JPH02225449A - 混合鎖構造を持つ両親媒性モノマー、ポリマーおよび少なくとも一つのそれの単分子膜より成るフィルム - Google Patents
混合鎖構造を持つ両親媒性モノマー、ポリマーおよび少なくとも一つのそれの単分子膜より成るフィルムInfo
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Classifications
-
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- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/18—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by dipping
- B05D1/20—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by dipping substances to be applied floating on a fluid
- B05D1/202—Langmuir Blodgett films (LB films)
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C233/00—Carboxylic acid amides
- C07C233/01—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
- C07C233/02—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having nitrogen atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to carbon atoms of unsubstituted hydrocarbon radicals
- C07C233/04—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having nitrogen atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to carbon atoms of unsubstituted hydrocarbon radicals with carbon atoms of carboxamide groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton
- C07C233/05—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having nitrogen atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to carbon atoms of unsubstituted hydrocarbon radicals with carbon atoms of carboxamide groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton having the nitrogen atoms of the carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
- C08F20/10—Esters
- C08F20/34—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate
- C08F20/36—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate containing oxygen in addition to the carboxy oxygen, e.g. 2-N-morpholinoethyl (meth)acrylate or 2-isocyanatoethyl (meth)acrylate
-
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の利用分野1
本発明は、アルキル側鎖を持つ特別の両親媒性モノマー
およびそれのポリマー、固体層支持体の上の上記ポリマ
ーの少なくとも一つの単分子膜より成るフィルム(−い
わゆる層要素)および上記モノマー、ポリマーおよび層
要素の製造方法に関する。
およびそれのポリマー、固体層支持体の上の上記ポリマ
ーの少なくとも一つの単分子膜より成るフィルム(−い
わゆる層要素)および上記モノマー、ポリマーおよび層
要素の製造方法に関する。
[従来技術l
長い側鎖基を持つ有機ポリマーの整然とした層の製法は
、専らラングミュア・プロジェット(Langmutr
−Blodgett、 LB)法を用いて実施される。
、専らラングミュア・プロジェット(Langmutr
−Blodgett、 LB)法を用いて実施される。
この方法では、分子を水面に拡げそして長いアルキル側
鎖が分子当たりの表面を減らすことによって平行に配列
される。分子は、一定の押し圧力のもとで、沈下させそ
して引き上げることによって基体の上に取られる。この
方法では、各沈下処理が層φの整然とした状態を残して
いる間に単分子層を移す。
鎖が分子当たりの表面を減らすことによって平行に配列
される。分子は、一定の押し圧力のもとで、沈下させそ
して引き上げることによって基体の上に取られる。この
方法では、各沈下処理が層φの整然とした状態を残して
いる間に単分子層を移す。
LBフィルムは両親媒性分子、即ち親水性末端く”ヘッ
ド”)と疎水性末端(“テール”)とを持つ分子、を用
いて構成されている。LBフィルムのより高い安定性は
既に、ポリマーLHフィルムを製造することによって達
成されている。
ド”)と疎水性末端(“テール”)とを持つ分子、を用
いて構成されている。LBフィルムのより高い安定性は
既に、ポリマーLHフィルムを製造することによって達
成されている。
この目的の為に、不飽和の両親媒性化合物がフィルムの
製造後に幾度も重合されている。しかしながら長いアル
キル側鎖を持つ有機ポリマーも既に、層を製造する為に
直接的に使用されてきた(NO83103165および
