３）において、その内部にはマグネトロン
（１２）から導波管（１３）を介してマイクロ波が供給
され、底壁部にはモータ（１４）にて駆動され被乾燥物
（５）を撹拌する撹拌体（１５）が設けられ、側壁部に
はレベルセンサ（１６）及びサーミスタ等の温度センサ
（１７）が配置されている。斯るレベルセンサ（１６）
は乾燥室（３）内に被乾燥物（５）が所定量溜ったか否
かを検知し、上記温度センサ（１７）は被乾燥物（５）
の温度を検知する。又、上記乾燥室（３）の左底部に吸
気弁（１８）を介してコンプレッサ（１９）が連結され
、上記乾燥室（３）の上蓋（２）に排気弁（２０）が設
けられている。これらコンプレッサ（１９）の駆動と、
吸気弁（１８）及び排気弁（２０）の開放は、被乾燥物
（５）のマイクロ波による乾燥時等に行なわれ、乾燥時
等に発生する水蒸気がコンプレッサ（１９）からの空気
と共に排気弁（２０）を通って外部へ排出される。

更に、上記乾燥室（３）の右底部には排出弁（２１）が
設けられており、該排出弁は乾燥終了された被乾燥物（
５）を排出する時に開放される。斯る排出弁（２１）の
開放に基づいて排出される被乾燥物（５）は排出パイプ
（２２）を介して下方の予備室（２３）に落下して溜る
。該予備室の下部傾斜壁には保温ヒータ（２４）が配置
されており、且つ上記予備室（２３）には回転体（２５
）を有するレベルセンサ（２６）が設けられている。斯
るレベルセンサ（２６）は、通常回転体（２５）を回転
させ、予備室（２３）内に僅かな所定量の被乾燥物（５
）が溜って回転体（２５）を回転させようとするにも被
乾燥物（５）が負荷となって回転体（２５）を満足に回
転させることができない状態の時に、所定信号を出力し
、被乾燥物（５）が僅かな所定量溜っていることを検知
する。

上記予備室（２３）の下部は、予備室（２３）より高所
に位置する他の吸引ホッパ（２７）に搬送パイプ（２８
）を通して連結さバている。斯る吸引ホッパ（２７）に
も上記吸引ホッパ（７）と同様に、被乾燥物（５）の材
料径より小さいメツシュを有するフィルタ金網（２９ａ
）及びフィルタ紙（２９）が配置され、且つ該フィルタ
紙の上部に位置してポペット弁（３０）が設けられてい
る。そして、斯るポペット弁（３０）の上部において、
上記吸引ホッパ（２７）にも吸気パイプ（３１）を介し
て上記吸引ブロワ（１１）が連結されている。この場合
、ポペット弁（３０）が開放された状態でブロワ（１１
）を駆動すると、斯るブロワ（１１）の吸気作用が吸気
パイプ（３１）、吸引ホッパ（２７）を介して搬送パイ
プ（２８）まで及び、上記予備室（２３）に溜った被乾
燥物（５）が搬送パイプ（２８）を通って上記吸引ホッ
パ（２７）に至る。被乾燥物（５）は斯る吸引ホッパ（
２７）に至ると該ホッパ内に自重により落下する。そし
て、上記吸引ホッパ（２７）において、下部傾斜壁に保
温ヒータ（３２）が配置され、下端に開閉弁（３３）が
設けられており、又上、下部に上限及び下限レベルセン
サ（３４）（３５）が配置されている。上記開閉弁（３
３）の閉成において、上記吸気作用が働き上記吸引ホッ
パ（２７）内に被乾燥物（５）が落下すると吸引ホッパ
（２７）内に被乾燥物（５）が溜り、一方上記開閉弁（
３３）が開放されるとこの様に溜った被乾燥物（５）が
下方へ落下し次段処理部へ至り、斯る処理部にて乾燥さ
れた被乾燥物（５）即ち甜脂ベレットが溶融成形される
。

