JPH02210239A - 反射防止膜のパラメータ測定法 - Google Patents
反射防止膜のパラメータ測定法Info
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- JPH02210239A JPH02210239A JP1032224A JP3222489A JPH02210239A JP H02210239 A JPH02210239 A JP H02210239A JP 1032224 A JP1032224 A JP 1032224A JP 3222489 A JP3222489 A JP 3222489A JP H02210239 A JPH02210239 A JP H02210239A
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Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
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- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、導波路端面に形成した反射防止膜の膜厚及び
屈折率を簡便に測定する反射防止膜のパラメータ測定法
に関するものである。
屈折率を簡便に測定する反射防止膜のパラメータ測定法
に関するものである。
先導波回路と半導体レーザ及び半導体光増幅素子等の半
導体光素子を接続する場合、半導体光素子への戻り光を
抑制するためには、光導波路端面に第８図に示すような
反射防止膜を形成する必要がある。図において、ｌは光
導波路、２は先導波・路のコア、２０は光導波路の基板
、３は反射防止膜である。
導体光素子を接続する場合、半導体光素子への戻り光を
抑制するためには、光導波路端面に第８図に示すような
反射防止膜を形成する必要がある。図において、ｌは光
導波路、２は先導波・路のコア、２０は光導波路の基板
、３は反射防止膜である。
しかし、従来、導波路端面に形成した反射防止膜３の反
射率及び反射防止膜を構成する各層の膜厚、屈折率、吸
収率等を直接評価する方法はなく、導波路端面に反射防
止膜３を形成するときに、その近傍に配置した石英板に
同時に反射防止膜を形成し、その基板、トの反射防止膜
の反射特性及び透過特性の波長依存性を分光光度計を用
いて測定し、その波長依存性から各層の膜厚、屈折率及
び吸収率を評価をするのみであった。
射率及び反射防止膜を構成する各層の膜厚、屈折率、吸
収率等を直接評価する方法はなく、導波路端面に反射防
止膜３を形成するときに、その近傍に配置した石英板に
同時に反射防止膜を形成し、その基板、トの反射防止膜
の反射特性及び透過特性の波長依存性を分光光度計を用
いて測定し、その波長依存性から各層の膜厚、屈折率及
び吸収率を評価をするのみであった。
一方、同様の測定法としては、単一モード光ファイバの
端面に形成した反射防止膜の評価法がある。
端面に形成した反射防止膜の評価法がある。
この方法を第９図に示す。ボックスカーインテグレータ
２１によりＬＤ駆動部２２は、ＬＤ２３をパルス発振さ
せており、その出力光を光ファイバ２５−１に入射する
。さらに光をカップラー２４を通して光ファイバ２５−
２に入射して、その光フアイバ端面に形成された反射防
止膜２８に光を照射し、その反射防止膜２８からの反射
光をカップラー２４と光ファイバ２５−３を通して受光
器２６で受光する。ボックスカーインテグレータ２１は
ＬＤ駆動部２２より光パルス送出周期と同期したゲート
パルスを得、このゲートパルスを基準として反射防止膜
２８までの往復伝搬時間に対応した時間だけ遅延時間を
