JPH02218333A - 中心視鑑定器械及び中心視鑑定法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、網膜の中心窩（黄斑）区域［ｆｏｖｅａｃｅ
ｎｔｒａｌｉｓ（ｍａｃｕｌａ）ａｒｅａ　）の視力機
能（ｖｉｓｕａｌｆｕｎｃｔｉｏｎ）とくに年令関連の
黄斑退行変化により生ずる中心視すなわち中心視覚（ｆ
ｏｖｅａＨｍａｃｕｌａｒ）ｖｉｓｉｏｎ〕の病理学的
な漸増変化を精密に測定する器械に関する。

〔問題点〕

中心窩すなわち黄斑は、網膜の最高の視力（ｖｉｓｕａ
ｌａｃｕｉｔｙ）を示す小さい区域（直径的０．３＋ｍ
）である。

年輩のわく内の多くの人達は中心窩の退行変化と視力機
能の喪失とを生ずる病理学的過程たとえば年令関連黄斑
退行変化（ＡＭＤ　）　　と呼ばれる過程により影響さ
れる。ＡＭＤは、中心窩の感度の喪失（すなわち低下し
た強さ、不明瞭、分裂又はその他のゆがみから中心視の
完全な喪失まで進む。寿命の増加によって、なお−層多
くの人達がＡ　Ｍ　Ｄに対し弱くなり、このことは視力
不能の著しい源になる。

Ａ　Ｍ　Ｄにより中心窩は、独自に変化する割合で視力
機能を失う不規則な区分に退行変化する。

ＡＭＤは、変化する視力喪失の不規則な区分に特性的に
退行変化する唯一の窩条件である。中心視の異常のその
他の原因により、全中心窩区域にわたって実質的に−様
な喪失が生ずる。

ＡＭＤ　により生ずる中心窩の退行変化を鑑定するには
、中心窩セグメンテーショ７　（ｆｏｖｅａｌ　ｓｅｇ
＋ｎｅ−ｎｔａｔｌｏｎ）を検出し各セグメント内の増
大する異常又は変化を測定することが必要である。この
ような鑑定は、発病を検知し中心窩の退行変化の進行を
監視することにより早期の有効な医学的処置を容易にす
るのに必要である。さらに、中心窩の退行変化の精密な
鑑定を行わないと、実験的処理の有効性を判定すること
が極めて問題になる。

従ってＡＭＤの検出及び処置の補助として中心窩の視力
機能の漸増的な異常及び変化を測定することを含む中心
窩セグメンテーション及び退行変化を精密に鑑定するこ
とのできる中心視鑑定器械が必要となる。

〔従来の技術〕

視力を検査する既存の器械は視力の喪失に伴う屈折誤差
を測定し補正するためのものである。

ＡＭＤ症状は、中心窩を検眼鏡で観察することにより識
別することができる。しかし病気の中心窩の観察された
特性は、視力障害又は視力障害の変化に関連しなくて、
中心窩の視力の退行変化を鑑定するのに使うことができ
ない。

これ等の器械はＡＭＤの開始期又は進行を鑑定するには
有効でない。その理由は、これ等の器械が（ａｌ中心窩
で隔離し、（ｂ）中心窩セグメンテーションを検出し、
又は（ｃｌ中中心の漸増的異常又は変化を監視すること
ができないからである。これ等の器械は、中心窩の視野
にわたって異常な区域、すなわち若干の中心窩セグメン
ト内に局限して低下した強さ、不明瞭又は細分或はこれ
等の全部として明示することのできる異常を識別し又は
位置決めすることができない。

たとえば２０ｆｔ　　の標準の投射距離で、中心窩視野
はスクリーン上直径的１５ＣＷＬの中心区域である。

利用できる器械はどれも、像要素の寸法、存在又はコン
トラストの漸増的変化を生じさせ中心視向の中心窩セグ
メンテーション及び漸増的異常を識別し証明するように
、中心窩視野内に文字又は記号の像配列を投射すること
ができない。

一般に網膜の生理学及び病理学についての知識は進歩し
ているが、とくに中心窩退行変化の病理学的生理学につ
いての詳細な情報は、中心視が失われるまで数週間ない
し数年の期限にわたってＡＭＤの犠牲が中心窩視野の退
行変化を予知できないほどに経験するという観察以上に
は明示されていない。実際上中心視を鑑定する器械がな
いので中心窩病理学についての知識は主として検体の眼
から誘導しなければならない。

