JPH02226058A - 蛍光x線分析装置 - Google Patents
蛍光x線分析装置Info
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- JPH02226058A JPH02226058A JP4815689A JP4815689A JPH02226058A JP H02226058 A JPH02226058 A JP H02226058A JP 4815689 A JP4815689 A JP 4815689A JP 4815689 A JP4815689 A JP 4815689A JP H02226058 A JPH02226058 A JP H02226058A
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- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims abstract description 19
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 4
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 abstract description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 description 2
- 239000012491 analyte Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(イ)産業上の利用分野
本発明は、蛍光X線分析装置に係り、特にはX線検出器
の不感時間に起因するX線強度のカウント値の損失を補
正する手段の改良に関する。
の不感時間に起因するX線強度のカウント値の損失を補
正する手段の改良に関する。
(ロ)従来の技術
従来の蛍光X線分析装置には、第2図に示す構成のもの
がある。この蛍光X線分析装置では、図外の試料から励
起されて放射される蛍光X線を分光結晶(図示省略)で
分光し、分光された特定波長のX線を比例計数管等のX
線検出器aで検出する。
がある。この蛍光X線分析装置では、図外の試料から励
起されて放射される蛍光X線を分光結晶(図示省略)で
分光し、分光された特定波長のX線を比例計数管等のX
線検出器aで検出する。
この場合、分析試料中にたとえばPとCuとが共存して
いるときには、PKα線と、CuKαの高次線(4次線
)の波長か互いに近似しているために、Pを分析したい
場合でも、その共存元素のCuの高次線ら同時にX線検
出器aに検出されて分析精度の低下をもたらす。したが
って、このような妨害元素(この例ではCu)の影響を
除くために、X線検出器aからの検出パルスを増幅器す
で増幅した後、波高分析器(PHA)eを通してエネル
ギー選別を行う。すなわち、第3図に示すように、PK
αとCuKαの高次線とではエネルギーレベルが異なる
ので、波高分析器Cでチャンネル幅Wを適宜設定するこ
とにより妨害元素を除いた検出パルスのみをaiI!J
させる。そして、波高分析器Cを通過した検出パルスを
スケーラdでタイマーeで設定された単位時間にわたっ
てカウントして計数率(cps)を求める。
いるときには、PKα線と、CuKαの高次線(4次線
)の波長か互いに近似しているために、Pを分析したい
場合でも、その共存元素のCuの高次線ら同時にX線検
出器aに検出されて分析精度の低下をもたらす。したが
って、このような妨害元素(この例ではCu)の影響を
除くために、X線検出器aからの検出パルスを増幅器す
で増幅した後、波高分析器(PHA)eを通してエネル
ギー選別を行う。すなわち、第3図に示すように、PK
αとCuKαの高次線とではエネルギーレベルが異なる
ので、波高分析器Cでチャンネル幅Wを適宜設定するこ
とにより妨害元素を除いた検出パルスのみをaiI!J
させる。そして、波高分析器Cを通過した検出パルスを
スケーラdでタイマーeで設定された単位時間にわたっ
てカウントして計数率(cps)を求める。
一方、X線検出aaには、その特性上、到来するXgA
を分離して検出できない、いわゆる不感時間τが存在す
る。この不感時間τのために、X線検出器aに実際に到
来するX線の強度値に比べて、スケーラdで得られる計
数率が小さくなる。そして、第4図に示すように、この
不感時間に起因する計数率の損失δは、X線強度が大き
くなる程Iこ顕著となる。したがって、正確なX線強度
を測定するためには、計数率を補正する必要がある。そ
のため、スケーラdで得られたカウント値nと予め設定
したX線検出器aの不感時間τの値をそれぞれ次段の演
算器「に与えて補正を行う。この場合の補正は、従来、
次式に基づいて行われている。
を分離して検出できない、いわゆる不感時間τが存在す
る。この不感時間τのために、X線検出器aに実際に到