第３図は上記マイクロ波乾燥装置の回路を示し、主制御
部として三洋電機株式会社製の品番ＬＣ−−６５ＰＧ２
３のマイクロコンピュータ（３６）が設けられており、
該コンピュータは、乾燥装置本体（１）の前面に配設さ
れている操作部（３７）からの操作情報、上記温度セン
サ（１７）からの温度情報、上記各種レベルセンサ（１
６）（２６）（３４）（３５）からの情報等に基づいて
、上記のマグネトロン（１２）、モータ（１４）、吸気
弁（１８）、排気弁（２０）、コンプレッサ（１９）、
排出弁（２１）、保温ヒータ（２４）（３２）、吸引ブ
ロワ（１１）、ポペット弁（９）（３０）、開閉弁（３
３）を駆動制御する。

第４図は上記マイクロコンピュータ（３６）に組込まれ
た動作プログラムのフローチャートを示し、以下同チャ
ートに沿ってマイクロ波乾燥装置の動作を説明する。

電源投入後、Ｓ１ステツプを経て、通常Ｓ２、Ｓ３、Ｓ
３ａ、Ｓ４、Ｓ５の各ステップが循環実行される。Ｓ１
ステツプでは初期設定動作が行われる。即ち、マイクロ
コンピュータ（３６）内の書込み可能な全ての領域のク
リア動作がなされ、且つ、マクネトロン（１２）、モー
タ（１４）、コンプレッサ（１９）、保温し−タ（２４
）（３２）、吸引ブロワ（１１）が駆動停止状態に置か
れると共に、吸気弁（１８）、排気弁（２０）、排出弁
（２１）、ポペット弁（９）（３０）、開閉弁（３３）
が各々開成状態に置かれる。Ｓ２ステツプでは上記操作
部（３７）からの操作情報が入力され、Ｓ３ステツプで
は上記下限レベルセンサ（３５）により吸引ホッパ（２
７）に被乾燥物（５）が溜っていないか否かが判断され
、Ｓ３ａステツプでは上記レベルセンサ（２６）の検知
に基づいて予備室（２３）に被乾燥物（５）が僅かな所
定量溜っているか否かが判断される。Ｓ４ステツプでは
コンピュータ（３６）内のスタートフラグのセットの有
無が調べられ、Ｓ５ステツプではＳ２ステツプでの入力
情報に基づいて現在操作部（３７）によりスタートキー
が操作されているか否かが判断される。

而して、樹脂ベレットである被乾燥物（５）を溶融成形
するに際し、斯る成形が良好になされるように被乾燥物
（５）を事前に乾燥する場合、まず操作部（３７）にて
、２０〜６０分の範囲内及び７０〜１７０℃の範囲内で
各々所望の乾燥時間及び乾燥温度をキー操作設定し、且
つ連続スイッチ（３８）をオン操作する。これら操作情
報はＳ２ステツプで入力される。その後操作部（３７）
にてスタートキーを操作すると、同様に８２ステツプで
斯る情報が入力されて、Ｓ５ステツプで肯定判断がなさ
れ、続いてＳ６ステツプにてスタートフラグがセットさ
れ、Ｓ７ステップにて上記各保温ヒータ（２４）（３２
）の駆動制御が開始される。即ち、上記予備室（２３）
及び吸引ホッパ（２７）内が上記設定された乾燥温度に
およそ維持されるように上記各保温ヒータ（２４）（３
２）が所望比率で断続駆動され、従って予備室（２３）
及び吸引ホッパ（２７）内が上記温度で保温される。

次いでＳ８、Ｓ９、Ｓ１０の各ステップが順次実行され
る。Ｓ８ステツプではコンピュータ（３６）内の搬送フ
ラグのセットの有無が調べられる（今の場合セットされ
ていないことが調べられる）。

Ｓ９ステツプでは乾燥室（３）へ被乾燥物（５）を供給
する動作が実行される。即ち、ポペット弁（９）が開放
されて吸引ブロワ（１１）が駆動され、ブロワ（１１）
の吸気作用により貯槽（６）から乾燥室（３）内に被乾
燥物（５）が供給され、且つ、モータ（１４）が駆動さ
れて撹拌体（１５）が回動し、乾燥室（３）内に供給さ
れた被乾燥物（５）の上面が滑らかな水平面にそろえら
れる。ＳＩＯステップでは上記レベルセンサ（１６）の
検知により被乾燥物（５）の上面がこのセンサ（１６）
の位置まで至り乾燥室（３）内に被乾燥物（５）が所定
量溜ったか否かが判断される（今の場合所定量溜ってい
ないと判断される）。