〔発明の目的及び要約〕

本発明の目的は、中心窩セグメンテーションと中心視の
漸増的変化又は異常とを識別して、中心窩の退行変化の
開始及び進行と医学的治療の効果とを監視するのに使う
ことのできる中心窩輪郭を発展させることにより、網膜
の窩（黄斑）区域内の視力機能の退行変化の精密な鑑定
を行うことにある。

本発明は、窩視力及び退行変化を精密に鑑定する窩視力
鑑定の器械及び方法にある。本発明器械は、 （ａｌ実質的に高視野内にある文字又は記号の像配列を
投射し、 （ｂ）患者の反応に基づいて像要素の寸法に漸増的変化
を生じさせ、 これにより任意の高分割と窩視力の異常又は変化とを含
む窩視力を測定する。

窩視力を測定し窩退行変化の状態を検出する窩視力鑑定
法は、 （ａｌ窩視野内に小さすぎて患者が識別することのでき
ない文字や記号の像配列を投射し、（ｂ）第１のθ別が
できるまで、各°像要素の寸法を漸増的に増すことから
成っている。

全部の像要素を均等に識別することができ寸法が２０　
／　２０に相当するものであれば中心窩の退行変化は存
在しない。要素が見られないか又は不明瞭であり或はゆ
がんでいる場合には、中心窩の退行変化を測定する方法
は、 （ｃｌｌ偶像要素寸法を漸増的に増し、本来見えない又
はゆがんで見える要素を観察し、 ｔｄｌこれ等の要素がはっきり見える倍率レベルを記録
し、 ｔｅｌ見えないままになっている要素又は決してはつき
りは見えない要素の観察された特性（たとえば低下した
強さ、不明瞭、分裂、ゆがみ、フリッカ−）を記録する
ことから成っている。

任意の与えられた中心窩セグメントに対し正常な中心視
に必要な値を越えた倍率レベルはこの区分に対する視力
機能のレベルである。

好適な実施例では像配列の寸法の漸増的変化を行う機能
は、 （ａｌズーム倍率調整を制御することにより中心窩視野
内の投射像配列要素の寸法を選択的に制御し、（ｂ）絞
り調整を制御することにより投射像の明るさを選択的に
制御する。

ズーム投射光学装置により行われる。

寸法及び明るさの調整は互いに無関係に行われるが、こ
れ等の調整は互いに関連させて像ズーム倍率が変る際に
像明るさを一定に保つようにする。

好適な実施例では中心視鑑定器械は、像配列内の任意の
要素を選択的に削除しさらに中心視の漸増的変化の効果
を試験するようにした像要素削除システムを備えている
。この機能はビーム偏光光学装置及び像要素削除光学装
置により行われる。

ビーム偏光光学装置は、 ［ａｌ像ビーム及び公称ビームと称する２条の直交偏光
ビームを生じ、 （ｂｌ像ビームを文字又は記号から成る配列の像透明度
を経て差向け、 ｔｅｌ像ビーム及び公称ビームを、像配列をその像ビー
ム成分内に運ぶ偏光投射ビームに再合成する。

偏光投射ビームは、長居偏光回転体部品（像配列の各要
素への各透過径路を形成する房を持つ）ト偏光ビームセ
レクタ部品とにより形成した子房電気−光学的シャツタ
を備えた像要素削除光学装置に伝送する。この光学装置
は、 Ｔｄｌ削除しようとする像要素に対応する偏光回転体の
房を経て伝送する偏光投射ビーム（像ビーム成分及び公
称ビーム成分）の選定した部分の偏光を９０°だけ回転
し、 ｔｅ＞像ビーム成分が偏光ビームセレクタを透過する際
に像ビーム成分の選定した部分を削除する。

像ビーム成分の選定した部分に生ずる偏光回転は偏光ビ
ームセレクタで交差偏光する。

好適な実施例では中心視鑑定器械は、投射像配列を変え
ることのできる像選択システムを備えている。この機能
は、周辺のまわりに配置した複数の像透明度（それぞれ
一定の像配列を持つ）を持つ透明度円板を設けることに
よって行われる。この円板は偏光投射ビームの像ビーム
成分の径路に選定した像透明度が位置するまで回転する
。すなわち投射像配列の各要素を漸増的に削除するのに
像要素削除システムを使うほかに、全像配列を変えるこ
とができる。

若干の特長及び利点 本発明の特長及び利点のうちには次のものがある。像配
列は、中心窩視野内に投射し中心視機能を隔離して鑑定
する。配列の像要素は寸法を選択的にかつ漸増的に変え
各中心窩セグメンテーション及び視力機能の精密な鑑定
を行う。選定した像要素は削除し、さらに中心窩セグメ
ンテーション及び視力機能の詳細な鑑定を行う。ズーム
倍率の調整及び絞り調整を相互に関連させ、ズーム倍率
の変化に伴い絞り調整を像明るさに対し補償することが
できる。像配列は回転円板に像透明度の形で記憶し投射
のために像配列の適宜のかつ急速な選択及び位置決めを
行う。