設定して、積分器のゲート時間を設定して反射防止膜２
８からの光による電気信号だけを増幅し、さらに表示部
２７で観察する。
２１によりＬＤ駆動部２２は、ＬＤ２３をパルス発振さ
せており、その出力光を光ファイバ２５−１に入射する
。さらに光をカップラー２４を通して光ファイバ２５−
２に入射して、その光フアイバ端面に形成された反射防
止膜２８に光を照射し、その反射防止膜２８からの反射
光をカップラー２４と光ファイバ２５−３を通して受光
器２６で受光する。ボックスカーインテグレータ２１は
ＬＤ駆動部２２より光パルス送出周期と同期したゲート
パルスを得、このゲートパルスを基準として反射防止膜
２８までの往復伝搬時間に対応した時間だけ遅延時間を
設定して、積分器のゲート時間を設定して反射防止膜２
８からの光による電気信号だけを増幅し、さらに表示部
２７で観察する。
［発明が解決しよとする課題］
上述した従来の２つの測定方法には、それぞれ次のよう
な問題があった。
な問題があった。
前者の測定方法の場合には、直接、導波路端面の反射防
止膜３の評価ができないという欠点がある。
止膜３の評価ができないという欠点がある。
後者の測定方法の場合は、単一の波長の光での反射特性
を測定するため、反射防止膜２８を形成するときに必要
な反射防止膜２８の各層の膜厚、屈折率及び吸収特性を
評価できないという欠点がある。
を測定するため、反射防止膜２８を形成するときに必要
な反射防止膜２８の各層の膜厚、屈折率及び吸収特性を
評価できないという欠点がある。
結局、従来技術では、光導波路端面の反射防止膜の反射
率及び反射防止膜を構成する各層の膜厚、屈折率、吸収
率を直接測定する方法は厳密な意味では存在しなかった
と言える。
率及び反射防止膜を構成する各層の膜厚、屈折率、吸収
率を直接測定する方法は厳密な意味では存在しなかった
と言える。
本発明はこの問題を解決するために成されたものであり
、光導波路端面に形成された反射防止膜の反射率及び反
射防止膜を構成する各層の膜厚、屈折率、吸収率を簡便
に直接測定する反射防止膜のパラメータ測定方法を提供
することを目的とする。
、光導波路端面に形成された反射防止膜の反射率及び反
射防止膜を構成する各層の膜厚、屈折率、吸収率を簡便
に直接測定する反射防止膜のパラメータ測定方法を提供
することを目的とする。
［課題を解決するための手段］
この発明の反射防止膜のパラメータ測定法は、一方の導
波路端面に反射防止膜を形成した光導波路に対して、も
う一方の導波路端面より任意の波長の光を入射させ、 反射防止膜の形成された端面の近傍に受光用の光ファイ
バを配置し、 反射防止膜を透過した光を受光できる状態にして、光フ
ァイバと反射防止膜の間に屈折率の既知の第１の媒質を
充填した場合と屈折率が既知の第２の媒質を挿入した場
合の両者の受光用光ファイバからの出力の比の波長依存
性の測定値を求め、反射防止膜の膜厚及び屈折率のパタ
メータを変化させて理論値を計算し、 該理論値と前記測定値とを比較して両者を一致させるよ
うにすることにより反射防止膜のパタメータを測定する
ことを特徴とする。
波路端面に反射防止膜を形成した光導波路に対して、も
う一方の導波路端面より任意の波長の光を入射させ、 反射防止膜の形成された端面の近傍に受光用の光ファイ
バを配置し、 反射防止膜を透過した光を受光できる状態にして、光フ
ァイバと反射防止膜の間に屈折率の既知の第１の媒質を
充填した場合と屈折率が既知の第２の媒質を挿入した場
合の両者の受光用光ファイバからの出力の比の波長依存
性の測定値を求め、反射防止膜の膜厚及び屈折率のパタ
メータを変化させて理論値を計算し、 該理論値と前記測定値とを比較して両者を一致させるよ
うにすることにより反射防止膜のパタメータを測定する
ことを特徴とする。
