JPH02218481A - Washing method - Google Patents

Washing method

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JPH02218481A
JPH02218481A JP4000989A JP4000989A JPH02218481A JP H02218481 A JPH02218481 A JP H02218481A JP 4000989 A JP4000989 A JP 4000989A JP 4000989 A JP4000989 A JP 4000989A JP H02218481 A JPH02218481 A JP H02218481A
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shower
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washing
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Mitsuru Hoshino
充 星野
Atsusuke Sakaida
敦資 坂井田
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NipponDenso Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To achieve high washing effect within a short time by applying shower washing to an object to be washed in the washing solution in a liquid tank by a washing nozzle by forming an air layer at the boundary surface of the shower solution injected from the first nozzle and the washing solution in the liquid tank. CONSTITUTION:Washing nozzles 11, 12 are equipped with the first nozzles 25, 26 injecting a shower solution and the second nozzles 27, 28 injecting air from the outer peripheries of the first nozzles and, when the shower solution is injected from the first nozzles, air is allowed to flow out from the second nozzles to form an air layer around the shower solution injected from the first nozzles. Then, an object 3 to be washed is immersed in the washing solution stored in a liquid tank 3 and an air layer is formed in the washing solution in the liquid tank 2 at the boundary surface of the shower solution injected from the first nozzles and the washing solution in the liquid tank 2 by the washing nozzles 11, 12 to apply shower washing to the object 3 to be washed. As a result, high washing effect can be achieved within a short time without enlarging the washing apparatus.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、被洗浄物をシャワー洗浄するための洗浄方法
に係わり、特に、水溶性フラックスや半田ボールなどの
付着物に汚染された電子部品やIC部品などを洗浄する
のに好適な洗浄方法に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a cleaning method for shower cleaning objects to be cleaned, and in particular, to electronic components contaminated with deposits such as water-soluble flux and solder balls. The present invention relates to a cleaning method suitable for cleaning IC parts, etc.

[従来の技術] 従来より、上記のような汚染された電子部品やIC部品
などを洗浄するための洗浄方法としては、洗浄用ノズル
を備えた洗浄装置により、大気中で、電子部品やIC部
品などの被洗浄物に洗浄液を噴射してシャワー洗浄する
方法がある。
[Prior Art] Conventionally, as a cleaning method for cleaning contaminated electronic components and IC components as described above, electronic components and IC components are cleaned in the atmosphere using a cleaning device equipped with a cleaning nozzle. There is a method of shower cleaning by spraying cleaning liquid onto the object to be cleaned.

この洗浄装置は、例えば、第6図に示すように、内部が
仕切壁101によって3つの洗浄槽102a、102b
、102Cに区画された液槽102を備え、各洗浄槽1
02a、102b、102cの上部には、被洗浄物(図
示しない)に洗浄液を噴射してシャワー洗浄を行うため
洗浄用ノズル103.104.105が設けられている
For example, as shown in FIG. 6, this cleaning device has three cleaning tanks 102a and 102b inside separated by a partition wall 101.
, 102C, each cleaning tank 1
Washing nozzles 103, 104, and 105 are provided above the objects 02a, 102b, and 102c to perform shower cleaning by spraying a cleaning liquid onto an object to be cleaned (not shown).

被洗浄物は、マガジン106に収納され、コンペア10
7によって搬送される。
The items to be cleaned are stored in the magazine 106 and the compare 10
7.

各洗浄槽102a、102b、102cノ内部には、そ
れぞれ洗浄液が蓄えられており、各洗浄槽102a、1
02b、102C内に設けられたヒータ108、109
.110によって加熱される。
A cleaning liquid is stored inside each cleaning tank 102a, 102b, 102c.
Heaters 108 and 109 provided in 02b and 102C
.. 110.