選択自在な寸法及びコントラストラ持つ像配列を投射し
像配列を選択自在に切換え配列の各要素を漸増的に除く
ことができることにより、正常な記号識別から、名前の
文字のゆがみまで、細分まで、不明瞭まで、視力応答の
完全な喪失までの範囲にわたる中心視の精密な鑑定がで
きる。

〔実施例〕 実施例について図面を参照して説明する。中心窩セグメ
ンテーション及び漸増的変化又は中心視の異常を識別す
ることにより、網膜の中心窩（黄斑）区域の視力機能の
退行変化の精密鑑定のできる本発明の中心視鑑定器械及
び方法の好適な実施例を次の順序で述べる。

＋ｉ＋光源ビーム光学装置 （１１）ビーム偏光光学装置 ６１１）像選択システム 斡）像要素削除光学装置 ＩＶＩズーム投射光学装置 ｔｖＯ中心中心宝鑑 定法加的実施例 光源ビーム光学装置（１０）（第１図）は非偏光の光源
ビームＳＢを生ずる。ビーム偏光光学装置（２０）（第
１図）は、光源ビームを像ビームＴＢ及び公称ビームＮ
Ｂと称する直角偏光ビームに分割し、像ビームは製造明
度ＩＴを経て差向け、次いで像ビーム及び公称ビームを
偏光投射ビームＰＰＢに再合成する。像選択システム（
３０）　＜第１図）は、像ビームの径路内に像配列の選
定した製造明度ＩＴを位置させる。像要素削除光学装置
（４０）（第１図）は、偏光投射ビームのうちで公称ビ
ーム成分は伝送し像ビーム成分は削除することにより像
配列の選定した要素を削除する。ズーム投射光学装置（
５０）　（第１図）は、ズーム倍率及び絞り設定を制御
することにより投射像配列の寸法及びコントラストを選
択的に制御する。

＋ｉ＋光源ビーム光学装置　　第１図に示した光源ビー
ム光学装置（１０）は非偏光光源ビーム８Ｂを生ずる。

光源（１２）は非偏光光源ビームを生ずる。光源ビーム
ＳＢは、鏡（１４）及び集光レンズ（１６）により集光
され平行になる。

光源（８）はたとえばキセノンアークランプでよい。

（１１）ビーム偏光光学装置　　第１図に示したビーム
偏光光学装置（２０）は、光源ビーム光学装置（１０）
からの光源ビームＳＢを像ビーム及び公称ビームＮＢと
称する直交偏光ビームに分割し、像ビームを製造明度Ｉ
Ｔを経て差向け、像ビーム及び公称ビームを偏光投射ビ
ームＰＰＢに再合成する。

光源ビーム光学装置（１０）からの平行な光源ビームＳ
Ｂは直交偏光要素（２２）を経て差向ける。

要素（２２）は光源ビームを２条の直交偏光ビーム（像
ビームＩＢ及び公称ビームＮＢ）に分割する。

像ビームＩＢ及び公称ビームＮＢはそれぞれ鏡（２３）
、（２４）によりビーム再合成要素（２５）に向かって
差向ける。口１１）項に述べるように像ビームＩＢは、
再合成要素（２５）から上流側の製造明度ＩＴを透過す
る。

再合成要素（２５）は、像ビームＩＢがブルースタ角で
入射し全透過するが公称ビームＮＢはブルースタ角で入
射し全反射するように鏡（２３’）　、（２４）に対し
て位置決めしたガラス板であり、２条のビームを高度の
効率で合成し偏光投射ビームＰＰＢを生ずるようにしで
ある。すなわち像ビームＩＢは、再合成要素（２５）の
上流側にブルースタ角で入射し像ビームの偏光の光の全
透過を生ずるが、直交偏光公称ビームＮＢに再合成要素
の下流側にブルースタ角で入射し公称ビーム偏光の光の
全反射を生ずる（２つの入射角は互いに補角である）。

偏光光学要素（２２）はたとえば方解石から作られたグ
５　ン−）　ム７　ン（Ｇｌａｎ−Ｔｏｍｐｓｏｎ）プ
リズムでよい。

＋ｉｉＤ像選択システム　　第１図に示しだ像選択シス
テム（３０）は、文字又は記号の像配列の選定した製造
明度Ｉ　Ｔを再合成要素（２５）から上流側でビーム偏
光光学装置（２０）により生ずる像ビームＩＢの径路内
に位置させる。

