JPH0222711B2 - - Google Patents

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JPH0222711B2
JPH0222711B2 JP19596684A JP19596684A JPH0222711B2 JP H0222711 B2 JPH0222711 B2 JP H0222711B2 JP 19596684 A JP19596684 A JP 19596684A JP 19596684 A JP19596684 A JP 19596684A JP H0222711 B2 JPH0222711 B2 JP H0222711B2
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JP
Japan
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coating
electron beam
layer
multilayer
coating film
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JP19596684A
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JPS6174675A (ja
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Nagayoshi Kaneko
Yasuto Naruse
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕 本発明は多層塗膜の形成方法に関し、更に詳し
くは連続走行する長尺可撓性帯状物(以下、「ウ
エヴ」と称する。)に2層以上の非水系塗布液を
重層塗布し、層間相互の拡散混合をおこさないよ
うに塗膜を形成する方法に関する。 〔従来技術〕 従来、水溶液系においてはスライドホツパ型塗
布装置あるいはエクストルージヨンホツパ型塗布
装置等を用いてゼラチンをバインダーとするハロ
ゲン化銀乳剤を同時多層塗布しその後冷却し、あ
るいは冷風によつてゼラチンのゾル−ゲル変換特
性を利用し多層膜をゲル化させ、数万〜数十万
CPSの超高粘状態にし、層間の混合がおこりにく
い状態にして、熱風乾燥等により、塗膜を形成す
る方法が知られている。 一方、有機溶剤系において単に多層塗布し乾燥
した場合には、水系に比して低表面張力のため乾
燥部だけでなくビード部及び塗布乾燥間でも拡散
混合がおこりやすく、更にゾル−ゲル変換工程が
ないため乾燥時に拡散混合がおこり、各層が分離
した状態での塗膜を得ることは極めて難しい。 また、有機溶剤系においては、広範な溶剤で用
いられる良好なゾル−ゲル変換物質はなく、また
他に有効な方法も発明されておらず、有機溶剤系
の多層塗膜は1層ずつ逐次塗布し乾燥する方法が
とられている。 逐次塗布乾燥方式としては1回の塗布乾燥ごと
に巻き取る方法、あるいは複数の塗布乾燥部を設
けて連続して塗布乾燥する方法等があるが、前者
の方法では多大な製造時間がかかり従つて多大な
製造コストがかかり、後者の方法では層の数だけ
塗布部及び乾燥部が必要となり、極めて高価な製
造設備を必要とし、多大な製造コストがかかる。 ところで近年、電子線照射による塗膜の硬化現
象を利用したいくつかの塗膜形成方法が提案され
ている。特公昭54−19894号公報、特開昭56−
38160号公報は一層の塗膜についての上記方法で
あり、特公昭53−16403号公報、特開昭58−24384
号公報は多層の塗膜についての上記方法である
が、多層といえども逐次に塗膜を施し、逐次に活
性線を照射するものであるから、前述の諸問題を
根本的に解決し得るものではない。 〔発明の目的〕 本発明の目的は、かかる従来方式の高コスト
な、非水系の多層塗膜形成法に比し、極めて低コ
ストの塗膜形成方法を提供することにある。 本発明の他の目的は、いかなる粘度の塗布液に
ついても塗膜形成の可能な非水系の多層塗膜形成
方法を提供することにある。 〔発明の構成〕 本発明の上記目的は、連続走行する可撓性支持
体に、2種以上の非水系塗布液を同時重層塗布し
て多層塗膜を形成する方法において、2種以上の
非水系塗布液の少なくとも1種に電子線硬化性化
合物を含有させ、該2種以上の非水系塗布液を同
時重層塗布後、50Mrad/秒以下の照射速度で電
子線を照射して塗布層を硬化あるいは増粘させ、
次いで乾燥することを特徴とする多層塗膜の形成
方法により達成される。 本発明において非水系塗布液に含有させること
ができる電子線硬化性化合物としては、電子線照
射により硬化する公知の種々の化合物を使用する
ことができる。これらの化合物のうち、特に好ま
しい化合物は、電子線による重合が可能な不飽和
結合またはエポキシ基を有する化合物、たとえ
ば、ビニルないしビニリデン炭素−炭素二重結合
やエポキシ基を1個、好ましくは2個以上有する
化合物、アクリロイル基、アクリルアミド基、ア
リル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル
基等を含む化合物及び不飽和ポリエステル、エポ
キシ樹脂等の化合物である。 特に好ましい化合物は、上記の不飽和結合を有
する化合物であつて、アクリロイル、メタクリロ
イル基を直鎖の両未端に有する化合物であり、こ
れらはA.Vrancken“Fatipec Congreess”11 19
(1972)に引用されている。例えば、 であり、例示した化合物のポリエステル骨格がポ
リウレタン骨格、エポキシ樹脂の骨格、ポリエー
テル骨格、ポリカボネート骨格であつてもあるい
はこれらの混合された骨格でもよい。また例示し