［作用］
本発明の反射防止膜のパラメータ測定法は、光導波路端
面に形成されたの反射防止膜を直接評価する。その場合
、波長依存性測定することによって、反射防止膜を構成
する各層の膜厚、屈折率、吸収率を評価する。
面に形成されたの反射防止膜を直接評価する。その場合
、波長依存性測定することによって、反射防止膜を構成
する各層の膜厚、屈折率、吸収率を評価する。
［実施例コ
以下、本発明の実施例を第１図ないし第７図に基づいて
説明する。
説明する。
まず、本発明の測定原理について説明する（第１図（ａ
）、（ｂ）参照）。
）、（ｂ）参照）。
図において、１は光導波路、２は光導波路コア、３は光
導波路１の端面に形成された反射防止膜、４は受光用光
ファイバ ５−１は屈折率が既知の第１の媒質、５−２
は屈折率が既知の第２の媒質、６は波長を任意に可変可
能な入射光を示す。同図（ａ）は、反射防止膜３を付加
した光導波路１の端面と受光用光ファイバ４の間に、屈
折率が既知の第１の媒質５−１を充填した場合を示し、
同図中Ｔ、は反射防止膜３を付加した光導波路１の端面
の透過率、Ｔｌｆは多モード光ファイバ端面での透過率
、７はこの場合の受光用光フ１イノく４からの出力光Ｉ
ｏｕｔｌを表す。一方、同図（ｂ）は、反射防止膜３
を付加した光導波路１の端面と受光用光ファイバ４の間
に、屈折率が既知の第２の媒質５−２を充填した場合を
示し、同図中Ｔ、は反射防止膜３を付加した光導波路１
の端面の透過率、Ｔ２ｆは多モード光ファイバ端面での
透過率、８はこの場合の受光用光ファイバ４からの出力
光１ ｏｕｔ２を表す。
導波路１の端面に形成された反射防止膜、４は受光用光
ファイバ ５−１は屈折率が既知の第１の媒質、５−２
は屈折率が既知の第２の媒質、６は波長を任意に可変可
能な入射光を示す。同図（ａ）は、反射防止膜３を付加
した光導波路１の端面と受光用光ファイバ４の間に、屈
折率が既知の第１の媒質５−１を充填した場合を示し、
同図中Ｔ、は反射防止膜３を付加した光導波路１の端面
の透過率、Ｔｌｆは多モード光ファイバ端面での透過率
、７はこの場合の受光用光フ１イノく４からの出力光Ｉ
ｏｕｔｌを表す。一方、同図（ｂ）は、反射防止膜３
を付加した光導波路１の端面と受光用光ファイバ４の間
に、屈折率が既知の第２の媒質５−２を充填した場合を
示し、同図中Ｔ、は反射防止膜３を付加した光導波路１
の端面の透過率、Ｔ２ｆは多モード光ファイバ端面での
透過率、８はこの場合の受光用光ファイバ４からの出力
光１ ｏｕｔ２を表す。
受光用光ファイバ４からの出カフと出力８の比Ｉ ｏｕ
ｔ２／ １ ｏｕｔｌは、 １ ｏｕｔ２／ １ ｏｕｔｌ＝ Ｔ ＊”Ｔ ｓｒ／
（Ｔ ｒ”Ｔ ｒ ｒ）”’ ”’ （１）で表せ
る。
ｔ２／ １ ｏｕｔｌは、 １ ｏｕｔ２／ １ ｏｕｔｌ＝ Ｔ ＊”Ｔ ｓｒ／
（Ｔ ｒ”Ｔ ｒ ｒ）”’ ”’ （１）で表せ
る。
Ｔｔｒ及びＴｌｆの反射率は第１及び第２の媒質５−１
．５−２の屈折率が既知なため、出カフと出力８の比Ｉ
ｏｕｔ２／ Ｉ ｏｕｔｌの波長依存性はＴ、／Ｔ。
．５−２の屈折率が既知なため、出カフと出力８の比Ｉ
ｏｕｔ２／ Ｉ ｏｕｔｌの波長依存性はＴ、／Ｔ。
の波長依存性に対応している。したがって、出力の比Ｉ
ｏｕｔ２／ Ｉ ｏｕｔｌの波長依存性の測定結果と
理論計算値を比較することによって、導波路端面微小領
域の反射防止膜を構成する各層の膜厚、屈折率、吸収率
を直接評価できる。
ｏｕｔ２／ Ｉ ｏｕｔｌの波長依存性の測定結果と
理論計算値を比較することによって、導波路端面微小領
域の反射防止膜を構成する各層の膜厚、屈折率、吸収率
を直接評価できる。
第２図は、本発明の測定法を実施する測定装置の１例を
示す。
示す。
測定に使用した光導波路１は、火炎堆積法と反応性イオ