各洗浄槽102a、102b、102Cと各洗浄用ノズ
ル103.104.105とは、それぞれ’fR景調節
弁111.112.113を備えた配水管114.11
5.116によって接続されており、各洗浄槽102a
、102b、102C内からポンプ11γ、118.1
19によって汲み上げられた洗浄液が、フィルタ120
.121.122を通して各洗浄用ノズル103.10
4.105に供給される。
Each cleaning tank 102a, 102b, 102C and each cleaning nozzle 103.104.105 are water pipes 114.11 each equipped with a 'fR view control valve 111.112.113.
5.116, each cleaning tank 102a
, 102b, 102C from inside the pump 11γ, 118.1
The cleaning liquid pumped up by the filter 120
.. 121.122 through each cleaning nozzle 103.10
4.105.

また、各配水管114.115.116には、ポンプ1
1γ、118.119ノ下流より、直接各洗浄槽102
a、102b、102C内に連通ずるバイパス管123
.124.125が接続されており、各バイパス管12
3.124.125には、それぞれ、バイパス管123
.124.125を開閉する開閉バルブ126.127
.128が設けられている。
In addition, each water pipe 114, 115, 116 has a pump 1.
Directly from the downstream of 1γ, 118 and 119, each cleaning tank 102
Bypass pipe 123 communicating with a, 102b, and 102C
.. 124 and 125 are connected, each bypass pipe 12
3.124.125, bypass pipe 123 respectively.
.. Opening/closing valve 126.127 to open/close 124.125
.. 128 are provided.

マガジン106に収納された被洗浄物は、コンベア10
7によって各洗浄槽102a、102b、102Cの上
部を順に搬送され、各洗浄用ノズル103.104.1
05によってシャワー洗浄される。
The items to be cleaned stored in the magazine 106 are transported to the conveyor 10.
7 to the upper part of each cleaning tank 102a, 102b, 102C in order, and each cleaning nozzle 103.104.1
Shower cleaning by 05.

[発明が解決しようとする課題] しかるに、上記した洗浄装置による洗浄方法は、大気中
でシャワー洗浄を行うものであるなめ、シャワー液が直
接当たる部分の洗浄には効果があるが、ICチップを実
装したプリント基板や、抵抗器やコンデンサなどの回路
部品を組み付けた電子回路基板などの被洗浄物では、I
Cチップや各回路部品に遮断されて、シャワー液が直接
当ならない部分の洗浄には効果が小さい9 従って、洗浄効果を高めるためには、洗浄時間を長くす
る、あるいはシャワー洗浄と別工程で、超音波や揺動に
よる浸漬洗浄を必要とするため、洗浄装置が大型化する
とともに複雑化し、コストが高くなる課題を有していた
[Problems to be Solved by the Invention] However, the cleaning method using the above-mentioned cleaning device performs shower cleaning in the atmosphere, and although it is effective in cleaning the parts that are directly exposed to the shower liquid, it is not effective for cleaning the IC chip. Items to be cleaned such as mounted printed circuit boards and electronic circuit boards assembled with circuit components such as resistors and capacitors must be
It is less effective in cleaning areas that are blocked by the C-chip and various circuit components and are not directly exposed to shower liquid.9 Therefore, in order to increase the cleaning effect, the cleaning time must be lengthened or the shower cleaning process must be done in a separate process. Since immersion cleaning using ultrasonic waves or rocking is required, the cleaning equipment becomes larger and more complex, resulting in higher costs.

なお、被洗浄物を洗浄液中に浸漬し、その洗浄液中でシ
ャワー洗浄を行うことも考えられるが、この場合には、
キャビテーションの発生や、ノズルから噴射されるシャ
ワー液と液槽内の洗浄液との境界摩擦によるシャワー液
の拡散などによって、シャワー液の直進性が低下すると
ともに、打撃力が半減する。このため、大気中における
シャワー洗浄のような洗浄効果を得ることはできない。
It is also possible to immerse the object to be cleaned in a cleaning liquid and perform shower cleaning in the cleaning liquid, but in this case,
Due to the occurrence of cavitation and the diffusion of the shower liquid due to boundary friction between the shower liquid sprayed from the nozzle and the cleaning liquid in the liquid tank, the straightness of the shower liquid decreases and the impact force is halved. Therefore, it is not possible to obtain a cleaning effect similar to shower cleaning in the atmosphere.