像透明度円板（３２）は、透明度円板（３２）の周辺の
まわりに配置した複数の製造明度ＩＴを設けである。各
製造明度ＩＴは９個の文字又は記号のほぼ３Ｘ３の正方
形の配列である。

像透明度円板（３２）は、軸（３４Ａ）により円板用ス
テップモータに結合しである。円板ステップモータ（３
４）は像選択命令ＩＳＣに応答し、製造明度ＩＴの選定
した１つが像ビームＩＢの径路に位置するまで透明度円
板（３２）を回転する。像選択命令は像透明度円板制御
単位ＩＣＵにより生ずる。

像ビームＩＢは、選定した製造明度を透過し、再合成要
素（２５）により直交偏光公称ビームＮＢと合成して偏
光投射ビームＰＰＢを生ずる。

像透明度円板（３６）はたとえば円板カメラフィルムの
適正に露光した円板でよい。好適な像配列は９個の文字
から成る３×３の配列であるが、投射しようとする像は
任意に選択できる。たとえば像は、配列内の要素の個数
、像要素の配分及び像要素寸法と共にコントラスト及び
色を変えてもよい。円板用ステップモータ（３４）及び
その像制御単位ＩＣＵの仕様は本発明の一部ではなく普
通の構造のものを選定すればよい。ステップモータ及び
その制御単位は像透明度円板（３２）を適当な速さで正
確に位置決めするように構成しなければならない。

Ｍ像要素削除光学装置　　第１図に示した像要素削除光
学装置（４０）は、偏光投射ビームの対応部分に対して
、ビーム偏光光学装置（２０）及び像選択システム（３
０）により生じた入射偏光投射ビームＰＰＢの像ビーム
成分により運ばれる像配列の選定した要素を削除し、像
ビーム成分を削除し、像ビーム成分を透過させる。

再合成した偏光投射ビームＰＰＢは、レンズ（４２）に
より、多層複屈折偏光回転体（４６）及び偏光ビームセ
レクタ（４８）から成る電気光学的７ヤツタ（４５）に
レンズ（４２）により集束する。

長居偏光回転体（４６）は、その６房が入射偏光投射ビ
ームの像ビーム成分により運ばれる像配列に対応する透
過径路の配列を定めるように構成する。偏光回転体（４
６）は像要素削除命令ＩＢＣに応答して選定した房を作
動し、この房を透過する偏光投射ビームＰＰＢの対応す
る部分の像ビーム成分ＩＢ及び直交偏光公称ビーム成分
ＮＢの偏光で９０°の回動を生ずる。すなわち偏光回転
後に像ビーム成分及び公称ビーム成分はそれぞれの初期
偏光に対し交差偏光を生ずる。像要素削除命令は削除制
御単位ＢＣＵによって生ずる。

第２図に示すように、偏光回転体（４６）は、３層すな
わち前記アース電極板（４６Ａ）及び後部房二電極板（
４６Ｃ）の間に配置した電気・光学的複屈折層（４６Ｂ
）を備えた普通の液晶構造である。

アース−電極板（４６Ａ）は、アース（又は共通の）電
極ＧＥを内面に配置した透明材料（たとえばガラス）か
ら成っている。アース電極は、透過可視光と同時に電気
を導く透明な導電性コーティング材料（たとえばインジ
ウム−すず−酸化物）から形成しである。アース電極Ｇ
ＥはコネクタＣ０Ｎ０に電気的に接続しである。

房−電極板（４６Ｃ）は、９個の房電極ＣＥ１〜ＣＥ９
から成る配列又は格子を内面に配置した透明材料（たと
えばガラス）から成り、電気的に隔離した各房電極は透
明な導電性コーティング材料（たとえばインジウム−す
ず−酸化物）から形成しである。各房電極ＣＥ１〜ＣＦ
９はそれぞれコネクタＣ０Ｎｔ〜ＣＯＮ　９に電気的に
接続しである。

各房電極は像要素の３層３配列に対応する３層３配列に
配置しである。・・・これ等は、入射偏光投射ビームＰ
ＰＢＯ像ビーム成分ＩＢの対応部分に対する各透過径路
を形成する。すなわち入射偏光投射ビームＰＰＢは偏光
回転体（４６）を透過し像ビーム成分により運ばれる像
要素配列は戻電極配列に対応して、各像要素に協働する
像ビーム成分の部分に対する透過径路が偏光回転体の対
応する房を透過するようにする。