来するX線の強度値に比べて、スケーラdで得られる計
数率が小さくなる。そして、第4図に示すように、この
不感時間に起因する計数率の損失δは、X線強度が大き
くなる程Iこ顕著となる。したがって、正確なX線強度
を測定するためには、計数率を補正する必要がある。そ
のため、スケーラdで得られたカウント値nと予め設定
したX線検出器aの不感時間τの値をそれぞれ次段の演
算器「に与えて補正を行う。この場合の補正は、従来、
次式に基づいて行われている。
n、−n/(1−n−c ) (1)こ
こに、noは補正後の計数率(cps)、nはスケーラ
で計測される計数率(cps)、τはX線検出器に一つ
のX線光量子が入射した場合に発生する不感時間(se
C)である。
こに、noは補正後の計数率(cps)、nはスケーラ
で計測される計数率(cps)、τはX線検出器に一つ
のX線光量子が入射した場合に発生する不感時間(se
C)である。
(ハ)発明が解決しようとする課題
ところで、第2図に示す構成の蛍光X線分析装置におい
て、X線検出器aには、分析元素のX線(たとえばP)
とともに、共存元素の高次線(たとえばCuの4次線)
も同時にX線検出器aに検出される場合があるので、X
線検出器aは、実際には共存元素の高次線の影響を含め
た不感時間が存在する。
て、X線検出器aには、分析元素のX線(たとえばP)
とともに、共存元素の高次線(たとえばCuの4次線)
も同時にX線検出器aに検出される場合があるので、X
線検出器aは、実際には共存元素の高次線の影響を含め
た不感時間が存在する。
一方、波高分析器Cでは、共存元素の高次線に基づく検
出パルスを除いているので、次段のスケーラdでは波高
分析器Cを通った検出パルスのみがカウントされる。し
たがって、スケーラdで計測された計数率nを補正する
場合、本来、高次線の影響ら含まれるので、不感時間の
総量はn・τではなく、それよりも大きい値となるはず
である。ところが、従来は、(1)式に基づいて計数率
nを補正しているために、共存元素の高次線が同時に検
出される場合には、補正された計数率の値が不正確にな
るという問題があった。
出パルスを除いているので、次段のスケーラdでは波高
分析器Cを通った検出パルスのみがカウントされる。し
たがって、スケーラdで計測された計数率nを補正する
場合、本来、高次線の影響ら含まれるので、不感時間の
総量はn・τではなく、それよりも大きい値となるはず
である。ところが、従来は、(1)式に基づいて計数率
nを補正しているために、共存元素の高次線が同時に検
出される場合には、補正された計数率の値が不正確にな
るという問題があった。
(ニ)課題を解決するための手段
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであっ
て、分析元素のX線とともに、共存元素の高次線も同時
に検出されるような場合においても、正確に補正された
計数率が得られるようにして、定量分析等における分析
精度を高めることを目的とする。
て、分析元素のX線とともに、共存元素の高次線も同時
に検出されるような場合においても、正確に補正された
計数率が得られるようにして、定量分析等における分析
精度を高めることを目的とする。
本発明は、上記の目的を達成するために、X線検出器か
ら出力される検出パルスの波高値が分析元素に応じて予
め設定された上限値以上のものを選別する上限値選別回
路と、前記検出パルスの波高値が分析元素に応じて予め
設定された下限値以上のものを選別する下限値選別回路
と、上限値選別回路の選別出力をカウントする上限カウ
ンタと、下限値選別回路の選別出力をカウントする下限
カウンタと、この両カウンタの各カウント値n+、 n
lの差n+z(=n+ nt)を算出する減算器と、
下限カウンタのカウント値n1と減算器の減算値nlt
ならびに予め設定されたX線検出器の不感時間τの3値
から式、no−n12/ (i rll・r )に基
づいて真のカウント値n0を算出する演算器とを備えた
構成とした。
ら出力される検出パルスの波高値が分析元素に応じて予
め設定された上限値以上のものを選別する上限値選別回
路と、前記検出パルスの波高値が分析元素に応じて予め
設定された下限値以上のものを選別する下限値選別回路
と、上限値選別回路の選別出力をカウントする上限カウ
ンタと、下限値選別回路の選別出力をカウントする下限
カウンタと、この両カウンタの各カウント値n+、 n
lの差n+z(=n+ nt)を算出する減算器と、
下限カウンタのカウント値n1と減算器の減算値nlt
ならびに予め設定されたX線検出器の不感時間τの3値
から式、no−n12/ (i rll・r )に基
づいて真のカウント値n0を算出する演算器とを備えた
構成とした。
(ホ)作用
上記構成において、X線検出器から出力される検出パル
スは、上限値選別回路と下限値選別回路とにそれぞれ入