本発明は、上記事情に基づいてなされたもので、その目
的は、洗浄装置を大型化することなく、且つ短時間の洗
浄時間で、高い洗浄効果を得ることのできる洗浄方法を
提供することにある。
The present invention has been made based on the above circumstances, and its purpose is to provide a cleaning method that can obtain high cleaning effects in a short cleaning time without increasing the size of the cleaning device. be.

[課題を解決するための手段] 本発明は上記目的を達成するために、シャワー液が噴射
される第1ノズル、および該第1ノズルの外周より気体
が流出される第2ノズルを有し、前記第1ノズルからシ
ャワー液を噴射する際に、前記第2ノズルから気体を流
出することにより、前記第1ノズルから噴射されたシャ
ワー液の外周に気体の層を形成する洗浄用ノズルを備え
、被洗浄物を液槽内に蓄えられた洗浄液中に浸漬し、前
記洗浄用ノズルにより、前記液槽内の洗浄液中で、前記
第1ノズルから噴射されたシャワー液と前記液槽内の洗
浄液との境界面に気体の層を形成して前記被洗浄物をシ
ャワー洗浄することを技術的手段として採用する。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the present invention includes a first nozzle through which shower liquid is injected, and a second nozzle through which gas flows out from the outer periphery of the first nozzle. a cleaning nozzle that forms a layer of gas around the outer periphery of the shower liquid injected from the first nozzle by causing gas to flow out from the second nozzle when the shower liquid is injected from the first nozzle; The object to be cleaned is immersed in a cleaning liquid stored in a liquid tank, and the cleaning nozzle separates the shower liquid sprayed from the first nozzle and the cleaning liquid in the liquid tank into the cleaning liquid in the liquid tank. As a technical means, the object to be cleaned is shower-cleaned by forming a gas layer on the boundary surface of the cleaning object.

[作用および発明の効果] 本発明によれば、液槽内の洗浄液中で、洗浄用ノズルか
ら噴射されたシャワー液と液槽内の洗浄液との境界面に
気体の層が形成されるため、キャビテーションの発生に
よるシャワー液の減衰や、シャワー液と液槽内の洗浄液
との境界摩擦によるシャワー液の拡散を低減させること
ができる。このため、液槽内の洗浄液中でも、強力で直
進性のよいシャワー洗浄を行うことができる。
[Operations and Effects of the Invention] According to the present invention, a gas layer is formed in the cleaning liquid in the liquid tank at the interface between the shower liquid injected from the cleaning nozzle and the cleaning liquid in the liquid tank. Attenuation of the shower liquid due to cavitation and diffusion of the shower liquid due to boundary friction between the shower liquid and the cleaning liquid in the liquid tank can be reduced. Therefore, powerful and straight-moving shower cleaning can be performed even with the cleaning liquid in the liquid tank.

また、強力なシャワー洗浄が行われることにより、被洗
浄物の表面で、洗浄液と気泡の混合物が形成されること
から、被洗浄物の表面付近が攪拌される。
In addition, by performing powerful shower cleaning, a mixture of the cleaning liquid and air bubbles is formed on the surface of the object to be cleaned, so that the vicinity of the surface of the object to be cleaned is agitated.

このように、被洗浄物を液槽内の洗浄液中で浸漬洗浄す
るとともに、強力なシャワー洗浄を行うことにより、シ
ャワー液が直接当たる部分の洗浄効果が高いのは言うま
でもなく、シャワー液が直接当たらない箇所の洗浄も行
うことができる。
In this way, by immersing the object to be cleaned in the cleaning liquid in the liquid tank and performing a powerful shower cleaning, it goes without saying that the cleaning effect of the parts that are directly hit by the shower liquid is high, but it is also possible to wash the parts that are directly hit by the shower liquid. You can also clean areas that are not covered.