ンエツチングにより作製された石英系単一モード光導波
路（コア２の寸法８μｍＸ８μ口、比屈折率差０．２％
）であり、反射防止膜３は、抵抗加熱・真空蒸着法によ
り１．５μｍにおいて無反射となるようにＳｉＯｘとＭ
ＫＦ、の２層を蒸着した（第４図参照）。
ンエツチングにより作製された石英系単一モード光導波
路（コア２の寸法８μｍＸ８μ口、比屈折率差０．２％
）であり、反射防止膜３は、抵抗加熱・真空蒸着法によ
り１．５μｍにおいて無反射となるようにＳｉＯｘとＭ
ＫＦ、の２層を蒸着した（第４図参照）。
１．５μｍにおける無反射の条件は、
ｎ 、ｔ 、＝ｎ、ｔ 、＝λ１．／４ｎ １” ｎ
ｓ＝１２” ｎ ｐ となる。
ｓ＝１２” ｎ ｐ となる。
ここで、λ１．．は１，５μｍを意味し、ｎｐは空気に
対する無反射を条件としているため“１”とする。
対する無反射を条件としているため“１”とする。
ここでは、ＳｉＯｘの膜厚ｎ１を２２５２人、その屈折
率ｔ、を１．６６５、ＭｇＦｔの膜厚ｎ、を２７１γ人
、その屈折率ｔ、を１．３８０として作製した。受光用
の多モード光ファイバ４は光導波路１からの出力光を完
全に受光するためコア径５０μｍφ、比屈折率差１％を
使用し、光導波路端面より約３０μｍ離して光導波路１
と光軸を合わせて固定した。
率ｔ、を１．６６５、ＭｇＦｔの膜厚ｎ、を２７１γ人
、その屈折率ｔ、を１．３８０として作製した。受光用
の多モード光ファイバ４は光導波路１からの出力光を完
全に受光するためコア径５０μｍφ、比屈折率差１％を
使用し、光導波路端面より約３０μｍ離して光導波路１
と光軸を合わせて固定した。
受光用多モード光ファイバ４からの出力光は受光器１７
にて電気信号に変換され、増幅器１８をへてロックイン
増幅器１６へ入力される。ハロゲン光源１３からの白色
光は分光器１２にて単色光とし、そして光導波路１のコ
ア２に入射させるために、光導波路１に接続された光フ
ァイバ９（比屈折率差０．２％、コア径１１μｍφ、カ
ットオフ波長１．３２μｍ）に入射する。光ファイバ９
の入射端の近傍の部分を直系４ｃｍの円柱に巻き付けた
高次モード除去部１９にて高次モードを除去し、この高
次モード除去部１９を通過した後の光ファイバの伝搬モ
ードを基本モードのみとした。なお、本例では、光ファ
イバ９、分光器１２、ハロゲン光源１３、光チせツバ１
４、チョッパ駆動部１５、高次モード除去部１９によっ
て、光入射部２９が構成されている。
にて電気信号に変換され、増幅器１８をへてロックイン
増幅器１６へ入力される。ハロゲン光源１３からの白色
光は分光器１２にて単色光とし、そして光導波路１のコ
ア２に入射させるために、光導波路１に接続された光フ
ァイバ９（比屈折率差０．２％、コア径１１μｍφ、カ
ットオフ波長１．３２μｍ）に入射する。光ファイバ９
の入射端の近傍の部分を直系４ｃｍの円柱に巻き付けた
高次モード除去部１９にて高次モードを除去し、この高
次モード除去部１９を通過した後の光ファイバの伝搬モ
ードを基本モードのみとした。なお、本例では、光ファ
イバ９、分光器１２、ハロゲン光源１３、光チせツバ１
４、チョッパ駆動部１５、高次モード除去部１９によっ
て、光入射部２９が構成されている。
次に、このような測定装置を用いた測定法について説明
する。
する。
まず初めに、第３図（ａ）に示すように、反射防止膜３
を付加した光導波路端面と受光用多モード光ファイバ４
の間に、屈折率の既知の第１の媒質として空気を介在さ
せて、制御及びデータ処理部１０により分光器駆動部１
１を制御し、分光器１２の波長を０．５μｍからＬｅａ
ｒｎ （０，０１μｍ間隔）まで変化させる。そして、
このときの多モード光ファイバ４からの出力光値を、受
光器１７、増幅器１８、ロックイン増幅器１６を通して