R,EIbert、 A、Laschewskyおよび
H,Rtrigsdorf S“J、Am、Chea+
、Soc。
製造後に幾度も重合されている。しかしながら長いアル
キル側鎖を持つ有機ポリマーも既に、層を製造する為に
直接的に使用されてきた(NO83103165および
R,EIbert、 A、Laschewskyおよび
H,Rtrigsdorf S“J、Am、Chea+
、Soc。
107.4134〜4141 (1985))、 !、
かじながら両方の種類のポリマーフィルムはモノマーフ
ィルムで発生するのよりも多い欠点を有している。殆ど
のいずれの場合の重合も欠点の発生を伴う層の収縮を引
き起こす。^ルaschewsky、 11.Rjng
sdorf 、 G、Sct++++idtおよびJ、
5chnejder 、”J、Am。
かじながら両方の種類のポリマーフィルムはモノマーフ
ィルムで発生するのよりも多い欠点を有している。殆ど
のいずれの場合の重合も欠点の発生を伴う層の収縮を引
き起こす。^ルaschewsky、 11.Rjng
sdorf 、 G、Sct++++idtおよびJ、
5chnejder 、”J、Am。
Cheta、Soc、” 109.788〜796
(1987)によって記載されている様に、コポリマー
フィルムの場合には、ランダムに組み込まれた親水性コ
モノマーが、不均一な層厚をもたらす異なる長さの親水
性ループ(loops)の原因となり得る。
(1987)によって記載されている様に、コポリマー
フィルムの場合には、ランダムに組み込まれた親水性コ
モノマーが、不均一な層厚をもたらす異なる長さの親水
性ループ(loops)の原因となり得る。
一般にLB層は、アルキル側鎖および重合性単位が親水
性の柔軟なセグメント、”親水性スベサー”によって分
けられている場合には、ホモポリマーでしか造ることが
できない(R,EIbert、 1%、1a5chew
skyおよびH,Ringsdorf 、、”J、Am
、Chem、soc、 107.4134〜4141
(1985))。しかしながらこの種類のLB層は、
特に比較的に厚い層(200〜300単分子層)として
幾度も製造する場合に、未だ高過ぎる粘度および従って
ポリマーLB層の低過ぎる柔軟性のたぶん原因である層
構造に欠点を有している。
性の柔軟なセグメント、”親水性スベサー”によって分
けられている場合には、ホモポリマーでしか造ることが
できない(R,EIbert、 1%、1a5chew
skyおよびH,Ringsdorf 、、”J、Am
、Chem、soc、 107.4134〜4141
(1985))。しかしながらこの種類のLB層は、
特に比較的に厚い層(200〜300単分子層)として
幾度も製造する場合に、未だ高過ぎる粘度および従って
ポリマーLB層の低過ぎる柔軟性のたぶん原因である層
構造に欠点を有している。
[発明が解決しようとする課題1
それ故に本発明の課題は、ホモポリマーが高い柔軟性を
有し且つ低温でも層支持体に特に良好に移すことのでき
るモノマーを提供することである。
有し且つ低温でも層支持体に特に良好に移すことのでき
るモノマーを提供することである。
1発明の構成l
この課題は、本発明によって達成される。本発明は、二
つのアルキル鎖を持つ両親媒性化合物が単分子膜におい
て大体非常に向上した柔軟性をもたらすことを見出した
ことに基づいている。これはポリマーについても言える
。異なる長さのアルキル基は更に、LBフィルム中の隣
接し合う二つの単分子膜のアルキル鎖同士の“相互のか
みあい°を可能とする。このことがLBフィルムの疎水
性領域での付着をもたらす。
つのアルキル鎖を持つ両親媒性化合物が単分子膜におい
て大体非常に向上した柔軟性をもたらすことを見出した
ことに基づいている。これはポリマーについても言える
。異なる長さのアルキル基は更に、LBフィルム中の隣
接し合う二つの単分子膜のアルキル鎖同士の“相互のか
みあい°を可能とする。このことがLBフィルムの疎水
性領域での付着をもたらす。
本発明は、式
[式中、Yは−0−または−NH−を意味し、Xは式−
(CL)−一または−(C1h−0−C1lz) n−
で表される基を意味し、 尼は0〜10の整数を意味し、 nは1〜10の整数を意味し、 R1は水素原子、メチル基、塩素原子、シアノ基、弗素
原子または臭素原子を意味し、「は炭素原子数1〜24
のアルキル基または炭素原子数1〜24のフルオルアル
キル基を意味しそして R3は、7J RRとR3とが異なる数の炭素原子を含
有しているという条件のもとで、炭素原子数8〜24の
アルキル基または炭素原子数8〜24のフルオルアルキ
ル基を意味する。l で表される混合鎖構造を持つ両親媒性モノマーに関する
。
(CL)−一または−(C1h−0−C1lz) n−
で表される基を意味し、 尼は0〜10の整数を意味し、 nは1〜10の整数を意味し、 R1は水素原子、メチル基、塩素原子、シアノ基、弗素
原子または臭素原子を意味し、「は炭素原子数1〜24
のアルキル基または炭素原子数1〜24のフルオルアル
キル基を意味しそして R3は、7J RRとR3とが異なる数の炭素原子を含
有しているという条件のもとで、炭素原子数8〜24の
アルキル基または炭素原子数8〜24のフルオルアルキ
ル基を意味する。l で表される混合鎖構造を持つ両親媒性モノマーに関する
。
基1およびR3はアルキルであるのが有利である。これ
らは分岐していてもまたは無分岐であってもよい。フル
オルアルキル基は完全にまたは部分的に弗素化されてい
てもよく、例えばアルキル基が末端にトリフルオルメチ
ル基を有してもよい、何れの場合にも、基R2およびR
sは異なる長さを有していなければならない。
らは分岐していてもまたは無分岐であってもよい。フル
オルアルキル基は完全にまたは部分的に弗素化されてい
てもよく、例えばアルキル基が末端にトリフルオルメチ
ル基を有してもよい、何れの場合にも、基R2およびR
sは異なる長さを有していなければならない。
式(1)のこれらの七ツマ−は以下のようにして自体公
知の方法で製造できる: この方法を後記の実施例1において更に詳細に説明する
。
知の方法で製造できる: この方法を後記の実施例1において更に詳細に説明する
。
更に本発明は、特別な式(1)のモノマーより成るかま
たは該七ツマ−を含有するポリマー特に少なくとも一つ
の単分子膜の状態のフィルムの形のポリマーにも関する