た化合物の末端がメタクリロイル基でもよい。分
子量は約500〜20000が好ましい。 これらの化合物のうち、市販されているものと
しては、東亜合成製アロニクスM6100、M7100な
どがある。 更に、炭素−炭素不飽和結合を分子内に有する
モノマーも好ましい。かかるモノマーとしては、
例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン
酸、アクリル酸メチル及びその同族体であるアク
リル酸アルキルエステル、メタクリル酸メチル及
びその同族体であるメタクリル酸アルキルエステ
ル、スチレン及びその同族体であるα−メチルス
チレン、β−クロルスチレンなど、アクリロニト
リル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メ
タクリルアミド、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニ
ルなどが挙げられる。分子内に不飽和結合が2個
以上あつてもよい。このような化合物の例として
は「感光性樹脂データー集」(株)綜合化学研究所昭
和43年12月刊行235〜236頁に掲載されている化合
物が挙げられる。特に、ポリオールの不飽和エス
テル類、例えば2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、エチ
レングリコールジアクリレート、ブトキシエチル
アクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリ
レート、1,6−ヘキサンジオールアクリレー
ト、ステアリルアクリレート、2−エチルヘキシ
ルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタク
リレート、ジエチレングリコールジアクリレー
ト、ジエチレングリコールジメタクリレート、テ
トラエチレングリコールジアクリレート、ネオペ
ンチルグリコールジメタクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート、グリセロールトリ
メタクリレート、トリメチロールプロパントリア
クリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、エチレングリコールジメタクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレートなど、及
びエポキシ環を有するグリシジルメタクリレート
などが好ましい。 本発明に使用される可撓性支持体としては、
紙、プラスチツクフイルム、金属、レジンコーテ
イツド紙、合成紙等が包含される。プラスチツク
フイルムの材質は、たとえば、ポリエチレン、ポ
リプロピレン等のポリオレフイン、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン等のビニル重
合体、6,6−ナイロン、6−ナイロン等のポリ
アミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチ
レン−2,6−ナフタレート等のポリエステル、
ポリカーボネート、セルローストリアセテート、
セルロースダイアセテート等のセルロースアセテ
ート等が使用される。またレジンコーテイツド紙
に用いる樹脂としては、ポリエチレンをはじめと
するポリオレフインが代表的であるが、必ずしも
これに限定されるものではない。 本発明は、2種以上の非水系塗布液のうち、少
なくとも1種に電子線硬化性化合物を含有させ、
塗布液を重層塗布後、照射速度50Mrad/秒以下
で電子線を照射することを特徴とするものであ
る。電子線照射速度とは、単位時間当り、被照射
物が受ける電子線照射量を意味し、照射速度ある
いは線量率ともいう。 電子線照射速度が50Mrad/秒より大きくなる
と、電子線硬化性化合物含有層の硬化または増粘
化が遅くなり、あるいは起こらなくなり、多層の
塗布層間の拡散混合が生じ、所期の塗膜が形成さ
れなくなる。 本発明方法は、第1図に示すような装置を用い
て実施することができる。しかし本発明は、この
ようなエクストルージヨンビート塗布に限られる
ことはなく、スライドビード塗布、ホツパースラ
イド塗布、カーテン塗布等によつて行うことも可
能である。 第1図において図示していない液槽より、定量
送液ポンプP1,P2又はP1,P2,P3等により2種
以上の非水系の塗布液が、塗布ヘツド1に供給さ
れ、エクストルージヨンビード部2にて連続走行
するウエブ3に塗布される。5は塗布部バツキン
グロール、6,7,8,9,10はパスロールで
ある。又、4は減圧室であり図示していない真空
ポンプ等により減圧状態とすることにより、ビー
ドの安定を図る。11は電子線照射装置、12は
乾燥装置である。 本発明では、2種以上の非水系塗布液のうち少
なくとも1種は、電子線硬化性化合物を含有して
いる。その含有量は、特に制限はないが、一般
に、塗布液の固形分を基準として、2〜30重量%
程度が適当である。また、本発明に使用される塗
布液の粘度は、特に制限されない。 エクストルージヨンビード部2で同時重層塗布
された多層の塗布層に、電子線照射装置11にお
いて電子線照射を行うと、電子線硬化性化合物を
含有する層が硬化あるいは増粘化され、多層の塗
布層間の拡散混合が抑圧され、次いで乾燥装置1
2で乾燥されて、所期の多層塗膜が形成される。 本発明方法は、可撓性支持体上に少なくとも2
層の非水系塗布層を有する多層塗膜材料の製造に
利用される。このような多層塗膜材料としては、
これらに限定されるものではないが、種々の多層
写真材料、多層分析材料などがある。たとえば、 本発明方法により製造するのに適した、非水系