制御及びデータ処理部１０に格納する。そのデータをＩ
ｏｕｔｌとする。
を付加した光導波路端面と受光用多モード光ファイバ４
の間に、屈折率の既知の第１の媒質として空気を介在さ
せて、制御及びデータ処理部１０により分光器駆動部１
１を制御し、分光器１２の波長を０．５μｍからＬｅａ
ｒｎ （０，０１μｍ間隔）まで変化させる。そして、
このときの多モード光ファイバ４からの出力光値を、受
光器１７、増幅器１８、ロックイン増幅器１６を通して
制御及びデータ処理部１０に格納する。そのデータをＩ
ｏｕｔｌとする。
次に、第３図（ｂ）に示すように反射防止膜３を付加し
た光導波路端面と受光用多モード光ファイバ４間に、屈
折率の既知の第２の媒質として、受光用多モード光ファ
イバ４のコアの屈折率と等しい屈折率１．４５６のマツ
チング液を媒質充填器３０から充填する。そして、上述
した場合と同様にして、多モード光ファイバ４からの出
力光値を測定し、そのデータをＩ ｏｕｔ２とする。
た光導波路端面と受光用多モード光ファイバ４間に、屈
折率の既知の第２の媒質として、受光用多モード光ファ
イバ４のコアの屈折率と等しい屈折率１．４５６のマツ
チング液を媒質充填器３０から充填する。そして、上述
した場合と同様にして、多モード光ファイバ４からの出
力光値を測定し、そのデータをＩ ｏｕｔ２とする。
そして、制御及びデータ処理部１０によって、第５図に
示すような両測定の比１ ｏｕｔ２／ Ｉ ｏｕｔｌを
出力させる。図中のｅｒｒｏｒは測定時の誤差が０．０
６ｄＢであることを示す。両測定の比１ ｏｕｔ２／
Ｉ ｏｕｔｌを演算するということは、光導波路１と光
ファイバ９の接続特性及び光導波路自体の特性を相殺し
て、反射防止膜３の波長依存性だけを浮き彫りにするこ
とになる。同第５図には、特性行列法及び上記（１）式
で求めた上記設計値の反射防止膜に対する計算結果を併
せて示す。その計算式を以下に示す（第２図（ｂ）参照
）。
示すような両測定の比１ ｏｕｔ２／ Ｉ ｏｕｔｌを
出力させる。図中のｅｒｒｏｒは測定時の誤差が０．０
６ｄＢであることを示す。両測定の比１ ｏｕｔ２／
Ｉ ｏｕｔｌを演算するということは、光導波路１と光
ファイバ９の接続特性及び光導波路自体の特性を相殺し
て、反射防止膜３の波長依存性だけを浮き彫りにするこ
とになる。同第５図には、特性行列法及び上記（１）式
で求めた上記設計値の反射防止膜に対する計算結果を併
せて示す。その計算式を以下に示す（第２図（ｂ）参照
）。
以下余白
以
下
余
白
ここで、λは波長、ｎ、は光導波路１のコア２の屈折率
、ｎ、はＳｉＯｘの屈折率、ｎｔはＭｇＦ、の屈折率で
ある。また、ｎ９は反射防止膜３を付加した光導波路端
面と受光用多モード光ファイバ４間の屈折率の既知媒質
の屈折率であって、ｎ、、１は空気の屈折率（＝１）、
ｎｐ！はマツチング液の屈折率（＝ １．４５６）であ
る。また、ｎ、は受光用多モード光ファイバ４のコアの
屈折率、ｔｌはＳｉＯｘの膜厚、ｔ、はＭｇＦ！の膜厚
である。ただし、Ｔ２ｆはマツチング液の屈折率が受光
用多モード光ファイバ４のコアの屈折率に等しいため、
“１”である。
、ｎ、はＳｉＯｘの屈折率、ｎｔはＭｇＦ、の屈折率で
ある。また、ｎ９は反射防止膜３を付加した光導波路端
面と受光用多モード光ファイバ４間の屈折率の既知媒質
の屈折率であって、ｎ、、１は空気の屈折率（＝１）、
ｎｐ！はマツチング液の屈折率（＝ １．４５６）であ
る。また、ｎ、は受光用多モード光ファイバ４のコアの
屈折率、ｔｌはＳｉＯｘの膜厚、ｔ、はＭｇＦ！の膜厚
である。ただし、Ｔ２ｆはマツチング液の屈折率が受光
用多モード光ファイバ４のコアの屈折率に等しいため、
“１”である。
計算結果と測定結果の極値の生ずる波長（０，６３゜（
１７５，０，９４，１，５０μｍ）が一致していること