力される。上限値選別回路は、検出パルスの波高値が分
析元素に応じて予め設定された上限値以上のものを選別
する。また、下限値選別回路は、検出パルスの波高値が
分析元素に応じて予め設定された下限値以上のものを選
別する。
スは、上限値選別回路と下限値選別回路とにそれぞれ入
力される。上限値選別回路は、検出パルスの波高値が分
析元素に応じて予め設定された上限値以上のものを選別
する。また、下限値選別回路は、検出パルスの波高値が
分析元素に応じて予め設定された下限値以上のものを選
別する。
そして、各選別回路で選別された検出パルスは、上限カ
ウンタと下限カウンタでそれぞれ個別にカウントされる
。次いで、両カウンタの各カウント値nいn、の差n+
m(−〇+ nl)が減算器で算出される。さらに、
引き続いて、演算器は、下限カウンタのカウント値n1
と減算器の減算値11+1ならびに予め設定された不感
時間τの6値から式、+10=n11/(1−rtl・
τ)に基づいてカウント値n0を算出する。上式におい
て、分子のれ、*は波高分析された後のカウント値であ
り、分母のnlは分析元素とともに、共存元素の高次線
の影響を含めたカウント値であるから、不感時間に応じ
た補正がより正確に行えることになる。
ウンタと下限カウンタでそれぞれ個別にカウントされる
。次いで、両カウンタの各カウント値nいn、の差n+
m(−〇+ nl)が減算器で算出される。さらに、
引き続いて、演算器は、下限カウンタのカウント値n1
と減算器の減算値11+1ならびに予め設定された不感
時間τの6値から式、+10=n11/(1−rtl・
τ)に基づいてカウント値n0を算出する。上式におい
て、分子のれ、*は波高分析された後のカウント値であ
り、分母のnlは分析元素とともに、共存元素の高次線
の影響を含めたカウント値であるから、不感時間に応じ
た補正がより正確に行えることになる。
(へ)実施例
第1図は本発明の実施例に係る蛍光X線分析装置の構成
図である。同図において、lは蛍光X線分析装置の全体
を示し、2は比例計数管等のX線検出器、4はX線検出
器2からの検出パルスを増幅する増幅器である。
図である。同図において、lは蛍光X線分析装置の全体
を示し、2は比例計数管等のX線検出器、4はX線検出
器2からの検出パルスを増幅する増幅器である。
6aは検出パルスの波高値が分析元素に応じて予め設定
された上限値Vt以上のもの(第3図参照)を選別する
上限値選別回路(本例ではコンパレータ)、6bは検出
パルスの波高値が分析元素に応じて予め設定された下限
値71以上のもの(第3図参照)を選別する下限値選別
回路(本例ではコンパレータ)、8aは上限値選別回路
6aの選別出力をカウントする上限カウンタ、8bは下
限値選別回路6bの選別出力をカウントする下限カウン
タである。また、10は両カウンタ8a、8bの各カウ
ント値n1、n、の差n+tc=n+ nt)を算出
する減算器、12は下限カウンタ8bのカウント値I’
llと減算器IOの減算値Lxならびに予め設定器14
で設定されるX線検出器2の不感時間τの6値から、式
%式%(2) に基づいて真のカウント値n0を算出する演算器である
。I6は上限、下限カウンタ8a18bのカウント動作
時間tを設定するとともに、減算器101演算器12の
動作タイミングを設定するためのタイマーである。
された上限値Vt以上のもの(第3図参照)を選別する
上限値選別回路(本例ではコンパレータ)、6bは検出
パルスの波高値が分析元素に応じて予め設定された下限
値71以上のもの(第3図参照)を選別する下限値選別
回路(本例ではコンパレータ)、8aは上限値選別回路
6aの選別出力をカウントする上限カウンタ、8bは下
限値選別回路6bの選別出力をカウントする下限カウン
タである。また、10は両カウンタ8a、8bの各カウ
ント値n1、n、の差n+tc=n+ nt)を算出
する減算器、12は下限カウンタ8bのカウント値I’
llと減算器IOの減算値Lxならびに予め設定器14
で設定されるX線検出器2の不感時間τの6値から、式
%式%(2) に基づいて真のカウント値n0を算出する演算器である
。I6は上限、下限カウンタ8a18bのカウント動作
時間tを設定するとともに、減算器101演算器12の
動作タイミングを設定するためのタイマーである。
次に、上記構成の蛍光X線分析装置lにおいて、蛍光X
線の強度を測定する場合の動作lこついて説明する。な
お、ここでは試料中の分析対象元素をPとし、その妨害
元素となるCuか共存するものとする。
線の強度を測定する場合の動作lこついて説明する。な
お、ここでは試料中の分析対象元素をPとし、その妨害
元素となるCuか共存するものとする。
図外の試料から励起されて放射される蛍光X線は分光結
晶(図示省略)で分光され、分光された特定波長のX
!I 7>(X m検出器2で検出される。この場合、
分計試料中にP以外にCuも共存しているので、PKα
線とともに、CuKαの高次線(4次線)も同時にX線