その後、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ３ａ、Ｓ４、Ｓｌｌ、８８〜Ｓ
ＩＯの各ステップが循環実行される。この時Ｓｌｌステ
ップではコンピュータ（３６）内の供給終了フラグのセ
ットの有無が調べられる。そして、乾燥室（３）に被乾
燥物（５）が所定量溜り、これが８１０ステツプで判断
されると、次いでＳ１２．５１３ステツプが実行される
。Ｓ１２ステツプでは、Ｓ９ステツプで実行された被乾
燥物（５）の乾燥室（３）への供給動作が終了される。

Ｓ１３ステツプでは上記供給終了フラグがセットされる
。

その後、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ３ａ、Ｓ４．５１１、Ｓ１４〜
５１７の各ステップが循環実行される。

この時、Ｓ１４ステツプではコンピュータ（３６）内の
乾燥終了フラグのセットの有無が調べられ、Ｓ１５ステ
ツプでは乾燥動作が実行される。即ち、温度センサ（１
７）により検知された被乾燥物（５）の温度が設定され
た乾燥温度に到達したか否かによりマグネトロン（１２
）が断続駆動され、被乾燥物（５）が乾燥温度に維持さ
れてマイクロ波乾燥され、且つ、モータ（１４）が再駆
動されて撹拌体（１５）が回動され被乾燥物（５）がム
ラなく乾燥されるように撹拌されると共に、コンプレッ
サ（１９）の駆動と吸気弁（１８）、排気弁（２０）の
開放が成されて被乾燥物（５）から発生する水蒸気が外
部へ排出される。更に、Ｓ１５ステツプではこのような
乾燥動作と共に、乾燥経過時間の計時が開始される。８
１６ステツプでは斯る乾燥経過時間が設定された乾燥時
間に到達したか否かが判断され、Ｓ１７ステツプではＳ
８ステツプと同様に搬送フラグのセットの有無が調べら
れる。

而して、乾燥経過時間が設定乾燥時間に到達すると、Ｓ
１６ステツプの後５１８、Ｓ１９ステツプが実行される
。Ｓ１８ステツプでは、Ｓ１５ステツプで実行された乾
燥動作及び乾燥経過時間の計時が終了され且つ斯る計時
された時間がリセットされる。５１９ステツプでは上記
乾燥終了フラグがセットされる。

そして、５１７、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ３ａ、Ｓ４、Ｓｌｌ、
Ｓ１４ステツプを経た後、Ｓ２０、Ｓ２１．５２２、Ｓ
２３、Ｓ２４の各ステップが順次実行される。５２０ス
テツプではコンピュータ（３６）内の排出フラグのセッ
トの有無が調べられる。

５２１ステツプでは上記レベルセンサ（２６）の検知に
基づいて予備室（２３）に既に被乾燥物（５）が僅かな
所定量溜っているか否かが判断される。Ｓ２２ステツプ
では乾燥室（３）での保温動作（後述する）が行われて
いる時にはこれが終了され且つ上記排出フラグがセット
される。Ｓ２３ステツプは上記Ｓ２１ステツプにて予備
室（２３）に被乾燥物（５）が所定量溜っていないため
に乾燥室（３）から予備室（２３）へ乾燥された被乾燥
物（５）を新たに排出するのを許容した場合に実行され
るもので、斯かるＳ２３ステツプでは乾燥された被乾燥
物（５）を乾燥室（３）から予備室（２３）へ排出する
動作が実行される。即ち、上記排出弁（２１）が開放さ
れると共に上記モータ（１４）が引続いて駆動されて撹
拌体（１５）が回動され、この撹拌体（１５）の回動に
伴って撹拌体（１５）近辺の被乾燥物（５）が周囲に押
しやられ、被乾燥物（５）が排出弁（２１）から排出パ
イプ（２２）を介して予備室（２３）へ落下排出される
。このように排出された被乾燥物（５）は、予備室（２
３）が上記Ｓ７ステップから保温されていることにより
、自然冷却することがなく、自然冷却に伴って被乾燥物
（５）が再び吸湿してしまうことが防止される。又、上
記Ｓ２３ステツプでは斯る排出の経過時間の計時が開始
される。Ｓ２４ステツプでは、斯る排出経過時間が予め
決められている排出時間（これは乾燥室（３）に溜めら
れた所定量の被乾燥物（５）を全て排出するのに充分な
時間である）に到達したか否かが判断される。