から、ｎ 、ａｔ 、＋ ｎ 、ａｔ ！＝λ１．！／
２ −−−−−− （２）の関係を満たしていること
が分かる。
１７５，０，９４，１，５０μｍ）が一致していること
から、ｎ 、ａｔ 、＋ ｎ 、ａｔ ！＝λ１．！／
２ −−−−−− （２）の関係を満たしていること
が分かる。
ここで、λ１．は１．５μｍを意味する。しかし０．７
５μｍの極少値ＰｋＯ２７５と１．５０．ｃｚ＋の極少
値Ｐ ｋｌ、 ５Ｇとの差は、計算値では０．３０ｄＢ
に対して測定値で３より、Ｏ０旧μ川の極大値Ｐ ｋｏ
、 ９４が測定値では０．０４ｄＢ大きくなっている（
計算値では極大値の差はない）。２層膜の場合、極少値
の差は反射防止膜を形成する各層の屈折率に大きく依存
しており、第６図よりＳｉＯｘの屈折率が１．６３７と
小さいことが分かる。
５μｍの極少値ＰｋＯ２７５と１．５０．ｃｚ＋の極少
値Ｐ ｋｌ、 ５Ｇとの差は、計算値では０．３０ｄＢ
に対して測定値で３より、Ｏ０旧μ川の極大値Ｐ ｋｏ
、 ９４が測定値では０．０４ｄＢ大きくなっている（
計算値では極大値の差はない）。２層膜の場合、極少値
の差は反射防止膜を形成する各層の屈折率に大きく依存
しており、第６図よりＳｉＯｘの屈折率が１．６３７と
小さいことが分かる。
極大値の差は反射防止膜を形成する各層の膜厚に大きく
依存しており、また上式（２）を満たすことから、横軸
がＳｉＯｘとＭｇＦｔの光学膜厚（ｎ・ｔ／λ１５）の
和が０．５である第７図の換算曲線からＭｇＦ 、の膜
厚が作製時に狙った値より光学膜厚（ｎ２・ｔｔ／λ、
、、＝１／４）より＋０．０２５、ＳｉＯｘの光学膜厚
（ｎ＋”ｔ＋／λ、、、−１／４）が−０゜０２５変化
していることが分かり、実際の膜厚は、ＭｇＦ 、膜厚
が２７４５Ａ 、 Ｓ ｉｏ Ｘ膜厚が２２６８Ａと評
価できた。ただし、Ｍ ｇ Ｆ ｔの屈折率は作製によ
り変化しなく１．３８０として計算し、作製条件により
屈折率が太き（変化する５ｉＯＸの屈折率についてのみ
評価した。また、吸収率については両膜とも本実施例の
測定の波長領域では〜Ｏ（０，００５ｄＢ以下）である
ので評価項目から除外した。さらに、上記評価で獲られ
た各層の屈折率、膜厚を使い計算で求めた１、５μｍで
の反射防止膜の反射率は０．１％以下と推定できた。
依存しており、また上式（２）を満たすことから、横軸
がＳｉＯｘとＭｇＦｔの光学膜厚（ｎ・ｔ／λ１５）の
和が０．５である第７図の換算曲線からＭｇＦ 、の膜
厚が作製時に狙った値より光学膜厚（ｎ２・ｔｔ／λ、
、、＝１／４）より＋０．０２５、ＳｉＯｘの光学膜厚
（ｎ＋”ｔ＋／λ、、、−１／４）が−０゜０２５変化
していることが分かり、実際の膜厚は、ＭｇＦ 、膜厚
が２７４５Ａ 、 Ｓ ｉｏ Ｘ膜厚が２２６８Ａと評
価できた。ただし、Ｍ ｇ Ｆ ｔの屈折率は作製によ
り変化しなく１．３８０として計算し、作製条件により
屈折率が太き（変化する５ｉＯＸの屈折率についてのみ
評価した。また、吸収率については両膜とも本実施例の
測定の波長領域では〜Ｏ（０，００５ｄＢ以下）である
ので評価項目から除外した。さらに、上記評価で獲られ
た各層の屈折率、膜厚を使い計算で求めた１、５μｍで
の反射防止膜の反射率は０．１％以下と推定できた。
以上の実施例では、光導波路として石英系の単一モード
光導波路を使用したが本発明はこれに限るものではなく
、単一及び多モードの半導体及びその他の誘電体導波路
端面に形成した反射防止膜及び単にガラス基板に形成し
た反射防止膜も評価できる。
光導波路を使用したが本発明はこれに限るものではなく
、単一及び多モードの半導体及びその他の誘電体導波路
端面に形成した反射防止膜及び単にガラス基板に形成し
た反射防止膜も評価できる。
また、反射防止膜も２層構造だけではなく単層及び多層