電気光学的複屈折層（４６Ｂ）は電気光学的複屈折材料
（たとえばフエニシクロヘキサン（ｐｈｅｒ＋ｙＣｙ−
ｃｌｏｈｅｘａｎｅ））から成ッテイる。アース電極Ｇ
Ｅ（アース面）と房電極ＣＥ１〜ＣＥ９のうち任意のも
のとの間の回転電圧は、アニス電極及び選定した房電極
の間にある複屈折層（４６Ｂ）の対応部分に光学的半波
効果を誘導する。複屈折材料（４６Ｂ）により生ずる半
波効果は入射偏光投射ビームの偏光面を９０°回転し、
すなわち各直交偏光ビーム成分ＩＢＮＢはその初期偏光
方向に対し交差偏光を生ずる。

偏光回転効果を働かせるには、像要素削除命令ＩＢＣを
アース電極ＧＥに対する導線Ｃ０Ｎ０と房電極ＣＥ１〜
ＣＥ９に対する導線Ｃ０Ｎ１〜Ｃ０Ｎ９とのうちの選定
した１条ずつに加える。像要素削除命令により選定した
房電極及びアース電極の間に回転電圧を生ずることによ
り、選定した房電極により定まる透過径路に対応する電
気−光学的複屈折層（４６Ｂ）の部分を透過する入射偏
光投射ビームの部分に対し偏光回転を誘起する。削除制
御単位ＢＣＵは像要素削除命令を選択的に生ずる。

たとえば房電極ＣＥ８により形成される透過層に対応す
る像要素を削除のために選定すると、像要素削除命令Ｉ
ＢＣがコネクタＣＯＮ　ｇに加えられ房電極ＣＥ８及び
アース電極ＧＥの間に回転電圧を生ずる。この回転電圧
は、房電極ＣＥ８を透過する偏光投射ビームＰＰＢの部
分に光学的半波回転すなわち９０°の偏光回転を誘起す
る。すなわち像ビーム成分が垂直再光するものとすれば
、房電極ＣＥ８を透過する像ビーム成分の部分は水平偏
光まで回転するが、直交偏光の公称ビーム成分の対応部
分は垂直偏光まで回転する。

第１図に示すように入射偏光投射ビームＰＰＢ（直交偏
光像ビーム成分ＩＢ及び公称ビーム成分ＮＢを持つ）が
偏光回転体（４６）を透過すれば、ビームＰＰＢは偏光
ビームセレクタ（４８）（偏光プラスチック材シートで
よい）を透過する。偏光ビームセレクタ（４８）は像ビ
ーム成分ＩＢの初期の偏光に対応する方向にすなわち偏
光回転体（４６）により生ずる任意の偏光回転に先だっ
て偏光する。

これとは逆に偏光ビームセレクタ（４８）は公称ビーム
成分の初期偏光で交差偏光を生ずる。

偏光回転がないと偏光ビームセレクタ（４８）は、偏光
投射ビームＰＰＢの像ビーム成分を透過させ、これに付
随して直交の（すなわち交差の）偏光公称ビーム成分を
阻止する。しかし偏光回転体（４６）の房電極ＣＥＩ〜
ＣＥ９の１つ又は複数を像要素削除命令ＩＢＣにより働
かせると、偏光回転体により、作動された透過房を透過
する公称ビーム及び像ビームの各成分の部分の偏光に９
０°の回転を生ずる。

従って偏光を９０°回転させる像ビーム成分の部分はこ
の場合偏光ビームセレクタ（４８）により交差偏光を生
じ削除される。又公称ビーム成分の対応部分が透過され
ることにより対応する像要素を削除する。

削除制御単位ＢＣＵの仕様は、本発明の一部を形成しな
くて普通の構造のものを選べばよい。たとえば像要素削
除命令ＩＢＣは、ＴＴＬ論理回路により次いで演算増幅
器により生ずる低電圧ＤＣ信号でよい。

Ｍ）ズーム投射光学装置　　第１図に示したズーム投射
光学装置（５０）は、ズーム倍率及び絞り設定を制御す
ることにより偏光投射ビームＰＰＢにより運ばれる像配
列の寸法及び明るさを選択的に制御する。

ズームレンズ（５２）は、ズーム倍率のレベルを制御す
るズーム制御装置（５４）と絞υ設定（像の明るさ及び
コントラスト）を制御する絞シ制御装置（５６）とを備
えている。

ズームレンズ（５２）は、入射偏光投射ビームＰＰＢに
より運ばれる像配列を文字を選択的に削除して投射スク
リーン（６０）に投射する。この像配列はスクリーン（
６０）で試験パターン（６５）として観察する。ズーム
レンズの倍率は、大体中心窩視野に試験パターン（６５
）を投射するように選定する２０．ｒｔの標準視力試験
距離では鋭い中心視の面積は直径が約１５１である（視
野はわずかに卵形で最大直径は水平である）。