従って、本発明の洗浄方法によれば、高い洗浄効果が得
られることから、従来より洗浄時間を短くすることがで
きる。また、洗浄工程や液槽内に形成される洗浄槽の数
を減少することができるとともに、洗浄液中でのシャワ
ー洗浄であることから、シャワー液の飛散がなく、小型
でシンプルな構成の洗浄装置を提供することができる。
Therefore, according to the cleaning method of the present invention, a high cleaning effect can be obtained, so that the cleaning time can be shortened compared to the conventional method. In addition, the cleaning process and the number of cleaning tanks formed in the liquid tank can be reduced, and since shower cleaning is performed in the cleaning liquid, there is no scattering of the shower liquid, and the cleaning device has a small and simple configuration. can be provided.

[実施例] 次に、本発明の洗浄方法を、図面に示す一実施例に基づ
き説明する。
[Example] Next, the cleaning method of the present invention will be explained based on an example shown in the drawings.

第1図は本発明の洗浄方法を採用した洗浄装置の全体概
略図、第2図は洗浄用ノズルの断面図である。
FIG. 1 is an overall schematic diagram of a cleaning device employing the cleaning method of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view of a cleaning nozzle.

本実施例の洗浄装置1は、液槽2内に蓄えられた洗浄液
(本実施例では水)中で、フラックスや油脂などに汚染
された電子部品や精密部品などの被洗浄物3(第4図お
よび第5図参照)をシャワー洗浄するものである。
The cleaning device 1 of this embodiment cleans the cleaning liquid (water in this embodiment) stored in a liquid tank 2 by cleaning an object 3 (a fourth (see Figures 1 and 5).

液槽2は、加熱された洗浄液を蓄えておくため、底部よ
り所定の高さまでの外枠が断熱材2aによって形成され
ており、液槽2の上部開放端には、蓋2bが被ぜられて
いる。
In order to store the heated cleaning liquid, the liquid tank 2 has an outer frame formed from a heat insulating material 2a from the bottom to a predetermined height, and the upper open end of the liquid tank 2 is covered with a lid 2b. ing.

液相2の内部は、仕切壁4によって2つの洗浄槽5.6
に区画され、各洗浄槽5.6の底部には、洗浄槽5.6
内に蓄えられた洗浄液を加熱するためのヒータ7.8が
設置されている。
The interior of the liquid phase 2 is divided into two cleaning tanks 5 and 6 by a partition wall 4.
At the bottom of each cleaning tank 5.6, there is a cleaning tank 5.6.
A heater 7.8 is installed for heating the cleaning liquid stored therein.

液槽2内には、被洗浄物3をマガジン9に収納して搬送
するコンベア10が組み込まれている。
A conveyor 10 is built into the liquid tank 2 for storing the objects 3 to be cleaned in a magazine 9 and conveying them.

コンベア10の搬送経路は、第1図に示すように、液槽
2の外部より、液槽2の」一部側壁に形成された開口部
2Cを通って液槽2内に入り、洗浄槽5内および洗浄槽
6内を経て、開口部2Cより再び液槽2の外部に至る循
環経路である。
As shown in FIG. 1, the conveyor 10 enters the liquid tank 2 from outside the liquid tank 2 through an opening 2C formed in a side wall of the liquid tank 2, and enters the cleaning tank 5. This is a circulation path that passes through the inside of the liquid tank 6 and the inside of the cleaning tank 6, and then reaches the outside of the liquid tank 2 again from the opening 2C.

液槽2の側壁には、各洗浄槽5.6内の洗浄液中で、被
洗浄物3にシャワー洗浄を行うための洗浄用ノズル11
.12が、それぞれ取り付けられている。
A cleaning nozzle 11 is provided on the side wall of the liquid tank 2 for shower cleaning the object 3 in the cleaning liquid in each cleaning tank 5.6.
.. 12 are attached to each.