。これらのポリマーは、完全に式(1)の上記七ツマ−
で構成されていてもよいしまたは該新規の七ツマ−が他
の親水性または疎水性コモノマーと共重合されていても
よい、この種のコポリマーは好ましくは1〜20重量%
の式(1)のモノマーと90〜80重量%の疎水性コモ
ノマーを含有しているかまたは10〜99重量%の式(
1)のモノマーと90〜1重量%の親水性コモノマーを
含有している。
たは該七ツマ−を含有するポリマー特に少なくとも一つ
の単分子膜の状態のフィルムの形のポリマーにも関する
。これらのポリマーは、完全に式(1)の上記七ツマ−
で構成されていてもよいしまたは該新規の七ツマ−が他
の親水性または疎水性コモノマーと共重合されていても
よい、この種のコポリマーは好ましくは1〜20重量%
の式(1)のモノマーと90〜80重量%の疎水性コモ
ノマーを含有しているかまたは10〜99重量%の式(
1)のモノマーと90〜1重量%の親水性コモノマーを
含有している。
更に、これらポリマーは式(1)の異なる複数のモノマ
ーで構成されていてもよい、これらホモポリマーおよび
コポリマーの製造は、慣用の方法を用いて遊離ラジカル
的に開始することによって実施する。
ーで構成されていてもよい、これらホモポリマーおよび
コポリマーの製造は、慣用の方法を用いて遊離ラジカル
的に開始することによって実施する。
用いる親水性コモノマーは、水溶性ビニル七ツマ−1例
えばイタコン酸、フマル酸、マレイン酸、アクリル酸、
シアノアクリル酸およびメタクリル酸または水溶性のそ
れらの誘導体が適している。用いる誘導体は特に酸アミ
ド類、酸二1−ジル類および2−ヒドロキシエチルエス
テルがある。
えばイタコン酸、フマル酸、マレイン酸、アクリル酸、
シアノアクリル酸およびメタクリル酸または水溶性のそ
れらの誘導体が適している。用いる誘導体は特に酸アミ
ド類、酸二1−ジル類および2−ヒドロキシエチルエス
テルがある。
疎水性コポリマーは、重合性単位に加えて、例えばビニ
ル二重結合、少なくとも一つの炭素原子数10〜24の
アルキル鎖を有し、そして/あるいはベンゼンに溶解す
る。
ル二重結合、少なくとも一つの炭素原子数10〜24の
アルキル鎖を有し、そして/あるいはベンゼンに溶解す
る。
本発明に従うポリマーまたはフィルムは、他の有用な成
分、例えば染料、両親媒性の架橋剤未だはモノマーのま
たはポリマーの両親媒性化合物と混合することができる
。
分、例えば染料、両親媒性の架橋剤未だはモノマーのま
たはポリマーの両親媒性化合物と混合することができる
。
この種の混合物中のこれら添加物の割合は10〜99重
量%である。
量%である。
フィルムの製造は、本発明のポリマーまたはこのポリマ
ーを含有する混合物を本質的に連発性の水混和性溶剤に
溶解し7そして水溶液の表面にフィルム−バランス状態
で適用する(拡げる)ことによって実施する。繰り返し
単位当たりの平均表面積は表面積、拡げた容積および溶
液の濃度を測定することで算出する。分子を圧縮した時
に生じる相移動は、面圧−面積−等温線(surfac
e pressure−area i、sotherm
)で追跡することができる。
ーを含有する混合物を本質的に連発性の水混和性溶剤に
溶解し7そして水溶液の表面にフィルム−バランス状態
で適用する(拡げる)ことによって実施する。繰り返し
単位当たりの平均表面積は表面積、拡げた容積および溶
液の濃度を測定することで算出する。分子を圧縮した時
に生じる相移動は、面圧−面積−等温線(surfac
e pressure−area i、sotherm
)で追跡することができる。
分子はバリヤーを用いて一緒に押しつけられ、それのア
ルキル鎖が面積密度の増加につれて界面層に対して実質
的に垂直に配向する。圧縮の間に分子の自己組織化によ
って高度に整然とした単分子フィルムが界面相に生じ、
このフィルムの一定の層厚はポリマーのアルキル側鎖の
長さおよびその傾斜角(これは、分子鎖が水面に常態を
基準として傾斜している角度である)によって決められ
る。か\る種類のフィルムの典型的な厚さは2〜3nm
である。
ルキル鎖が面積密度の増加につれて界面層に対して実質
的に垂直に配向する。圧縮の間に分子の自己組織化によ
って高度に整然とした単分子フィルムが界面相に生じ、
このフィルムの一定の層厚はポリマーのアルキル側鎖の
長さおよびその傾斜角(これは、分子鎖が水面に常態を
基準として傾斜している角度である)によって決められ
る。か\る種類のフィルムの典型的な厚さは2〜3nm
である。
このフィルムは、整然とした状態を維持しながら、適当
な支持体を沈下させるかまたは引き上げることによる一
定の押しつけ圧のもとで水面から除かれる。
な支持体を沈下させるかまたは引き上げることによる一
定の押しつけ圧のもとで水面から除かれる。
単分子膜を製造する為のサブフェイズ(subphas
e)は一般に水または水溶液である。しかしながら、高
い表面張力を持つ他の液体、例えばグリセロール、グリ
コール、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド
またはアセトニトリルを用いることも可能である。
e)は一般に水または水溶液である。しかしながら、高
い表面張力を持つ他の液体、例えばグリセロール、グリ
コール、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド
またはアセトニトリルを用いることも可能である。
支持体としては、種々の材料から製造されるあらゆる所
望の固体の、特に寸法安定性の、基体が有利である。層
支持体として用いる基体は例えば透明なまたは光透過性
、導電性または絶縁性であってもよい。基体は疎水性ま
たは親水性でもよい。LB−層が適用される基体の表面
は疎水性化されていてもよい。基体の被覆するべき面は
出来るだけきれいであるべきであり、そうすれば薄い整
然とした層の形成が妨害されない。特に被覆される基体
面に界面活性剤が存在していると、上記層の形成が害さ
れ得る。層支持体として用いる基体が被覆されるべき面
に、LB−フィルムを適用する前に、例えばフィルムの
基体への付着性を向上させる為に、最初に中間層を設け
ておいてもよい。
望の固体の、特に寸法安定性の、基体が有利である。層
支持体として用いる基体は例えば透明なまたは光透過性
、導電性または絶縁性であってもよい。基体は疎水性ま
たは親水性でもよい。LB−層が適用される基体の表面