図面で試験パターン（６５）は、削除機能を示すように
除かれた要素〔偏光回転体（４６）の房ＣＥ８に対応す
る〕を持つ。

ズーム制御装置（５４）は、ズームレンズ（５２）のズ
ーム調整リング（５２Ｚ）に結合歯車（５５Ｇ）により
結合したズームステップモータ（５５）ヲ備エテいる。

ズームステップモータ（５５）は、ズームレンズ制御単
位ＬＣＵからのズーム制御命令ＺＣＣに応答してズーム
レンズ（５２）により生ずるズーム倍率のレベルを制御
しこれにより投影試験パターン（６５）の像要素の寸法
を制御する。

絞り制御単位（５６）は、ズームレンズ（５２）の絞り
調整リング（５２Ｉ　）に結合歯車（５７Ｇ）により結
合した絞りステップモータ（５７）を備えている。

絞りステップモータ（５７）は、ズームレンズ制御単位
ＬＣＵからの絞り制御命令ＩＣＣに応答してズームレン
ズ（５２）に対する絞り設定を調整しこれにより投射像
の明るさ（及びコントラスト）を調整する。

ズーム倍率は絞り設定に無関係にすることができるが、
ズームレンズ（５２）に対する絞り設定はズームレンズ
制御単位ＬＣＵによって行い投射試験パターン（６５）
の明るさがズーム倍率の選定したレベルで一定のままに
なるようにする。すなわちズーム倍率をズーム制御命令
ＺＣＣに応答してズーム制御装置（５４）により変える
と、ズームレンズ制御単位ＬＣＵは、絞り設定に対し補
償調整を生ずる絞り制御装置（５６）に対応する絞り制
御命令ＩＣＣを送ることにより投射試験パターン（６５
）の明るさをほぼ一定に保つ。

ズームステップモータ（５５）及び絞りステップモータ
（５７）とズームレンズ制御単位ＬＣＵとの仕様は、本
発明の一部を形成しなくて普通の構造のものを選べばよ
い。ズームレンズ制御単位は絞り制御の２つのモード、
すなわち絞り設定をズーム倍率に無関係に選択できる独
立モードと、ズームレンズ制御単位が絞り制御命令を補
償してズーム倍率の選定した変化に応答して試験パター
ン明るさをほぼ一定に保つ自動モードとを含むように構
成しなければならない。

（ｖＤ中中心鑑定法　　中心視鑑定器機の前記した好適
な実施例によれば中心視の精密な鑑定と、とくに中心窩
セグメンテーションと中心視の漸増的変化又は異常とを
識別することにより中心窩（黄斑）の視力機能の退行変
化の精密な鑑定とができる。

中心視鑑定法の好適な実施例は、 ｌａｌ中心窩視野内に小さすぎて患者が識別できない像
要素（文字又は記号）の選定した配列を投射し、次いで ｉｂｌ第１の識別を行うことができるまで像要素の寸法
を漸増的に増す。

全部の像要素を同様に識別することができ寸法が２０／
２０に相当すれば、中心窩の退行変化が存在しない。

しかし要素が見られないか又は不明瞭に見え或はゆがん
でいれば、中心窩の退行変化が存在し、知覚した像につ
いての患者の説明を記録する。この方法は、 ｒ１像要素の寸法（すなわち像配列倍率）を漸増的に増
し、本来見られない（又はゆがんで見えた）これ等の要
素を観察し、 （ｄｌこれ等の要素が明らかに見える倍率のレベルを記
録し、 （ｅｌ見えないままになっている要素又ははっきりとは
見えない要素の観察された特性（たとえば低下した強さ
、不明瞭、分断、ゆがみ、フリッカ−）を記録する。

ことにより中心窩の退行変化（セグメンテーションを含
む）を計測する。

任意の与えられた中心窩セグメントすなわち像配列の任
意の要素に対する正常な中心視に必要なレベルを越えた
倍率レベルは、この区分に対する視力機能のレベルであ
る。視力がゆがんだまま又は不明瞭のままになっている
中心窩セグメントでは視力機能の著しい喪失を生ずるが
、ぼんやりしたままになっている区分は視力機能を全く
失っている。

像配列倍率の漸増変化を使い中心窩の退行変化を鑑定す
るこの方法の過程で、試験パターンの他の漸増的変化の
影響は、 山選択的像区分を削除し他の中心窩セグメントにおける
中心視に対する影響を観察し又は中心窩セグメントを隔
離し、又は （ｇｌ異なる製造明度ＩＴを選択することにより全像配
列を変え、或はげ）及び（ｇｌを共に行うことによって
調べることができる。