この洗浄用ノズル11.12は、洗浄槽5.6内のほぼ
中央部で、ノズル先端が上方を向くように設けられてい
る。
The cleaning nozzle 11.12 is provided approximately at the center of the cleaning tank 5.6 so that the nozzle tip faces upward.

各洗浄用ノズル11.12は、それぞれ流量調節弁13
.14を備えた配水管15.16によって洗浄槽5.6
内と接続されており、配水管15.16には、洗浄槽5
.6内から洗浄用ノズル11.12に洗浄液を供給する
ポンプ17.18と、該ポンプ17.18によって供給
された洗浄液を沢過するフィルタ19.20とが設けら
れている。
Each cleaning nozzle 11.12 has a flow rate control valve 13.
.. Cleaning tank 5.6 by water pipe 15.16 with 14
The cleaning tank 5 is connected to the water pipes 15 and 16.
.. A pump 17.18 for supplying cleaning liquid from inside the cleaning nozzle 11.12 to the cleaning nozzle 11.12, and a filter 19.20 for passing through the cleaning liquid supplied by the pump 17.18 are provided.

また、配水管15.16には、ポンプ17.18の下流
から直接洗浄槽5.6内に連通ずるバイパス管21.2
2が接続され、このバイパス管21.22には開閉バル
ブ23.24が設けられている。
The water distribution pipe 15.16 also includes a bypass pipe 21.2 which directly communicates with the washing tank 5.6 from downstream of the pump 17.18.
2 is connected, and this bypass pipe 21.22 is provided with an on-off valve 23.24.

従って、洗浄用ノズル11.12から噴射されるシャワ
ー液(洗浄液)の圧力および流量の調節は、配水管15
.16に設けられた流ffi調節弁13.14とバイパ
ス管21.22に設けられた開閉バルブ23.24とに
よって行われる。
Therefore, the pressure and flow rate of the shower liquid (cleaning liquid) sprayed from the cleaning nozzles 11 and 12 can be adjusted by using the water pipe 15.
.. This is done by a flow ffi control valve 13.14 provided in the bypass pipe 21.22 and an on-off valve 23.24 provided in the bypass pipe 21.22.

本実施例の洗浄用ノズル11.12は、第2図に示すよ
うに、第1ノズル25.26と、該第1ノズル25.2
6の先端外周部に所定の空間を有して、第1ノズル25
.26の先端外周部に嵌め合わされた第2ノズル27.
28とから構成されている。
As shown in FIG. 2, the cleaning nozzle 11.12 of this embodiment includes a first nozzle 25.26 and a first nozzle 25.2.
The first nozzle 25 has a predetermined space around the tip end of the first nozzle 25.
.. The second nozzle 27. is fitted to the outer peripheral portion of the tip of the second nozzle 27.
It consists of 28.

第1ノズル251.26と第2ノズル27.28とは、
第1ノズル25.26の後端側外周部に形成された雄ね
じ部25a、2f3aと第2ノズル27.28の後端側
内周部に形成された雌ねじ部27a、28aとを螺合さ
せることで組み付けられ、ロックナツト29.30によ
って、第1ノズル25.26と第2ノズル27.28と
の相対的な位置決めが行われる。
The first nozzle 251.26 and the second nozzle 27.28 are
To screw together the male threaded portions 25a, 2f3a formed on the outer circumferential portion of the rear end of the first nozzle 25.26 and the female threaded portions 27a, 28a formed on the inner circumferential portion of the rear end of the second nozzle 27.28. The first nozzle 25.26 and the second nozzle 27.28 are positioned relative to each other by a lock nut 29.30.

