JPH0221540A - マイクロ波管用電子銃 - Google Patents
マイクロ波管用電子銃Info
- Publication number
- JPH0221540A JPH0221540A JP17322588A JP17322588A JPH0221540A JP H0221540 A JPH0221540 A JP H0221540A JP 17322588 A JP17322588 A JP 17322588A JP 17322588 A JP17322588 A JP 17322588A JP H0221540 A JPH0221540 A JP H0221540A
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- JP
- Japan
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- electrode
- potential
- anode
- beam forming
- electron
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- Pending
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims description 4
- 230000003993 interaction Effects 0.000 claims description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 abstract description 7
- 238000005094 computer simulation Methods 0.000 abstract description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はマイクロ波管用電子銃に関する。
通常、マイクロ波管用電子銃は、陽極、陰極、ビーム形
成電極からなる。
成電極からなる。
大電力マイクロ波管では、陰極から大電流を出さねばな
らず、高パービアンス電子銃が要求され、陽極電圧も高
くなる。高パービアンス電子銃では、陽極が陰極に近ず
くため、陽極とビーム形成電極との感覚がせまくなり、
その間で耐電圧に間開を生じる。
らず、高パービアンス電子銃が要求され、陽極電圧も高
くなる。高パービアンス電子銃では、陽極が陰極に近ず
くため、陽極とビーム形成電極との感覚がせまくなり、
その間で耐電圧に間開を生じる。
第２図は従来の大電力マイクロ波管の電子銃の一例の要
部断面図である。
部断面図である。
第２図において、１は陰極、２は陽極、３はビーム形成
電極である。この例では、ビーム形成電極３の先端を半
円形状に成形し、電界の集中を防ぎ、耐電圧を改善して
いる。また、ビーム形成電極３表面を鏡面仕上げにして
耐圧の向上をはかる場合もある。
電極である。この例では、ビーム形成電極３の先端を半
円形状に成形し、電界の集中を防ぎ、耐電圧を改善して
いる。また、ビーム形成電極３表面を鏡面仕上げにして
耐圧の向上をはかる場合もある。
上述した従来の電子銃は、陽極、陰極、ビーム形成電極
のみからなるので、マイクロ波管が大電力になるにつれ
て電極間距離が短かくなり、耐電圧に間開を生じるとい
う欠点を有する。
のみからなるので、マイクロ波管が大電力になるにつれ
て電極間距離が短かくなり、耐電圧に間開を生じるとい
う欠点を有する。
本発明の目的は、耐電圧に問題のないマイクロ波管用電
子銃を提供することにある。
子銃を提供することにある。
本発明は、電子ビームとマイクロ波との相互作用を行わ
しめるマイクロ波管の前記電子ビームを射出、整形する
マイクロ波管用電子銃において、電子を放出する陰極、
前記電子を陰極から取り出すために高電圧を印加する陽
極、前記電子ビームを整形するビーム形成電極の他に、
該ビーム形成電極と前記陽極との間に少くとも１つの電
極を有し、該電極の電位が陽極電位の０．１倍よりも大
きく、かつ、前記電極のうちの少なくとも１つの電極の
電位が前記陽極電位の０．４倍よりも小さくなっている
。
しめるマイクロ波管の前記電子ビームを射出、整形する
マイクロ波管用電子銃において、電子を放出する陰極、
前記電子を陰極から取り出すために高電圧を印加する陽
極、前記電子ビームを整形するビーム形成電極の他に、
該ビーム形成電極と前記陽極との間に少くとも１つの電
極を有し、該電極の電位が陽極電位の０．１倍よりも大
きく、かつ、前記電極のうちの少なくとも１つの電極の
電位が前記陽極電位の０．４倍よりも小さくなっている
。
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第１図は本発明の一実施例の要部断面図である。
第１図に示すように、１は陰極、２は陽極、３はビーム
形成電極であり、４はビーム形成電極と陽極の間におか
れた電極である。５は電子ビームであり、６は等電位線
である。
形成電極であり、４はビーム形成電極と陽極の間におか
れた電極である。５は電子ビームであり、６は等電位線
である。
通常、陰ｆｉｌとビム形成電極３は同電位に設定され、
陽ｗＸ２は陰極１に対して高電位に設定される。従来の
電子銃では、陰極、ビーム成形電極。