膜の任意の波長の反射防止膜についても評価でき、更に
光導波路への光の入射には光導波路を使用したがレンズ
結合によって光を入射してもよい。
膜の任意の波長の反射防止膜についても評価でき、更に
光導波路への光の入射には光導波路を使用したがレンズ
結合によって光を入射してもよい。
以上説明したように、本発明による反射防止膜のパラメ
ータ測定法は、波長依存性測定することによって、導波
路端面微小領域の反射防止膜の反射率及び反射防止膜を
構成する各層の膜厚、屈折率、吸収率を簡便に直接評価
するから、反射防止膜の作製の制御性を向上し低反射率
の反射防止膜作製に大きく貢献することができる。
ータ測定法は、波長依存性測定することによって、導波
路端面微小領域の反射防止膜の反射率及び反射防止膜を
構成する各層の膜厚、屈折率、吸収率を簡便に直接評価
するから、反射防止膜の作製の制御性を向上し低反射率
の反射防止膜作製に大きく貢献することができる。
また、反射防止膜を形成した光導波路端面の表面荒れに
ついても評価できるため、光導波路端面の端面の加工精
度の向上にも貢献できる。
ついても評価できるため、光導波路端面の端面の加工精
度の向上にも貢献できる。
第１図ないし第７図は本発明を説明するための図であっ
て、第１図（ａ）、（ｂ）は測定原理を説明するための
要部の概略図、第２図は本発明を実施するための測定装
置の概略構成図、第３図（ａ）、（ｂ）は測定法の実施
手順を説明するための要部の概略図、第４図は反射防止
膜の部分の拡大説明図、第５図は測定結果の説明図、第
６図は屈折率の換算図、第７図は膜厚の換算図である。 第８図および第９図は従来例を説明するための図であっ
て、第８図は光導波路端面の反射防止膜の部分の拡大説
明図、第９図は従来の測定装置の概略構成図である。 １・・・・・・光導波路、 ２・・・・・・光導波路の
コア、３・・・・・・反射防止膜、 ４・・・・・・受光用の晃ファイバ ５−１・・・・・・屈折率の既知の第１の媒質、５−１
・・・・・・屈折率の既知の第２の媒質、６・・・・・
・光導波路への入射光、 ７・・・・・・第１の媒質を充填した場合の出力光、８
・・・・・・第２の媒質を充填した場合出力光、９・・
・・・・光導波路に接続された光ファイバ１０・・・・
・・制御及びデータ処理部、１１・・・・・・分光器駆
動部、 １２・・・・・・分光器、１３・・・・・・
ハロゲン光源、 １４・・・・・・光チョッパ１５・
・・・・・チョッパ駆動部、 １６・・・・・・ハロツクイン増幅器、１７・・・・・
・受光器、 １８・・・・・・増幅器、１９・・・・
・・光ファイバの高次モード除去部、２０・・・・・・
光導波路の基板、 ２１・・・・・・ボックスカーインテグレータ、２２・
・・・・・ＬＤ駆動部、 ２３・・・・・・ＬＤ。 ２４・・・・・・カップラー ２５・・・・・・光フ
ァイバ、６・・・・・・受光器、 ７・・・・・・表示部、 ８・・・・・・反射防止膜、 ９・・・・・・光入射部、 ０・・・・・・媒質充填器。
て、第１図（ａ）、（ｂ）は測定原理を説明するための
要部の概略図、第２図は本発明を実施するための測定装
置の概略構成図、第３図（ａ）、（ｂ）は測定法の実施
手順を説明するための要部の概略図、第４図は反射防止
膜の部分の拡大説明図、第５図は測定結果の説明図、第
６図は屈折率の換算図、第７図は膜厚の換算図である。 第８図および第９図は従来例を説明するための図であっ
て、第８図は光導波路端面の反射防止膜の部分の拡大説
明図、第９図は従来の測定装置の概略構成図である。 １・・・・・・光導波路、 ２・・・・・・光導波路の
コア、３・・・・・・反射防止膜、 ４・・・・・・受光用の晃ファイバ ５−１・・・・・・屈折率の既知の第１の媒質、５−１