は疎水性化されていてもよい。基体の被覆するべき面は
出来るだけきれいであるべきであり、そうすれば薄い整
然とした層の形成が妨害されない。特に被覆される基体
面に界面活性剤が存在していると、上記層の形成が害さ
れ得る。層支持体として用いる基体が被覆されるべき面
に、LB−フィルムを適用する前に、例えばフィルムの
基体への付着性を向上させる為に、最初に中間層を設け
ておいてもよい。
基体に使用できる材料の例には、例えば金属、例えば金
、プラチナ、ニッケル、パラジウム、アルミニウム、ク
ロム、ニオブ、タンタル、チタン、鋼鉄およびこれらの
類催物がある。基体の為の他の適当な材料には合成樹脂
、例えばポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレ
ートまたはポリブチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニ
ル、ポリビニリデンクロライド、ポリテトラフルオロエ
チレン、ポリスチレン、ポリエチレンまたはポリプロピ
レンがある。
、プラチナ、ニッケル、パラジウム、アルミニウム、ク
ロム、ニオブ、タンタル、チタン、鋼鉄およびこれらの
類催物がある。基体の為の他の適当な材料には合成樹脂
、例えばポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレ
ートまたはポリブチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニ
ル、ポリビニリデンクロライド、ポリテトラフルオロエ
チレン、ポリスチレン、ポリエチレンまたはポリプロピ
レンがある。
珪素、ゲルマニウムまたはガリウム−砒素の如き半導体
、その他にガラス、二酸化珪素、セラミック材料または
セルロース生成物も基体に適している。ガラスおよび他
の親水性基体の表面は、必要な場合には、公知の方法で
、例えばアルキルシラン類またはへキサメチルジシラザ
ンと反応させて疎水性化してもよい。基体材料の選択は
先ず第一に、本発明のフィルムから製造される層要素の
用途目的に左右される。光学的要素の為には一般に透明
な光透過性基体が層支持体として使用される。本発明の
層要素を例えば電気工業または電気化学的プロセスで使
用する場合には、用いる基体は特に導電性材料、例えば
金属または金属表面層、例えば合成樹脂フィルムまたは
ガラスの上のそれであるのが有利である。
、その他にガラス、二酸化珪素、セラミック材料または
セルロース生成物も基体に適している。ガラスおよび他
の親水性基体の表面は、必要な場合には、公知の方法で
、例えばアルキルシラン類またはへキサメチルジシラザ
ンと反応させて疎水性化してもよい。基体材料の選択は
先ず第一に、本発明のフィルムから製造される層要素の
用途目的に左右される。光学的要素の為には一般に透明
な光透過性基体が層支持体として使用される。本発明の
層要素を例えば電気工業または電気化学的プロセスで使
用する場合には、用いる基体は特に導電性材料、例えば
金属または金属表面層、例えば合成樹脂フィルムまたは
ガラスの上のそれであるのが有利である。
本発明のフィルムの為の支持体として用いる基体は、用
途目的次第で所望のあらゆる形を有することができる。
途目的次第で所望のあらゆる形を有することができる。
例えばフィルム状、薄金属板、シート状、板状、テープ
状または円筒状であってもよいしまたは他の所望の形状
を選択することができる。一般に、層状支持体は平たく
平面的な基体、例えばフィルム、薄金属、シート、板、
テープおよびこれらの類似物が通している。基体の被覆
される面は、LB−フィルムを製造するの場合に一般的
である様に、滑らかであるのが好ましい。平たく平面的
な基体の場合には、本発明のフィルムは該基体の片面ま
たは両面に乗せることがでる。
状または円筒状であってもよいしまたは他の所望の形状
を選択することができる。一般に、層状支持体は平たく
平面的な基体、例えばフィルム、薄金属、シート、板、
テープおよびこれらの類似物が通している。基体の被覆
される面は、LB−フィルムを製造するの場合に一般的
である様に、滑らかであるのが好ましい。平たく平面的
な基体の場合には、本発明のフィルムは該基体の片面ま
たは両面に乗せることがでる。
本発明のポリマーは欠点の少ない多層構造を製造するの
に非常に適しており、ポリマーにとって比較的に低い温
度で層を製造することが可能であり且つそれにもかかわ
らず、その層構造は比較的高温ですら未だ安定である。
に非常に適しており、ポリマーにとって比較的に低い温
度で層を製造することが可能であり且つそれにもかかわ
らず、その層構造は比較的高温ですら未だ安定である。
基体の上のこの種のフィルムは例えば光学的導波系にま
たは光学的目的の為のフィルターの製造に通している。
たは光学的目的の為のフィルターの製造に通している。
臨界表面張力が僅かである為にこのフィルムは、材料の
11!擦特性を向上させるのにも、保護層を製造するの
にも並びに別の関係のある用途にも適している。
11!擦特性を向上させるのにも、保護層を製造するの
にも並びに別の関係のある用途にも適している。
本発明を以下の実施例によって更に詳細に説明する。
100m lのメチレンクロライドに27.5g(0,
1s。
1s。
l)のバルミトイルクロライドを溶解した溶液を、50
抛2の乾燥メチレンクロライドに26.95g (0,
1mo1)のN−オクチルアミンおよび12.14g(
0,1,2l11o 42 )の(・リエチルアミンを
溶解した溶液に0°Cで30分の間に滴加し、この混合
物を2時間に渡ってO″Cに冷却しながら攪拌し、次い
で攪拌下に室温に加温する。次に500mj!の1VI
HCl水溶液を添加してスラリー状物質を得、この混合
物を室温で30分間攪拌しそして生成物を吸引濾過する
。この生成物を次いでメチレンクロライドで再結晶処理
する。
抛2の乾燥メチレンクロライドに26.95g (0,
1mo1)のN−オクチルアミンおよび12.14g(
0,1,2l11o 42 )の(・リエチルアミンを
溶解した溶液に0°Cで30分の間に滴加し、この混合
物を2時間に渡ってO″Cに冷却しながら攪拌し、次い
で攪拌下に室温に加温する。次に500mj!の1VI
HCl水溶液を添加してスラリー状物質を得、この混合
物を室温で30分間攪拌しそして生成物を吸引濾過する
。この生成物を次いでメチレンクロライドで再結晶処理