陽ｗＸ２は陰極１に対して高電位に設定される。従来の
電子銃では、陰極、ビーム成形電極。
陽極の形状及び位置よって、電子ビームの縁に沿った電
位分布をラングミュア−の電位分布とし、電子ビームを
整形する。本実施例では、ビー１１形成電極３と陽極２
との間に置かれた電極４に適当な電位を与えることによ
り、電子ビーム５の縁に沿った電位分布をラングミュア
−の電位分布にし、電子ビームを整形する。電極４の形
状、与える電位は、計算機シミュレーションによって決
定される。
位分布をラングミュア−の電位分布とし、電子ビームを
整形する。本実施例では、ビー１１形成電極３と陽極２
との間に置かれた電極４に適当な電位を与えることによ
り、電子ビーム５の縁に沿った電位分布をラングミュア
−の電位分布にし、電子ビームを整形する。電極４の形
状、与える電位は、計算機シミュレーションによって決
定される。
電極４の電子ビーム近辺のＡ部は、電極４がない場合の
等電位線を乱さないようにおかれる。電極４の電位は、
その等電位線の電位に等しくとる。電極４のＡ部とビー
ム形成電極３のＤ部によって、電極４からビーム形成電
極３までの電子ビームは、はとんど整形されてしまい、
ビーム形成電極３の０部の形状に依存しにくくなる０通
常、電極４がない場合、最も電界が集中する所は、ビー
ム形成電極３の０部であるが、電極４にＡ部があること
により、０部を削り、Ｂ部と０部の間隔を大きくするこ
とができる。また、電極４のＢ部を０部から離すことに
より、０部への電界の集中をさらに軽減できる。電極４
のＢ部は、半径を大きくとることができるため、電極４
−陽極２間の耐圧は問題が生じにくい。
等電位線を乱さないようにおかれる。電極４の電位は、
その等電位線の電位に等しくとる。電極４のＡ部とビー
ム形成電極３のＤ部によって、電極４からビーム形成電
極３までの電子ビームは、はとんど整形されてしまい、
ビーム形成電極３の０部の形状に依存しにくくなる０通
常、電極４がない場合、最も電界が集中する所は、ビー
ム形成電極３の０部であるが、電極４にＡ部があること
により、０部を削り、Ｂ部と０部の間隔を大きくするこ
とができる。また、電極４のＢ部を０部から離すことに
より、０部への電界の集中をさらに軽減できる。電極４
のＢ部は、半径を大きくとることができるため、電極４
−陽極２間の耐圧は問題が生じにくい。
ビーム形成電極３の０部を削ってもビームに影響が生じ
ないためには、電極４のＡ部をビーム形成電極３のＤ部
近くにもっていき、電！！４に与える電位を低くすれば
良い、一方、電位を低しすぎると、電極４の機能がビー
ム形成電極３と同じになるので、Ｂ部の形状の自由度が
なくなり、形状もビーム形成電極３の０部と同じになる
。その結果、Ｂ部に陽極からの電界が集中する。この結
果、電極４の与える電位は陽極電位の０．１倍がら０．
４倍程度が適当である。
ないためには、電極４のＡ部をビーム形成電極３のＤ部
近くにもっていき、電！！４に与える電位を低くすれば
良い、一方、電位を低しすぎると、電極４の機能がビー
ム形成電極３と同じになるので、Ｂ部の形状の自由度が
なくなり、形状もビーム形成電極３の０部と同じになる
。その結果、Ｂ部に陽極からの電界が集中する。この結
果、電極４の与える電位は陽極電位の０．１倍がら０．
４倍程度が適当である。
本実施例では、ビーム形成電極−陽極間に１つの電極４
をおいたが、２つ以上の電極をおいて、各電極の位置、
形状、電位を適当に選んでも、同様の効果が得られる。
をおいたが、２つ以上の電極をおいて、各電極の位置、
形状、電位を適当に選んでも、同様の効果が得られる。
本発明と似た構造の電子銃の１つに格子付電子銃がある
。しかしながら、格子付電子銃では、小さな格子電圧で
ビームをＯＮ、ＯＦＦさせるので、格子電圧は陽極電圧
の数パーセン１〜以内にとられるので、実施例とは電圧
の範囲が異なっている。
。しかしながら、格子付電子銃では、小さな格子電圧で
ビームをＯＮ、ＯＦＦさせるので、格子電圧は陽極電圧
の数パーセン１〜以内にとられるので、実施例とは電圧
の範囲が異なっている。
また、ビーム形成電極と陽極との間に、陽極電圧の約手
分位の電圧を有する電極を入れ、陽極穴のビーム形状に
与える影響を打ち消すようにした電子銃もある。しかし
ながら、陽極穴は、陽極穴の近くの電位分布に影響を与
えるのであるから、この電極を陰極近傍に持ってきても
意味をなさず、ある程度以上陽極の近くになくてはなら
ない。また、あまり陽極近傍に持ってくると、この電極
自体の穴が陽極穴と同じ働きをしてしまうので、この電
極の位置は制限される。この電極の電位は、ｖＪｋ極穴
がない時のビーム端での電位分布を実現するような電位
かおかれる。この電位は電極の位置によって決まり、電
極の位置は上記の理由により制限される。その結果、通
常、この電極に与えられる電位は陽極の電位の半分程度
であり、本実施例の電圧の範囲とは異っている。
分位の電圧を有する電極を入れ、陽極穴のビーム形状に
与える影響を打ち消すようにした電子銃もある。しかし
ながら、陽極穴は、陽極穴の近くの電位分布に影響を与
えるのであるから、この電極を陰極近傍に持ってきても
意味をなさず、ある程度以上陽極の近くになくてはなら
ない。また、あまり陽極近傍に持ってくると、この電極
自体の穴が陽極穴と同じ働きをしてしまうので、この電
極の位置は制限される。この電極の電位は、ｖＪｋ極穴