第1ノズル25.26は、配水管15.16に接続され
、先端部(第2図左端)に形成された第1噴射口25b
、26bよりシャワー液が噴射される。
The first nozzle 25.26 is connected to the water pipe 15.16 and has a first injection port 25b formed at the tip (left end in FIG. 2).
, 26b spray the shower liquid.

第2ノズル27.28は、先端部に、第1ノズル25.
26の第1噴射口と同心上に設定された第2噴射ロ27
b、28bが形成されるとともに、先端寄りの外周側壁
に、前記した所定の空間である空気溜まり部27c、2
8cと連通する貫通穴27d−286が形成されている
。この貫通穴27d、28dには、外部より加圧空気が
供給され、空気溜まり部27c、28Cに導かれる。な
お、第1ノズル25.2Gと第2ノズル27.28とは
、0リング31.32を介して嵌め合わされており、空
気溜まり部27c、28cに導かれた加圧空気が、第1
ノズル25.26と第2ノズル27.28との結合部か
ら漏れることはない。
The second nozzle 27.28 has a tip end connected to the first nozzle 25.28.
The second injection port 27 is set concentrically with the first injection port 26.
b, 28b are formed, and air pockets 27c, 28b, which are the predetermined spaces described above, are formed on the outer peripheral side wall near the tip.
A through hole 27d-286 is formed which communicates with the hole 8c. Pressurized air is supplied from the outside to the through holes 27d and 28d, and is guided to the air pockets 27c and 28C. Note that the first nozzle 25.2G and the second nozzle 27.28 are fitted together via an O-ring 31.32, and the pressurized air guided to the air pockets 27c and 28c is
There is no leakage from the joint between the nozzle 25.26 and the second nozzle 27.28.

第2ノズル27.28の第2噴射ロ27b、28bは、
先端面よりテーパ状に窪んだ位置に形成され、第1噴射
口25b、26bとの間隔が狭められている。
The second injection holes 27b and 28b of the second nozzles 27 and 28 are
It is formed at a position that is tapered and depressed from the tip surface, and the distance between it and the first injection ports 25b and 26b is narrowed.

この洗浄用ノズル11.12は、第1噴射口25b、2
6bより噴射されるシャワー液の流出圧力が、空気溜ま
り部27c、28cに導かれた加圧空気の圧力より高く
なるように設定されている。このため、第1噴射口25
b、26bより噴射されたシャワー液と、空気溜まり部
27c、28cに供給された加圧空気とは、シャワー液
の外周に加圧空気が巻き込まれながら第2噴射口2γも
、28bより噴射される。
This cleaning nozzle 11.12 has first injection ports 25b, 2
The outflow pressure of the shower liquid injected from 6b is set to be higher than the pressure of the pressurized air guided to the air reservoirs 27c and 28c. For this reason, the first injection port 25
The shower liquid injected from b and 26b and the pressurized air supplied to the air pockets 27c and 28c are injected from the second injection port 2γ as well while the pressurized air is drawn around the outer periphery of the shower liquid. Ru.

従って、洗浄槽5.6内の洗浄液中では、第3図に示す
ように、第2噴射ロ27b、28bから噴射されたシャ
ワー液Aと洗浄槽5.6内の洗浄液Bとの境界面に、加
圧空気による空気層Cが形成される。
Therefore, in the cleaning liquid in the cleaning tank 5.6, as shown in FIG. , an air layer C is formed by pressurized air.

次に、本実施例の作動について説明する。Next, the operation of this embodiment will be explained.

被洗浄物3を収納したマガジン9をコンベア10に装着
し、開口部2Cより液槽2内に搬入する。
The magazine 9 containing the objects 3 to be cleaned is mounted on the conveyor 10 and carried into the liquid tank 2 through the opening 2C.