する。
96〜97℃の融点を持つ20.8g (82χ)の白
色粉末が得られる。
色粉末が得られる。
H−NMR(CDCf 3.100 MHz)δ−0,
9(t、6H,−CIlz); 1.25(11,58
11,−Cfb−);2゜0〜2.2 (t、2L −
CHz−CO) ; 3.0〜3.3(a+、 2LN
−C1h); 5.2〜5.5 (s+、IH,−Nl
l)Log(0,462tIIol>のIjAIH4を
I00mj2の乾燥テトラヒドロフランに懸濁させそし
て33g (65mmo n、 )のN−オクタデシル
パルミトアミドを500m1lの乾燥テトラヒドロフラ
ンに懸濁させた懸濁液を20分間にわたって室温で配量
供給する。
9(t、6H,−CIlz); 1.25(11,58
11,−Cfb−);2゜0〜2.2 (t、2L −
CHz−CO) ; 3.0〜3.3(a+、 2LN
−C1h); 5.2〜5.5 (s+、IH,−Nl
l)Log(0,462tIIol>のIjAIH4を
I00mj2の乾燥テトラヒドロフランに懸濁させそし
て33g (65mmo n、 )のN−オクタデシル
パルミトアミドを500m1lの乾燥テトラヒドロフラ
ンに懸濁させた懸濁液を20分間にわたって室温で配量
供給する。
室温で30分攪拌した後に、この混合物を加熱しそして
還流下に15時間煮沸する。反応混合物を冷却した後に
、過剰のLLAI)14を、各10+aI!、の量の水
、15χ濃度N a OH溶液および再び水を注意深く
添加することによって冷却下に失活させる。
還流下に15時間煮沸する。反応混合物を冷却した後に
、過剰のLLAI)14を、各10+aI!、の量の水
、15χ濃度N a OH溶液および再び水を注意深く
添加することによって冷却下に失活させる。
得られる水酸化アルミニウムを吸引濾過しそしてトルエ
ンで洗浄する。濾液を洗浄液と一緒にしそして溶剤を減
圧下に除く。次いで生成物をエタノールで再結晶処理す
る。71.8〜72.6°Cの融点を持つ26g (8
1χ)の白色粉末が得られる。
ンで洗浄する。濾液を洗浄液と一緒にしそして溶剤を減
圧下に除く。次いで生成物をエタノールで再結晶処理す
る。71.8〜72.6°Cの融点を持つ26g (8
1χ)の白色粉末が得られる。
’II−NMR(CDCjl! s 、100 MHz
)δ= 0.9(t−6tlt−CIls)i t、t
〜2.05(m、61)1.−CHz−。
)δ= 0.9(t−6tlt−CIls)i t、t
〜2.05(m、61)1.−CHz−。
NH); 2..4〜2.7 (t、4H,N−Cl□
)20g (40,5mmo I!、)のN−ヘキサデ
シル−N−オクタデシルアミン、8.1 g (81m
mof)の無水こはり酸)および8.2g (81ma
ioj2)のトリエチルアミンを250m/の乾燥トル
エンに溶解しそしてこの混合物を還流下に2172日間
、湿分の排除下に煮沸する。冷却後に、反応混合物をI
MIICβと一緒に振盪させそして有機相を分離し、N
a2S04で乾燥しそして溶剤を減圧下に除く。次いで
生成物をメタノールにて二回再結晶処理する。
)20g (40,5mmo I!、)のN−ヘキサデ
シル−N−オクタデシルアミン、8.1 g (81m
mof)の無水こはり酸)および8.2g (81ma
ioj2)のトリエチルアミンを250m/の乾燥トル
エンに溶解しそしてこの混合物を還流下に2172日間
、湿分の排除下に煮沸する。冷却後に、反応混合物をI
MIICβと一緒に振盪させそして有機相を分離し、N
a2S04で乾燥しそして溶剤を減圧下に除く。次いで
生成物をメタノールにて二回再結晶処理する。
59.8〜60.7°Cの融点を持つ22.9g (9
5χ)の白色の粉末が得られる。
5χ)の白色の粉末が得られる。
’tl−NMR(CDCn 3.1.00 M!!z)
δ= 0.9(t、6H,−Cl3): 1.1”−’
1.9 (a+、60H,−CL−);2.65 (5
,4H,Co−CTo−CHg−Co); 3.05〜
3.45(m。
δ= 0.9(t、6H,−Cl3): 1.1”−’
1.9 (a+、60H,−CL−);2.65 (5
,4H,Co−CTo−CHg−Co); 3.05〜
3.45(m。
411、 N−C11□)
4.90g (8,04mmo l )のN−ヘキサデ
シル−N−オクタデシルスクシンアミド、1.63 (
12,6a+m。
シル−N−オクタデシルスクシンアミド、1.63 (
12,6a+m。
2)の2−ヒドロキシエチル−メタクリレートおよびス
パチュラ先端部−杯の2,6−ジー第三ブチル−p−ク
レゾールを100*I2の乾燥メチレンクロライドに溶
解しそして20tslの乾燥メチレンクロライドに1.
81g (8,79a+mojりのジシクロへキシルカ
ルボジイミドおよび35 mgの新たに再結晶処理した
N、N−ジメチルアミノピリジンを溶解した溶液を湿分
の排除下に0℃で満月する。
パチュラ先端部−杯の2,6−ジー第三ブチル−p−ク
レゾールを100*I2の乾燥メチレンクロライドに溶
解しそして20tslの乾燥メチレンクロライドに1.
81g (8,79a+mojりのジシクロへキシルカ
ルボジイミドおよび35 mgの新たに再結晶処理した
N、N−ジメチルアミノピリジンを溶解した溶液を湿分
の排除下に0℃で満月する。
満月の終わりに、この混合物を0℃で更に1時間攪拌す
る。次いでこの反応混合物を室温で一晩放置しそして次
の朝に得られた尿素を減圧下に吸引濾去する。濾液を1
00mj!の水で二回洗浄し、NazSO4で乾燥しそ
して溶剤を減圧下に除く。カラムクロマトグラフィー(
シリカ−ゲル;Si 60、移動溶剤;ヘキサン/エチ
ルアセテート5:1(ν/V))によって精製した後に
、3.93g(69% )の白色のワックス状物質が得
られる。
る。次いでこの反応混合物を室温で一晩放置しそして次
の朝に得られた尿素を減圧下に吸引濾去する。濾液を1
00mj!の水で二回洗浄し、NazSO4で乾燥しそ
して溶剤を減圧下に除く。カラムクロマトグラフィー(
シリカ−ゲル;Si 60、移動溶剤;ヘキサン/エチ
ルアセテート5:1(ν/V))によって精製した後に
、3.93g(69% )の白色のワックス状物質が得
られる。
このものは室温より僅か上で熔融する。
’H−NMR<CDCll5 、 100 Mfl
z)δ・0゜9(t、6H1CHs); 1.1〜1.