・・・・・・屈折率の既知の第２の媒質、６・・・・・
・光導波路への入射光、 ７・・・・・・第１の媒質を充填した場合の出力光、８
・・・・・・第２の媒質を充填した場合出力光、９・・
・・・・光導波路に接続された光ファイバ１０・・・・
・・制御及びデータ処理部、１１・・・・・・分光器駆
動部、 １２・・・・・・分光器、１３・・・・・・
ハロゲン光源、 １４・・・・・・光チョッパ１５・
・・・・・チョッパ駆動部、 １６・・・・・・ハロツクイン増幅器、１７・・・・・
・受光器、 １８・・・・・・増幅器、１９・・・・
・・光ファイバの高次モード除去部、２０・・・・・・
光導波路の基板、 ２１・・・・・・ボックスカーインテグレータ、２２・
・・・・・ＬＤ駆動部、 ２３・・・・・・ＬＤ。 ２４・・・・・・カップラー ２５・・・・・・光フ
ァイバ、６・・・・・・受光器、 ７・・・・・・表示部、 ８・・・・・・反射防止膜、 ９・・・・・・光入射部、 ０・・・・・・媒質充填器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一方の導波路端面に反射防止膜を形成した光導波路に対
して、もう一方の導波路端面より任意の波長の光を入射
させ、 反射防止膜の形成された端面の近傍に受光用の光ファイ
バを配置し、 反射防止膜を透過した光を受光できる状態にして、光フ
ァイバと反射防止膜の間に屈折率の既知の第１の媒質を
充填した場合と屈折率が既知の第２の媒質を挿入した場
合の両者の受光用光ファイバからの出力の比の波長依存
性の測定値を求め、反射防止膜の膜厚及び屈折率のパタ
メータを変化させて理論値を計算し、 該理論値と前記測定値とを比較して両者を一致させるよ
うにすることにより反射防止膜のパタメータを測定する
ことを特徴とする反射防止膜のパラメータ測定法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1032224A JP2675125B2 (ja) | 1989-02-10 | 1989-02-10 | 反射防止膜のパラメータ測定法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1032224A JP2675125B2 (ja) | 1989-02-10 | 1989-02-10 | 反射防止膜のパラメータ測定法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02210239A true JPH02210239A (ja) | 1990-08-21 |
| JP2675125B2 JP2675125B2 (ja) | 1997-11-12 |
Family
ID=12352988
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1032224A Expired - Fee Related JP2675125B2 (ja) | 1989-02-10 | 1989-02-10 | 反射防止膜のパラメータ測定法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2675125B2 (ja) |
-
1989
- 1989-02-10 JP JP1032224A patent/JP2675125B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2675125B2 (ja) | 1997-11-12 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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