がない時のビーム端での電位分布を実現するような電位
かおかれる。この電位は電極の位置によって決まり、電
極の位置は上記の理由により制限される。その結果、通
常、この電極に与えられる電位は陽極の電位の半分程度
であり、本実施例の電圧の範囲とは異っている。
以上説明したように本発明は、ビーム形成電極と陽極と
の間に１つ以上の電極をおき、それらの電極の電位を陽
極電位の０．１倍より大きくし、かつ、それらのうちの
少なくとも１つの電極の形状を適当に選ぶことによって
、電極への電界集中を減らし、耐電圧を改善することが
できる効果がある。
の間に１つ以上の電極をおき、それらの電極の電位を陽
極電位の０．１倍より大きくし、かつ、それらのうちの
少なくとも１つの電極の形状を適当に選ぶことによって
、電極への電界集中を減らし、耐電圧を改善することが
できる効果がある。
１・・・陰極、２・・・陽極、３・・・ビーム形成電極
、４・・電極、５・・・電子ビーム、６・・・等電位線
。
、４・・電極、５・・・電子ビーム、６・・・等電位線
。
第１図は本発明の一実施例の要部断面図、第２図は従来
の大電力マイクロ波管の電子銃の一例の要部断面図であ
る。
の大電力マイクロ波管の電子銃の一例の要部断面図であ
る。
Claims (1)
- 電子ビームとマイクロ波との相互作用を行わしめるマイ
クロ波管の前記電子ビームを射出、整形するマイクロ波
管用電子銃において、電子を放出する陰極、前記電子を
陰極から取り出すために高電圧を印加する陽極、前記電
子ビームを整形するビーム形成電極の他に、該ビーム形
成電極と前記陽極との間に少くとも１つの電極を有し、
該電極の電位が陽極電位の０．１倍よりも大きく、かつ
、前記電極のうちの少なくとも１つの電極の電位が前記
陽極電位の０．４倍よりも小さいことを特徴とするマイ
クロ波管用電子銃。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17322588A JPH0221540A (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | マイクロ波管用電子銃 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17322588A JPH0221540A (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | マイクロ波管用電子銃 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0221540A true JPH0221540A (ja) | 1990-01-24 |
Family
ID=15956460
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17322588A Pending JPH0221540A (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | マイクロ波管用電子銃 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0221540A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2669771A1 (fr) * | 1990-11-27 | 1992-05-29 | Thomson Tubes Electroniques | Cathode amelioree pour tubes hyperfrequence. |
| JPH06150838A (ja) * | 1992-05-11 | 1994-05-31 | Litton Syst Inc | 電子銃 |
| US5623183A (en) * | 1995-03-22 | 1997-04-22 | Litton Systems, Inc. | Diverging beam electron gun for a toxic remediation device with a dome-shaped focusing electrode |
-
1988
- 1988-07-11 JP JP17322588A patent/JPH0221540A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2669771A1 (fr) * | 1990-11-27 | 1992-05-29 | Thomson Tubes Electroniques | Cathode amelioree pour tubes hyperfrequence. |
| JPH06150838A (ja) * | 1992-05-11 | 1994-05-31 | Litton Syst Inc | 電子銃 |
| US5623183A (en) * | 1995-03-22 | 1997-04-22 | Litton Systems, Inc. | Diverging beam electron gun for a toxic remediation device with a dome-shaped focusing electrode |
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