85(m、6011.−C1l□−);1.92 (
m、311.C−CD5); 2.65 (t、4
H,Co−CHz−CILt〜CO) ; 3.0〜3
.45(m、411. N−C1g) ; 4.34(
s、4H。
z)δ・0゜9(t、6H1CHs); 1.1〜1.
85(m、6011.−C1l□−);1.92 (
m、311.C−CD5); 2.65 (t、4
H,Co−CHz−CILt〜CO) ; 3.0〜3
.45(m、411. N−C1g) ; 4.34(
s、4H。
0−CHz−C1b−0); 5.5.6.1 (AB
、211. C=CI+□)2: 人 1の −ジカ
ル 八 実施例Iで製造された2gのモノマーを20m1のテト
ラヒドロフランに溶解しそして5.0gのアゾ−ビス−
イソブチロニトリルを添加する。この溶液を、還流冷却
器(ガス出口管およびバブル・カウンターを備えている
)、温度針およびガス導入管を配備した三つ首フラスコ
に導入し、窒素をこの溶液に室温で1時間通して泡立て
る。次いでこの溶液を還流下に加熱しく内部温度二65
°C)そして還流下に8時間煮沸する。この期間の間に
反応混合物を、マグネットスタラーによって一定に攪拌
しそして窒素でパージする。1!のメタ−ノル中に反応
溶液を一18°Cで注ぎ込むことによってポリマーを沈
澱させ、これをドライアイスで冷却しながら吸引濾過す
る。室温で柔らかく、ヘキサンおよびメタノールに不溶
で且つテトラヒドロフランに可溶の200 Bの白色の
グリス状物質が得られる。ゲルバーミッションクロマト
グラフィーにより測定される分子量は、23,000ダ
ルトンの−および1.2.OOOダルトンのへである(
ポリスチレンで目盛り定め)。
、211. C=CI+□)2: 人 1の −ジカ
ル 八 実施例Iで製造された2gのモノマーを20m1のテト
ラヒドロフランに溶解しそして5.0gのアゾ−ビス−
イソブチロニトリルを添加する。この溶液を、還流冷却
器(ガス出口管およびバブル・カウンターを備えている
)、温度針およびガス導入管を配備した三つ首フラスコ
に導入し、窒素をこの溶液に室温で1時間通して泡立て
る。次いでこの溶液を還流下に加熱しく内部温度二65
°C)そして還流下に8時間煮沸する。この期間の間に
反応混合物を、マグネットスタラーによって一定に攪拌
しそして窒素でパージする。1!のメタ−ノル中に反応
溶液を一18°Cで注ぎ込むことによってポリマーを沈
澱させ、これをドライアイスで冷却しながら吸引濾過す
る。室温で柔らかく、ヘキサンおよびメタノールに不溶
で且つテトラヒドロフランに可溶の200 Bの白色の
グリス状物質が得られる。ゲルバーミッションクロマト
グラフィーにより測定される分子量は、23,000ダ
ルトンの−および1.2.OOOダルトンのへである(
ポリスチレンで目盛り定め)。
顕微鏡ガラス製スライド(76auaX26 arm)
を以下の方法で浄化する。
を以下の方法で浄化する。
このガラスを、4部の濃+1zSO4と1部の302濃
度+(、島溶液との新たに造った60℃の溶液に浸し、
きれいな水ですすぎそして洗浄用溶液(Ex tran
/^P11、濃度: 2〜4 g/l) 中で50°C
で15分間超音波に委ねる。次いでこのガラスをきれい
な水で再び十分に洗浄しそして温かい空気流中で乾燥す
る。このガラスを次にヘキサメチル−ジシラザン蒸気で
処理することによって疎水性化する(70℃で10分間
)。
度+(、島溶液との新たに造った60℃の溶液に浸し、
きれいな水ですすぎそして洗浄用溶液(Ex tran
/^P11、濃度: 2〜4 g/l) 中で50°C
で15分間超音波に委ねる。次いでこのガラスをきれい
な水で再び十分に洗浄しそして温かい空気流中で乾燥す
る。このガラスを次にヘキサメチル−ジシラザン蒸気で
処理することによって疎水性化する(70℃で10分間
)。
実施例2において製造したポリマーの複数の層を、ラン
グミュアおよびプロジェットの方法によって、1蒙2の
テトラヒドロフランと9+++42のCI’hCLとの
10cm’の混合物中に5Bのポリマーを溶解した0、
25 cm’の溶液を、10 ’Cのサブフェイズ温度
で水性サブフェイズの上にラングミュア−フィルム−バ
ランス状態で拡げることによってガラス製スライドに移
す。単分子膜で被覆された水面の縮小は、押し圧力を2
5mN/mに調節しそしてこの値を一定に保つように行
う。
グミュアおよびプロジェットの方法によって、1蒙2の
テトラヒドロフランと9+++42のCI’hCLとの
10cm’の混合物中に5Bのポリマーを溶解した0、
25 cm’の溶液を、10 ’Cのサブフェイズ温度
で水性サブフェイズの上にラングミュア−フィルム−バ
ランス状態で拡げることによってガラス製スライドに移
す。単分子膜で被覆された水面の縮小は、押し圧力を2
5mN/mに調節しそしてこの値を一定に保つように行
う。
次いでスライドを上方から水面を通ってフィルムバラン
ス中に垂直に沈め(沈め速度:20IllIII/分)
そして短い時間(10秒)の後に下限反転点から再び引
き上げる(引上げ速度: 10ma+/分)。沈め並び
に引上げ操作の間に、単分子膜が支持体の上に移る。沈
め工程を上限反転点でのそれぞれ1分間の待ち時間の後
に数回繰り返すことによって、全部で20の重ね層が移
される。移転率は90χである。50以上の単分子膜を
移転した場合でも、光学的にきれいな透明層が得られる
。
ス中に垂直に沈め(沈め速度:20IllIII/分)
そして短い時間(10秒)の後に下限反転点から再び引
き上げる(引上げ速度: 10ma+/分)。沈め並び
に引上げ操作の間に、単分子膜が支持体の上に移る。沈
め工程を上限反転点でのそれぞれ1分間の待ち時間の後
に数回繰り返すことによって、全部で20の重ね層が移
される。移転率は90χである。50以上の単分子膜を
移転した場合でも、光学的にきれいな透明層が得られる
。
4: の および
定
珪素板片(4抛wa X 10+u+)を珪素ウェーフ
ァーから切取り、次のように浄化する: 1.30℃濃度11z(h 1部と濃11zsOi 4
部との新たに造った混合物中で1時間処理する。次いで
きれいな水で洗浄する。
ァーから切取り、次のように浄化する: 1.30℃濃度11z(h 1部と濃11zsOi 4
部との新たに造った混合物中で1時間処理する。次いで
きれいな水で洗浄する。
2、 8114F″i?緩衝したHF−溶液に30秒間
浸漬し、次いできれいな水で洗浄する。
浸漬し、次いできれいな水で洗浄する。
この処理の後に珪素板片は疎水性である(水との接触角