検出器2で検出される。そして、X線検出器2から出力
される検出パルスは、増幅器4を介して上限値選別回路
6aと下限値選別回路6bとにそれぞれ入力される。上
限値選別回路6aは、検出パルスの波高値(電圧レベル
)が分析元素に応じて予め設定された上限値V!以上の
ものを選別する。また、下限値選別回路6bは、検出パ
ルスの波高値が分析元素に応じて予め設定された下限値
V4以上のらのを選別する。そして、各選別回路6a、
6bで選別された検出パルスは、タイマー16からのカ
ウント許可信号の出力期間中、上限カウンタ8aと下限
カウンタ8bでそれぞれ個別にカウントされる。したが
って、本例においては、上限カウンタ8aでCuKαの
高次線に基づく検出パルスのみがカウントされる一方、
下限カウンタ8bでは、PKαのみならずCuKαの高
次線に基づく検出パルスがいずれもカウントされること
?こなる。
晶(図示省略)で分光され、分光された特定波長のX
!I 7>(X m検出器2で検出される。この場合、
分計試料中にP以外にCuも共存しているので、PKα
線とともに、CuKαの高次線(4次線)も同時にX線
検出器2で検出される。そして、X線検出器2から出力
される検出パルスは、増幅器4を介して上限値選別回路
6aと下限値選別回路6bとにそれぞれ入力される。上
限値選別回路6aは、検出パルスの波高値(電圧レベル
)が分析元素に応じて予め設定された上限値V!以上の
ものを選別する。また、下限値選別回路6bは、検出パ
ルスの波高値が分析元素に応じて予め設定された下限値
V4以上のらのを選別する。そして、各選別回路6a、
6bで選別された検出パルスは、タイマー16からのカ
ウント許可信号の出力期間中、上限カウンタ8aと下限
カウンタ8bでそれぞれ個別にカウントされる。したが
って、本例においては、上限カウンタ8aでCuKαの
高次線に基づく検出パルスのみがカウントされる一方、
下限カウンタ8bでは、PKαのみならずCuKαの高
次線に基づく検出パルスがいずれもカウントされること
?こなる。
タイマーI6が単位時間のg:過後にタイムアツプする
と、このタイミングに応じて上限、下限カウンタ8a、
8bの各カウント値nx、nlが減算器IOに転送され
る。同時に下限カウンタ8bのカウント値n1が演算器
I2にも転送される。減算器10は、両カウンタ8a、
8bの各カウント値n4、n。
と、このタイミングに応じて上限、下限カウンタ8a、
8bの各カウント値nx、nlが減算器IOに転送され
る。同時に下限カウンタ8bのカウント値n1が演算器
I2にも転送される。減算器10は、両カウンタ8a、
8bの各カウント値n4、n。
の差n+*(−11+ fit)を算出する。これに
より、分析対象となる元素のX線(PKα)に基づく検
出パルスだけが抽出されることになる。
より、分析対象となる元素のX線(PKα)に基づく検
出パルスだけが抽出されることになる。
引き続いて、演算器12は、下限カウンタのカウント値
n1と減算器の減算値n、ならびに予め設定器14で設
定された不感時間τの6値から、上記の(2)式に基づ
いて真のカウント値n0を算出する。(2)式において
、分子のnlfは波高分析された後のPKα線に基づく
カウント値であり、分母の11は分析元素Pとともに、
共存元素Cuの高次線の影響を含めたカウント値である
から、不感時間τに応じたカウント値の補正がより正確
に行えることになる。なお、補正された後のカウント値
n0をタイマー16で設定される単位時間tで除算すれ
ば、計数率(cps)が求まる。
n1と減算器の減算値n、ならびに予め設定器14で設
定された不感時間τの6値から、上記の(2)式に基づ
いて真のカウント値n0を算出する。(2)式において
、分子のnlfは波高分析された後のPKα線に基づく
カウント値であり、分母の11は分析元素Pとともに、
共存元素Cuの高次線の影響を含めたカウント値である
から、不感時間τに応じたカウント値の補正がより正確
に行えることになる。なお、補正された後のカウント値
n0をタイマー16で設定される単位時間tで除算すれ
ば、計数率(cps)が求まる。
(ト)効果
本発明によれば、常に共存元素の高次線の影響を考慮し
てカウント値の補正が行われるので、目的とする分析元
素のX線とともに、共存元素の高次線も同時にX線検出
器で検出されるような場合においても、正確に補正され
た計数率が得られるようになる。そのため、従来よりも
一層、定暖分析等における分析精度を高めることができ
るようになる等の優れた効果が発揮される。
てカウント値の補正が行われるので、目的とする分析元
素のX線とともに、共存元素の高次線も同時にX線検出
器で検出されるような場合においても、正確に補正され
た計数率が得られるようになる。そのため、従来よりも
一層、定暖分析等における分析精度を高めることができ
るようになる等の優れた効果が発揮される。
第1図は本発明の実施例に係る蛍光X線分析装置の構成