中心窩の退行変化を鑑定するのにこの中心視鑑定法を使
うと、窩区分と各区分の視力機能とを裏づける中心窩又
は黄斑の輪郭を生ずることができる。次いでこのような
輪郭を使い医学的処置を勧めるかどうかを定め、勧める
場合には適当な処置を選定しその効力を鑑定する。

ｖｌ−付加的実施例　　中心視鑑定器械と中心視鑑定法
とを好適な実施例により述べたが、本発明では他の実施
例も得られるのは明らかである。

たとえば背景光の強さを変え、又は背景色を導入し、或
はこれ等の両方を行うことができる。像配列の代りに非
要素的のパターン又は模様を使い、本鑑定法をパターン
又は模様の分割又はゆがみ或はこれ等の両方（たとえば
不明瞭、分裂）に集中させてもよい。

又本発明による中心視鑑定の器械及び方法は若干の機能
のコンピュータにより制御に適合させることができる。

たとえばコンピュータ制御機能には、適当な構造のコン
ピュータにプログラミングを行い、 ［ａｌ検査者人力に応答して又は自動的に（たとえば自
動的に絞り制御命令を生じてズーム倍率の変化を補償す
るように）像選命令ｌ５Ｃ１像要素削除命令ＩＢＣ及び
ズーム及び絞り制御命令ＺＣＣ及びＩＣＣを生ずる除に
それぞれ制御単位ＩＣＵ、削除制御単位ＢＣＵ及びズー
ムレンズ制御単位ＬＣＵの機能を果たし、 （ｂｌ中心窩鑑定試験法の選定した態様（たとえば像寸
法を変え像要素を削除すること）を実施し、（ｃｌ将来
の比較のために中心窩輪郭を記録して記憶し、 ｌｄｌ鑑定法の結果について統計的解析を行い、セグメ
ンテーション及び視力異常を含む中心窩退行変化を鑑定
し中心窩輪郭を用意する ようにすることができる。

第３図に示すように器械制御コンピュータは、＋ａ＋像
選択制御命令ＩＳＣとズーム及び絞りの制御命令ＺＣＣ
及びＩＣＣとを生ずるモータ駆動盤ＭＤと、（ｂ）像要
素削除命令ＩＢＣを生ずるディジタルＩ１０盤ＤＩＯと
を持つように構成しである。ディジタルＩ１０盤は又、
検査者が操作し患者の反応を入れることのできるディジ
タルデータ人力キーパッドＫＤＥのインタフェースにな
る。

この構造ではモータ駆動盤Ｍ　Ｄ及びディジタルＩ１０
盤ＤＩＯを持つコンピュータは、像制御単位ＩＣＵ、ズ
ームレンズ制御単位ＬＣＵ及び像要素削除制御単位ＢＣ
ＵＯ代りになる。モータ駆動盤及びディジタルＩ１０盤
り、ＩＯは普通の構造のもので工業的に人手できる。

コンピュータは次の中心視鑑定法を実施するようにプロ
グラムすることができる。コンピュータは、像透明度円
板用ステップモータ（３４）に像選択命令Ｉ８Ｃを出し
、像配列透明度を選択する。

ズーム倍率制御命令ＺＣＣ及び対応する絞り設定制御命
令ＩＣＣをそれぞれズーム及び絞り用ステップモータ（
５５）、（５７）に差向は像配列の寸法及び明るさを設
定する。検査者は、患者に質関しデータ人力キーパッド
ＫＤｇに投射された試験パターンの読みに対する患者の
反応を入力する。次いでコンピュータはズーム及び絞り
の制御命令ＺＣＣ及びＩＣＣを出し像要素寸法を変え（
像間るさは一定のままにして）、又は偏光回転体に像要
素削除命令ＩＢＣを出し選定した像要素を削除し或はこ
れ等の両方を行う。

コンピュータは鑑定法の過程中の反応を蓄積する。鑑定
法の終りに各反応は統計的に解析され中心視輪郭を計算
する。

以上本発明をその実施例について詳細に説明したが本発
明はなおその精神を逸脱しないで種種の変化変型を行う
ことができるのはもちろんである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明中心視鑑定器械の１実施例の斜視図、第
２図は第１図の器械の偏光回転体部品の拡大斜視図、第
３図は第１図の器械を制御する器械制御コンピュータの
線図的平面図である。 １０・・・ビーム光源光学装置、２０・・・ビーム偏光
光学装置、Ｉ・・・像選択システム、４０・・・像要素
削除光学装置、関・・・投射ズーム光学装置 コンピュータ 手続補正書（旗） 特 許 庁 長 官 殿 １、事件の表示 平成１年特許願第２６３１５３号 ２、発明の名称 中ノじ４振器械及び中、Ｃ覗鑑定法 ３、補正をする者 事件との関係 ゼｄ午出臥 オーヴイル、 ゴードン