: 75”)。
: 75”)。
モノマー3からのポリマーの層を実施例3における如く
珪素板片の上にラングミュアおよびプロトジェットの方
法によって移す(サブフェイズ:10’Cの水、押し圧
: 20mN/ra、沈め速度=20 mm/分、引上
げ速度: 10mm/分、上限反転点での時間:1分間
)。沈める操作と引き上げ操作の間にいずれの場合にも
単分子膜が移る(移転率=93χ)。いずれの場合にも
ポリマーの10.30.50および70の単分子膜を持
つ試料が得られ、その層の厚さおよびLBフィルムの屈
折率を楕円偏光測定器で測定する(結果: 623nm
での屈折率1 、528、層の厚さ1..66nm/単
分子膜)。
珪素板片の上にラングミュアおよびプロトジェットの方
法によって移す(サブフェイズ:10’Cの水、押し圧
: 20mN/ra、沈め速度=20 mm/分、引上
げ速度: 10mm/分、上限反転点での時間:1分間
)。沈める操作と引き上げ操作の間にいずれの場合にも
単分子膜が移る(移転率=93χ)。いずれの場合にも
ポリマーの10.30.50および70の単分子膜を持
つ試料が得られ、その層の厚さおよびLBフィルムの屈
折率を楕円偏光測定器で測定する(結果: 623nm
での屈折率1 、528、層の厚さ1..66nm/単
分子膜)。
1隻1=然支り比皿足
珪素板片(4抛tm x Loam)を熱酸化珪素ウェ
ーファー(酸化層の厚さ: 160na+)から切り取
り、30χ濃度Hgo□1部と濃硫酸4部との新たに造
った混合物中に60°Cで1時間浸す。きれいな水で十
分に洗浄した後に、珪素板片をアルカリ洗浄液(Bxt
ran/^P 11、濃度: 2〜4 g/l) の
入った超音波浴中で50℃で15分間処理し、きれいな
水で徹底的に洗浄しそして温かい空気流中で乾燥する。
ーファー(酸化層の厚さ: 160na+)から切り取
り、30χ濃度Hgo□1部と濃硫酸4部との新たに造
った混合物中に60°Cで1時間浸す。きれいな水で十
分に洗浄した後に、珪素板片をアルカリ洗浄液(Bxt
ran/^P 11、濃度: 2〜4 g/l) の
入った超音波浴中で50℃で15分間処理し、きれいな
水で徹底的に洗浄しそして温かい空気流中で乾燥する。
次いで、ヘキサメチルジシラザン蒸気で処理(70’C
で10分)して疎水性化する。
で10分)して疎水性化する。
LB−法による被覆を、実施例4に記載されている様に
、モノマー3のポリマーの8つの単分子膜を用いて実施
する。
、モノマー3のポリマーの8つの単分子膜を用いて実施
する。
被覆された支持体を特別な装置中で直線的温度勾配(0
,5℃7秒)にて加熱する。加熱操作の間に、LB−層
の厚さは試料から反射される垂直に偏光したレーザービ
ーム(633nm)の強度によって測定する。層の厚さ
の結果において最初に変化する温度は、用いるポリマー
では110°Cである[参照=22− トリコツ酸(2
2−tricosojc acid)のし8層では、こ
の温度は70°Cである。1゜n−アルカン類(C+J
s4〜C+J、lo)の範囲内の液体の演を、移された
層の表面に乗せ、表面と液滴との接触角を測定する。こ
の接触角からライスマン(Zi3man)の方法に従っ
て臨界表面張力を測定する。26.5 d/sの結果が
得られた。(比較:ポリエチレン表面とでのこの測定で
は、31 sN/−の値が得られた。) 6: 珪素板片(40mlx 10mm)″を実施例4におけ
る如く浄化しそして実施例4における如くモノマ3から
のポリマーの8つの単分子膜で被覆する(サブフェイズ
の温度=10°C)。
,5℃7秒)にて加熱する。加熱操作の間に、LB−層
の厚さは試料から反射される垂直に偏光したレーザービ
ーム(633nm)の強度によって測定する。層の厚さ
の結果において最初に変化する温度は、用いるポリマー
では110°Cである[参照=22− トリコツ酸(2
2−tricosojc acid)のし8層では、こ
の温度は70°Cである。1゜n−アルカン類(C+J
s4〜C+J、lo)の範囲内の液体の演を、移された
層の表面に乗せ、表面と液滴との接触角を測定する。こ
の接触角からライスマン(Zi3man)の方法に従っ
て臨界表面張力を測定する。26.5 d/sの結果が
得られた。(比較:ポリエチレン表面とでのこの測定で
は、31 sN/−の値が得られた。) 6: 珪素板片(40mlx 10mm)″を実施例4におけ
る如く浄化しそして実施例4における如くモノマ3から
のポリマーの8つの単分子膜で被覆する(サブフェイズ
の温度=10°C)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、Yは−O−または−NH−を意味し、Xは式−
(CH_2)_n−または−(CH_2−O−CH_2
)_n−で表される基を意味し、 lは0〜10の整数を意味し、 nは1〜10の整数を意味し、 R^1は水素原子、メチル基、塩素原子、シアノ基、弗
素原子または臭素原子を意味し、 R^2は炭素原子数1〜24のアルキル基または炭素原
子数1〜24のフルオルアルキル基を意味しそして R^3は、基R^2とR^3とが異なる数の炭素原子を
含有しているという条件のもとで、炭素原子数8〜24
のアルキル基または炭素原子数8〜24のフルオルアル
キル基を意味する。] で表される混合鎖構造を持つ両親媒性モノマー。 2)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、Y、lおよびR^1は請求項1に記載の意味を
有する。] で表される化合物を、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、X、Y、R^2およびR^3は請求項1に記載
の意味を有する。] で表される化合物と反応させることを特徴とする、請求
項1に記載のモノマーの製造方法。 3)一般式( I )で表される一種類以上のモノマーを
重合することによって得られるポリマー。 4)式( I )の一種類以上のモノマーまたは一種類以
上の他の親水性または疎水性のコモノマーとを重合する
ことによって得られるコポリマー。 5)重合の結果として、1〜20重量%の一種類以上の
式( I )のモノマーと99〜80重量%の少なくとも
一種類の疎水性コモノマーを含有する請求項4に記載の
コポリマー。 6)重合の結果として、10〜99重量%の一種類以上
の式( I )のモノマーと1〜90重量%の少なくとも
一種類の親水性コモノマーを含有する請求項4に記載の
コポリマー。 7)固体の層支持体と該支持体に適用された請求項3に