その後、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ３ａ、Ｓ４、Ｓｌｌ、５１４．
５２０、Ｓ２３、Ｓ２４、Ｓ１７の各ステップが循環実
行され、そして上記排出に伴って予備室（２３）に僅か
な所定量の被乾燥物（５）が溜ると、斯る循環において
Ｓ３ａステツプからＳ２５、Ｓ２６、Ｓ２７、Ｓ２８の
各ステップが順次実行される。Ｓ２５ステツプでは搬送
フラグがセットされ、Ｓ２６スツプでは、上記Ｓ９ステ
ツプにより被乾燥物供給動作が実行されている場合に斯
る動作が停止される。Ｓ２７ステツプでは保温されてい
る上記予備室（２３）から上記吸引ホッパ（２７）へ乾
燥された被乾燥物（５）を搬送する動作が実行される。

即ち、ポペット弁（３０）が開放されて吸引ブロワ（１
１）が駆動され、ブロワ（１１）の吸気作用により予備
室（２３）から吸引ホッパ（２７）へ被乾燥物（５）が
搬送される。このように搬送された被乾燥物（５）は、
吸引ホッパ（２７）が上記Ｓ７ステップから保温されて
いることにより、自然冷却することがなく、被乾燥物が
再び吸湿してしまうことが防止される。５２８ステツプ
では、上記上限レベルセンサ（３４）の検知により吸引
ホッパ（２７）に被乾燥物（５）が斯るセンサの位置ま
で溜ったか否かが判断される（今の場合、否と判断され
る）。その後、Ｓ４、Ｓ１１．５１４．５２０、Ｓ２３
、Ｓ２４．５１７、Ｓ２７、Ｓ２８の各ステップが循環
実行され、この間、予備室（２３）への排出動作と吸引
ホッパ（２７）への搬送動作とが並行処理され、予備室
（２３）へ排出された被乾燥物（５）は直ちに吸引ホッ
パ（２７）へ搬送される。

そして、排出経過時間が予め決められている徘出時間に
到達すると（乾燥室（３）から予備室（２３）へ被乾燥
物（５）が全て排出される）、続いてＳ２９、Ｓ３０、
Ｓ３１の各ステップが順次実行される。Ｓ２９ステツプ
では、Ｓ２３ステツプで実行された排出動作及び排出経
過時間の計時が終了され且つ斯る計時された時間がリセ
ットされる。Ｓ３０ステツプでは、上記の供給終了フラ
グ、乾燥終了フラグ、排出フラグの全てがリセットされ
る。５３１ステツプでは操作部（３７）で連続スイッチ
（３８）がオンされているか否がが判断される。

今の場合、連続スイッチ（３８）はオン状態にあり、そ
の後Ｓ１７ステツプを経てがらＳ４、Ｓ１１、Ｓ８、Ｓ
２７．５２８の各ステップが循環実行される。そして、
予備室（２３）内の被乾燥物（５）の搬送がなされて、
吸引ホッパ（２７）に上限レベルセンサ（３４）の位置
まで被乾燥物（５）が溜ると、Ｓ２８ステツプから５３
２、Ｓ３３ステツプが実行される。Ｓ３２ステツプでは
上記Ｓ２７ステツプで実行されている搬送動作が停止さ
れ、Ｓ３３ステツプでは搬送フラグがリセットされる。

而して、このように吸引ホッパ（２７）に溜った被乾燥
物（５）は、次段処理部で溶融成形されるのであるが、
これは、吸引ホッパ（２７）内に上限レベルセンサ（３
４）の位置まで被乾燥物（５）が溜っている状態で溶融
成形を指令するための外部指令信号Ｐがコンピュータ（
３６）内に与えられたときに実行される。即ち、この時
、コンピュータ（３６）により上記開閉弁（３３）が開
放され、被乾燥物（５）が吸引ホッパ（２７）から次段
処理部へ放出される。上記開閉弁（３３）は吸引ホッパ
（２７）内の被乾燥物（５）が全て放出された頃に再び
閉じられる。そして、上記放出された被乾燥物（５）は
次段処理部で溶融成形されるのであり、この場合樹脂ペ
レット即ち被乾燥物（５）は事前に乾燥されているため
成形が良好になされる。