図である。また、第2図は従来の蛍光X線分析装置の構
成図、第3図は波高分布曲線を示す特性図、第4図はX
線検出器で検出される実際のX線強度と計数率との関係
を示す特性図である。 1・・・蛍光X1s分析装置、2・・・X線検出器、6
a・・上限値選別回路、6b・・・下限値選別回路、8
a・・・上限カウンタ、8b・・・下限カウンタ、IO
・・・減算器、I2・・・演算器。
図である。また、第2図は従来の蛍光X線分析装置の構
成図、第3図は波高分布曲線を示す特性図、第4図はX
線検出器で検出される実際のX線強度と計数率との関係
を示す特性図である。 1・・・蛍光X1s分析装置、2・・・X線検出器、6
a・・上限値選別回路、6b・・・下限値選別回路、8
a・・・上限カウンタ、8b・・・下限カウンタ、IO
・・・減算器、I2・・・演算器。
Claims (1)
- (1)X線検出器から出力される検出パルスの波高値が
分析元素に応じて予め設定された上限値以上のものを選
別する上限値選別回路と、 前記検出パルスの波高値が分析元素に応じて予め設定さ
れた下限値以上のものを選別する下限値選別回路と、 前記上限値選別回路の選別出力をカウントする上限カウ
ンタと、 前記下限値選別回路の選別出力をカウントする下限カウ
ンタと、 前記両カウンタの各カウント値n_1、n_2の差n_
1_2(=n_1−n_2)を算出する減算器と、 前記下限カウンタのカウント値n_1と減算器の減算値
n_1_2ならびに予め設定されたX線検出器の不感時
間τの各値から、式 n_0=n_1_2/(1−n_1・τ) に基づいて真のカウント値n_0を算出する演算器と、
を備えることを特徴とする蛍光X線分析装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1048156A JP2564930B2 (ja) | 1989-02-27 | 1989-02-27 | 蛍光x線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1048156A JP2564930B2 (ja) | 1989-02-27 | 1989-02-27 | 蛍光x線分析装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02226058A true JPH02226058A (ja) | 1990-09-07 |
JP2564930B2 JP2564930B2 (ja) | 1996-12-18 |
Family
ID=12795510
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1048156A Expired - Fee Related JP2564930B2 (ja) | 1989-02-27 | 1989-02-27 | 蛍光x線分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2564930B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012160881A1 (ja) | 2011-05-20 | 2012-11-29 | 株式会社リガク | 波長分散型蛍光x線分析装置 |
WO2022113481A1 (ja) * | 2020-11-30 | 2022-06-02 | 株式会社リガク | 蛍光x線分析装置 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4386022B2 (ja) | 2004-11-10 | 2009-12-16 | セイコーエプソン株式会社 | 時計の表示装置、ムーブメント、および時計 |
-
1989
- 1989-02-27 JP JP1048156A patent/JP2564930B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012160881A1 (ja) | 2011-05-20 | 2012-11-29 | 株式会社リガク | 波長分散型蛍光x線分析装置 |
JP2012242285A (ja) * | 2011-05-20 | 2012-12-10 | Rigaku Corp | 波長分散型蛍光x線分析装置 |
US8774356B2 (en) | 2011-05-20 | 2014-07-08 | Rigaku Corporation | Wavelength dispersive X-ray fluorescence spectrometer |
WO2022113481A1 (ja) * | 2020-11-30 | 2022-06-02 | 株式会社リガク | 蛍光x線分析装置 |
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