記載のポリマーの少なくとも一つの薄い整然とした配列
の固体層とを持つ層要素。 8)固体の層支持体と該支持体に適用された請求項4に
記載のポリマーの少なくとも一つの薄い整然とした配列
の固体層とを持つ層要素。 9)請求項3に記載の少なくとも一種類のポリマーを揮
発性の水混和性有機溶剤に溶解し、該溶液を水/空気−
界面に拡げ、得られる層を溶剤の蒸発後に圧縮しそして
該層をラングミュア・ブロジェット技術によって固体層
支持体に移すことを特徴とする、請求項7に記載の層要
素を製造する方法。 10)請求項4に記載の少なくとも一種類のポリマーを
揮発性の水混和性有機溶剤に溶解し、該溶液を水/空気
−界面に拡げ、得られる層を溶剤の蒸発後に圧縮しそし
て該層をラングミュア・ブロジェット技術によって固体
層支持体に移すことを特徴とする、請求項7に記載の層
要素を製造する方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3843194.7 | 1988-12-22 | ||
DE3843194A DE3843194A1 (de) | 1988-12-22 | 1988-12-22 | Amphiphile monomere mit gemischtkettiger struktur und polymere und film aus mindestens einer monomolekularen schicht daraus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02225449A true JPH02225449A (ja) | 1990-09-07 |
Family
ID=6369819
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1329777A Pending JPH02225449A (ja) | 1988-12-22 | 1989-12-21 | 混合鎖構造を持つ両親媒性モノマー、ポリマーおよび少なくとも一つのそれの単分子膜より成るフィルム |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5120809A (ja) |
EP (1) | EP0374866B1 (ja) |
JP (1) | JPH02225449A (ja) |
AT (1) | ATE107274T1 (ja) |
CA (1) | CA2006421A1 (ja) |
DE (2) | DE3843194A1 (ja) |
DK (1) | DK655589A (ja) |
ES (1) | ES2056186T3 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3911929A1 (de) * | 1989-04-12 | 1990-10-18 | Hoechst Ag | Amphiphile monomere und polymere und film aus mindestens einer monomolekularen schicht daraus |
US5300287A (en) * | 1992-11-04 | 1994-04-05 | Alcon Laboratories, Inc. | Polymeric antimicrobials and their use in pharmaceutical compositions |
DE69501988T2 (de) * | 1994-08-19 | 1998-09-10 | Nippon Paint Co Ltd | Amidmonomer und dessen Polymer |
US5631337A (en) * | 1996-01-19 | 1997-05-20 | Soane Bioscience | Thermoreversible hydrogels comprising linear copolymers and their use in electrophoresis |
US6177485B1 (en) | 1999-02-17 | 2001-01-23 | Hewlett-Packard Company | Polymers derived from unsaturated surfactants for use in ink-jet inks |
CA2370116A1 (en) * | 1999-04-09 | 2000-10-19 | Auburn University | Methods of forming monolayers and uses thereof |
US7138238B2 (en) * | 2001-02-06 | 2006-11-21 | Auburn University | Ligand sensor devices and uses thereof |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2945878A (en) * | 1959-09-15 | 1960-07-19 | Grace W R & Co | Vinyl n, n-dibutyl adipamate |
US4247673A (en) * | 1979-10-15 | 1981-01-27 | Eastman Kodak Company | Crosslinkable polymers derived from amide compounds |
CA1196009A (en) * | 1981-12-10 | 1985-10-29 | Albert C. Chen | Acryloyl and alkylacryloyl polyalkoxy carbamates, compositions thereof and their use in radiation curable coatings |
GB2117669A (en) * | 1982-03-05 | 1983-10-19 | Nat Res Dev | Polymeric films |
DE3731606A1 (de) * | 1987-09-19 | 1989-03-30 | Hoechst Ag | Film aus mindestens einer monomolekularen schicht |
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