塗布層を少なくとも2層有し、そのうち少なくと
も1層が感光層である平版印刷版用感光材料の具
体例としては、特開昭50−11022号公報、特公昭
56−34858号公報に記載されているo−キノンジ
アジド感光層と樹脂層を有するもの、特開昭56−
126836号公報に記載されているo−キノンジアジ
ド感光層を2層有するもの、特開昭51−43125号
公報に記載されているo−キノンジアジド感光層
とアジド化合物感光層を有するもの、特公昭37−
11558号公報に記載されている感光材料層と有機
樹脂層を有するもの、特開昭57−90648号公報に
記載されているo−キノンジアジド感光層と電子
写真感光層を有するものなどが挙げられる。 実施例 1 第1図に示す装置にて、第1表に示す組成及び
物性の塗布液を、1500mm巾180μm厚のポリエチ
レンテレフタレートフイルムに上層25c.c./m2、下
層15c.c./m2の塗布量で重層塗布し、塗布後、1秒
経過点で、加速電圧250kV、照射量4Mrad、照射
速度30Mrad/秒となるよう電子線照射装置11
において電子線照射を行なつた後、乾燥装置12
にて、90℃で加熱乾燥した。 比較例 1 実施例1において、電子線照射速度を
75Mrad/秒としたほかは、全く同様の操作を行
つた。 実施例1及び比較例1で得られた乾膜をESCA
(Electron Spectroscopy for Chemical
Analysis)を用いて、膜を削りながら上層中に
検出されるクレゾール樹脂中の塩素を分析した。
その検出量の分布を第2図に示す。第2図におい
て、実線は実施例1のサンプル測定結果、点線は
比較例1のサンプル測定結果を示す。この結果よ
り、実施例1では、電子線照射速度が50Mrad/
秒以下であつたために、得られたサンプルは第2
図実線の如く、クレゾール樹脂が偏存したままで
あつたことが判明し、比較例1では、電子線照射
速度が50Mrad/秒を超えていたために、得られ
たサンプルは点線の如く、拡散混合により、クレ
ゾール樹脂が、全層に亘つて分布したことが判明
した。
【表】 実施例 2 第1図に示す装置にて、第2表に示す組成及び
物性の塗布液を1200mm巾、180μm厚のポリエチ
レンテレフタレートフイルムに最上層・中間層・
最下層の塗布量がそれぞれ15c.c./m2、15c.c./m2
5c.c./m2となるように重層塗布し、塗布後3秒経
過点で加速電圧200kV、照射量3Mrad、照射速度
20Mrad/秒となるよう電子線照射装置11にお
いて電子線照射を行なつた後、乾燥装置12に
て、加熱乾燥した。 比較例 2 実施例2において、電子線照射速度を
60Mrad/秒としたほかは、全く同様の操作を行
つた。 実施例2及び比較例2で得られた乾膜の層内の
クレゾール樹脂と顔料の分布を、ESCAを用い
て、それぞれの分子中の塩素と銅について検出し
た。実施例2で得られたサンプルの分析結果を第
3図実線で、また、比較例2で得られたサンプル
の分析結果を第3図点線でそれぞれ示す。
〔発明の効果〕
本発明によれば、上記実施例で確認された如
く、非水系塗布液の多層塗布において、層間の拡
散混合が抑制されて多層塗膜が、形成されるの
で、工程が簡素化され、コストが低減する。更
に、本発明によれば、塗布液の粘度に対する制約
がなく、いかなる粘度の非水系塗布液であつて
も、多層塗膜の形成が可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る塗膜の形成方法を実施す
るための装置の側断面図、第2図及び第3図は、
本発明の効果を示す特性図である。 1……塗布ヘツド、2……エクストルージヨン
ビード部、3……ウエブ、11……電子線照射装
置、12……乾燥装置。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 連続走行する可撓性支持体に、2種以上の非
    水系塗布液を同時重層塗布して多層塗膜を形成す
    る方法において、2種以上の非水系塗布液の少な
    くとも1種に電子線硬化性化合物を含有させ、該
    2種以上の非水系塗布液を同時重層塗布後、
    50Mrad/秒以下の照射速度で電子線を照射して
    塗布層を硬化あるいは増粘させ、次いで乾燥する
    ことを特徴とする多層塗膜の形成方法。
JP19596684A 1984-06-18 1984-09-19 多層塗膜の形成方法 Granted JPS6174675A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19596684A JPS6174675A (ja) 1984-09-19 1984-09-19 多層塗膜の形成方法
EP85107273A EP0168636A3 (en) 1984-06-18 1985-06-12 Method for making multilayer coating
US06/745,132 US4647475A (en) 1984-06-18 1985-06-17 Method for making multilayer light sensitive electron radiation cured coating
CA000484391A CA1262109A (en) 1984-06-18 1985-06-18 Method for making multilayer coating

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JPS6174675A JPS6174675A (ja) 1986-04-16
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