まず、洗浄槽5.6内の洗浄用ノズル11.12の上部
位置で、液中シャワー洗浄および浸漬洗浄によって荒洗
浄を行う。次に、洗浄槽5.6内の洗浄用ノズル11.
12の上部位置で、洗浄槽5.6内と同様の液中シャワ
ー洗浄および浸漬洗浄による仕上げ洗浄を行う。
First, rough cleaning is performed by submerged shower cleaning and immersion cleaning at the upper position of the cleaning nozzle 11.12 in the cleaning tank 5.6. Next, the cleaning nozzle 11. in the cleaning tank 5.6.
At the upper position of No. 12, final cleaning is performed by submerged shower cleaning and immersion cleaning similar to that in the cleaning tank 5.6.

この結果、例えば、第4図および第5図に示すように、
付着物(水溶性フラックスや半田ボールなど)33が、
被洗浄物3であるICチップ3aや、抵抗器およびコン
デンサなどの回路部品3bに覆われている場合でも、強
力なシャワー洗浄によって付着物33を除去することが
できるとともに、浸漬洗浄によって、洗い残しの補足洗
浄や、基板裏面に付着した付着物34の除去を行うこと
ができる。
As a result, for example, as shown in FIGS. 4 and 5,
Deposits (water-soluble flux, solder balls, etc.) 33 are
Even if the object 3 to be cleaned is covered with the IC chip 3a or circuit components 3b such as resistors and capacitors, the deposits 33 can be removed by powerful shower cleaning, and the residue can be removed by immersion cleaning. Supplementary cleaning can be performed, and deposits 34 attached to the back surface of the substrate can be removed.

一般に、液中でシャワー洗浄を行った場合には、シャワ
ー液の勢いが減衰されるため、大気中におけるシャワー
洗浄と比較して洗浄効果が低くなる。
Generally, when shower cleaning is performed in a liquid, the force of the shower liquid is attenuated, so that the cleaning effect is lower than that of shower cleaning in the atmosphere.

これに対して、本実施例の場合には、洗浄槽5.6内の
洗浄液中で、洗浄用ノズル11.12より噴射されたシ
ャワー液の外周に空気層が形成されることで、キャビテ
ーションの発生によるシャワー液の減衰や、シャワー液
と洗浄槽5.6内の洗浄液との境界窄擦によるシャワー
液の拡散を低減させることができるため、強力で直進性
のよいシャワー洗浄を行うことができる。また、強力な
シャワー洗浄によって、被洗浄物3の表面で、洗浄液と
気泡の混合物が形成されることから、被洗浄物3の表面
付近が攪拌される。
On the other hand, in the case of this embodiment, an air layer is formed around the outer periphery of the shower liquid sprayed from the cleaning nozzle 11.12 in the cleaning liquid in the cleaning tank 5.6, thereby preventing cavitation. Since it is possible to reduce the attenuation of the shower liquid due to generation and the diffusion of the shower liquid due to the narrowing of the boundary between the shower liquid and the cleaning liquid in the cleaning tank 5.6, it is possible to perform powerful and straight shower cleaning. . Further, due to the strong shower cleaning, a mixture of the cleaning liquid and air bubbles is formed on the surface of the object 3 to be cleaned, so that the vicinity of the surface of the object 3 to be cleaned is agitated.

このように、洗浄液中での強力なシャワー洗浄と浸漬洗
浄とによって、能率的で高い洗浄効果を得ることができ
る。
In this way, efficient and high cleaning effects can be obtained by powerful shower cleaning and immersion cleaning in the cleaning liquid.

従って、本発明の洗浄方法によれば、従来より洗浄時間
を短縮して効果的な洗浄を行うことができる。
Therefore, according to the cleaning method of the present invention, it is possible to perform effective cleaning with a shorter cleaning time than in the past.

また、洗浄効果が高いことがら、洗浄工程や洗浄槽5.
6の数を減少することができるとともに、洗浄液中での
シャワー洗浄であることから、シャワー液の飛散がない
。これらの結果、洗浄装置1をシンプルな構成で小型化
することができ、コストを低減することができる。
In addition, since the cleaning effect is high, cleaning process and cleaning tank 5.
6 can be reduced, and since the shower cleaning is performed in the cleaning liquid, there is no scattering of the shower liquid. As a result, the cleaning device 1 can be downsized with a simple configuration, and costs can be reduced.