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、網膜の中心窩（黄斑）区域の視力機能を鑑定する中
   心視鑑定器械において、 （ａ）実質的に中心窩視野内に像を投射する中心窩試験
   像手段と、 （ｂ）中心窩視野内の像の倍率を制御する像拡大手段と
   、 （ｃ）この像拡大手段を制御し患者の中心視機能を指示
   する患者の反応に基づいて中心窩視野内の像倍率を漸増
   的に変える中心視測定手段と を備えることにより、中心窩セグメンテーシヨンと中心
   視の異常又は変化とにより明示されるような中心視機能
   の任意の退行変化を含む中心視を測定する中心視鑑定器
   械。 ２、像拡大手段を、像明るさが像寸法の変化に対しほぼ
   一定のままになることに関係なく又はこのようになるよ
   うに、投射像の寸法及び明るさを選択的に制御するズー
   ム投射光学手段により構成した請求項１記載の器械。 ３、ズーム投射光学手段に、 （ａ）ズーム拡大光学装置及び絞りを持つズームレンズ
   と、 （ｂ）ズーム拡大光学装置を選択的に制御し投射像の寸
   法を変えるようにしたズーム拡大制御手段と、（ｃ）絞
   りを選択的に制御し投射像の明るさを変えるようにした
   絞り制御手段と を設けた請求項２記載の器械。 ４、ズーム拡大制御手段及び絞り制御手段に、それぞれ
   ズーム及び絞りの各制御命令に応答する各ステップモー
   タを設けてそれぞれズーム拡大光学装置及び絞りを制御
   するようにした請求項３記載の器械。 ５、投射像を、像要素（文字又は記号）の配列により構
   成した請求項１記載の器械。 ６、像配列内の任意の要素を選択的に削除する像要素削
   除手段を備えた請求項５記載の器械。 ７、像投射手段により、像を透過する投射ビームを生ず
   るようにした請求項６記載の器械。 ８、像要素削除手段を、 （ａ）像要素削除命令に応答して像配列の各要素を選択
   的に削除する多房電気光学的シャッタ手段により構成し
   、 （ｂ）このシャッタ手段の各房により前記像配列の要素
   に協働する投射ビームの対応部分用の透過径路を形成す
   るようにした請求項７記載の器械。 ９、像投射手段を、 （ａ）非偏光光源ビームを生ずる光源ビーム手段と、（
   ｂ）前記非偏光光源ビームを像ビーム及び公称ビームと
   称する２条の直交偏光ビームに分割し次いで前記の像ビ
   ーム及び公称ビームを偏光投射ビームに再合成するビー
   ム偏光手段と、 （ｃ）像配列の像透明度を前記公称ビームとの再合成に
   先だつて前記像ビームの径路に位置させる像選択手段と
   により構成し、 多房電気光学的シャッタを、 （ｄ）像要素削除命令に応答して前記像配列の要素に協
   働する偏光投射ビーム（像ビーム成分及び公称ビーム成
   分から成る）の対応する部分を透過させる透過房内で約
   ９０°の偏光回転を選択的に誘起する多房偏光回転体手
   段と、 （ｅ）偏光投射ビームの像ビーム成分に対して初期の偏
   光方向に偏光したビームは透過させるが交差偏光ビーム
   は削除する偏光ビームセレクタ手段とにより構成した請
   求項８記載の器械。 １０、網膜の中心窩（黄斑）区域の視力機能を鑑定する
   中心視鑑定法において、 （ａ）患者には小さすぎて識別できない要素（文字又は
   記号）から成る像配列を中心窩視野内に投射し、 （ｂ）前記各像要素の寸法を第１の識別ができるまで漸
   増的に拡大し、 （ｃ）患者の観察を記録し、次いでいずれかの像要素が
   はつきりとは見えない場合に、 （ｄ）前記各像要素の寸法を漸増的に増しはつきりとは
   見えない要素を観察し、 （ｅ）前記各像要素の寸法を増す際に患者の観察を記録
   することにより中心視機能を鑑定することから成る中心
   視鑑定法。 １１、（ａ）像配列内の要素を選択的に削除し、（ｂ）
   各要素を削除する際に患者の観察を記録することにより
   中心窩のセグメンテーシヨンを記録する 請求項１０記載の中心視鑑定法。