ここで、上記溶融成形するための上記次段処理部の処理
能力が遅い場合、上記被乾燥物供給動作から搬送動作ま
でが繰返し行われるために、上記吸引ホッパ（２７）及
び予備室（２３）に被乾燥物（５）が溜ったままとなる
。而して、予備室（２３）に被乾燥物（５）が溜った状
態で、更に乾燥室（３）から被乾燥物（５）が排出され
ようとすると、これはＳ２１ステツプで判断され、即ち
予備室（２３）に被乾燥物（５）が所定量以上溜ってい
て乾燥室（３）から予備室（２３）へ被乾燥物（５）を
新たに排出するのを許容しないことが判断される。する
と、乾燥された被乾燥物（５）は乾燥後もそのまま乾燥
室（３）内に放置される。斯る放置が単に行なわれると
、被乾燥物（５）は折角乾燥されても自然冷却されて再
び吸湿するのであるが、本発明実施例ではこれを防ぐべ
くこの時Ｓ３４ステツプが実行される。即ち、斯るＳ３
４ステツプでは、Ｓ１５ステツプでの乾燥動作と全く同
一の制御がなされ被乾燥物（５）がマイクロ波で設定乾
燥温度に保温され、従って被乾燥物（５）が乾燥室（３
）で再び吸湿するのが防止される。

上記一連の動作は連続スイッチ（３８）をオフすること
により終了される。即ち、斯るオフ時にて８３１ステツ
プが実行されると、次いでＳ３５ステツプが実行され、
上記スタートフラグがリセットされると共に上記各保温
ヒータ（２４）（３２）が駆動停止される。その後Ｓ２
、Ｓ３、Ｓ３ａ、Ｓ４、Ｓ５ステツプが循環実行される
。

（ト）発明の効果 本発明によれば、被乾燥物を貯留する貯留部が乾燥室よ
り下方にあっても、被乾燥物は吸引手段の駆動により吸
引でき乾燥室内へ供給できる。

更に、斯る吸引のために設けられている吸引室はマイク
ロ波遮断パイプを介して乾燥室に連結されているため、
吸引室の方へマイクロ波が漏洩するのを防止でき、安全
である。

更に、上記吸引室には、フィルタが設けられているため
、吸引室まで被乾燥物が吸引されても、そこから先へ被
乾燥物が不所望に吸引されるのを防止できる。

更に、上記フィルタは着脱自在であるため汚れた場合等
に簡単に掃除できると共に、上記フィルタは吸引室にあ
ってマイクロ波が漏洩しないところにあるためフィルタ
を金網で構成することができる。

このように、本発明によれば、種々の効果を奏する極め
て実用的なマイクロ波乾燥装置を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の実施例を示し、第１図は断面図、第２図
は要部分解斜視図、第３図は回路図、第４図はマイクロ
コンピュータの動作プログラムのフローチャートである
。 （３）・・・乾燥室、（４）・・・供給パイプ、（６）
・・・貯槽、（７）・・・吸引ホッパ、（７ａ）・・・
マイクロ波遮断パイプ、（８ａ）・・・フィルタ金網、
（８）・・・フィルタ紙、（１１）・・・四及引ブロワ
、（１２）・・・マグネトロン。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）乾燥室と、該乾燥室にマイクロ波乾燥を行なうた
   めのマイクロ波を供給するマイクロ波供給手段と、粒状
   または粉状被乾燥物を貯留する貯留部と、該貯留部と上
   記乾燥室とを連結した被乾燥物供給パイプと、上記乾燥
   室にマイクロ波遮断パイプを介して連結された吸引室と
   、該吸引室内に着脱自在に配置されたフィルタと、上記
   吸引室、マイクロ波遮断パイプ、乾燥室、供給パイプを
   介して上記貯留部内の被乾燥物を吸引し、該被乾燥物を
   上記乾燥室内へ供給せしめる吸引手段とを備えたことを
   特徴とするマイクロ波乾燥装置。