(変形例) 本実施例では、洗浄液として水を使用したが、水に限定
する必要はなく、アルカリ液やアルコール液など、他の
液体を使用してもよい。
(Modified Example) In this embodiment, water is used as the cleaning liquid, but there is no need to limit it to water, and other liquids such as alkaline liquid and alcoholic liquid may be used.

同様に、加圧空気を供給してシャワー液の外周に空気層
を形成したが、窒素ガスやヘリウムガスなどの他の気体
を使用してもよい。
Similarly, although pressurized air was supplied to form an air layer around the shower liquid, other gases such as nitrogen gas or helium gas may be used.

洗浄範囲を拡大させたい場合や、洗浄効果を向上させた
い場合などには、洗浄用ノズル11.12または被洗浄
物3を揺動させたり、洗浄用ノズル11.12の本数を
増やして高密度ノズルとしてもよい。
When you want to expand the cleaning range or improve the cleaning effect, you can swing the cleaning nozzle 11.12 or the object to be cleaned 3, or increase the number of cleaning nozzles 11.12 to achieve high density cleaning. It may also be used as a nozzle.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図ないし第5図は本発明の一実施例を示すもので、
第1図は洗浄装置の全体概略図、第2図は洗浄用ノズル
の断面図、第3図は洗浄用ノズルから噴射されるシャワ
ー液の状態図、第4図および第5図は被洗浄物の斜視図
および側面図であり、第6図は従来の洗浄装置の一例を
示す全体概略図である。 図中 2・・・液槽 3・・・被洗浄物 11. 12・・・洗浄用ノズ ル 25.26・・・第1ノズル 27.28・・・第2ノズル 代 理 人 石黒健二 第4図 議 第5図
1 to 5 show an embodiment of the present invention,
Figure 1 is an overall schematic diagram of the cleaning device, Figure 2 is a sectional view of the cleaning nozzle, Figure 3 is a state diagram of the shower liquid sprayed from the cleaning nozzle, and Figures 4 and 5 are the objects to be cleaned. FIG. 6 is an overall schematic diagram showing an example of a conventional cleaning device. In the figure 2...Liquid tank 3...Object to be cleaned 11. 12...Cleaning nozzle 25.26...1st nozzle 27.28...2nd nozzle agent Kenji Ishiguro 4th diagram Figure 5

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)シャワー液が噴射される第1ノズル、および該第1
ノズルの外周より気体が流出される第2ノズルを有し、
前記第1ノズルからシャワー液を噴射する際に、前記第
2ノズルから気体を流出することにより、前記第1ノズ
ルから噴射されたシャワー液の外周に気体の層を形成す
る洗浄用ノズルを備え、 被洗浄物を液槽内に蓄えられた洗浄液中に浸漬し、前記
洗浄用ノズルにより、前記液槽内の洗浄液中で、前記第
1ノズルから噴射されたシャワー液と前記液槽内の洗浄
液との境界面に気体の層を形成して前記被洗浄物をシャ
ワー洗浄することを特徴とする洗浄方法。
[Claims] 1) a first nozzle through which shower liquid is sprayed;
It has a second nozzle through which gas flows out from the outer periphery of the nozzle,
a cleaning nozzle that forms a layer of gas around the outer periphery of the shower liquid injected from the first nozzle by causing gas to flow out from the second nozzle when the shower liquid is injected from the first nozzle; The object to be cleaned is immersed in a cleaning liquid stored in a liquid tank, and the cleaning nozzle separates the shower liquid sprayed from the first nozzle and the cleaning liquid in the liquid tank into the cleaning liquid in the liquid tank. A cleaning method characterized in that the object to be cleaned is shower-cleaned by forming a gas layer on the boundary surface of the object.
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