JPH02203229A - 力検出装置 - Google Patents

力検出装置

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JPH02203229A
JPH02203229A JP1023121A JP2312189A JPH02203229A JP H02203229 A JPH02203229 A JP H02203229A JP 1023121 A JP1023121 A JP 1023121A JP 2312189 A JP2312189 A JP 2312189A JP H02203229 A JPH02203229 A JP H02203229A
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JP
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axis
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element group
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resistance
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JP1023121A
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English (en)
Inventor
Kazuhiro Okada
和廣 岡田
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Wako KK
Original Assignee
Wako KK
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Publication date
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Publication of JPH02203229A publication Critical patent/JPH02203229A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は力検出装置、特にXYZ三次元座標系において
、原点を作用点として各軸方向に作用する力および各軸
回りに作用するモーメントを検出する力検出装置に関す
る。
〔従来の技術〕
一般に、ある作用点に働く力を検出する装置は、この力
の作用によって生じる応力歪みを検出することによって
間接的に力の検出を行っている。応力歪みの検出は、力
の作用によって応力歪みを生じる起歪体の各部にストレ
ーンゲージなどの検出器を設け、この検出器の抵抗値な
どの変化を測定することによって行われている。
最近では、機械的変形によって電気抵抗が変化するとい
うピエゾ抵抗効果の性質を備えた抵抗素子を、半導体基
板上に配列し、この抵抗素子の抵抗値の変化から力を検
出する技術も提案されている。力の作用によって半導体
基板上に機械的な歪みを起こさせ、これによって生じる
抵抗素子の抵抗値の変化を電気的に検出するのである。
たとえば、特開昭63−266329号公報には、XY
平面上に広がった基板上の、X軸方向およびY軸方向に
沿った所定位置に、複数の抵抗素子を形成し、これら抵
抗素子を特有のブリッジ回路に組むことにより、各軸方
向に作用した力および各軸回りに作用したモーメントを
、ブリッジ電圧の変化として検出できる技術が開示され
ている。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、前述の公報に開示された力検出装置には
、次のような問題点がある。
(1)  作用した力に基づいて基板上に機械的な歪み
を生じやすくするため、基板の数箇所をくりぬき、X軸
方向に沿った第1の架橋部と、Y軸方向に沿った第2の
架橋部とを形成している。ところが、この基板を金属な
どでできた起歪体に接着して用いる場合、起歪体上面に
接着材をのせ、高温下でこの接着材を溶融させ、その上
に基板をのせて接着を行うことになる。しかしながら、
基板にはくりぬき部があるため、溶融した接着材が、く
りぬき部を浸透して基板表面に出てきてしまう。
このように基板表面に出てきた接着材は、基板表面に施
された種々の配線に対して悪影響を及ぼし好ましくない
(2)  架橋部の歪み方にはゆらぎが生じやすく、正
確な測定値が得られない場合がある。
(a)  xyzの3軸方向の力および3軸回りのモー
メントという6成分の検出が可能であるが、測定対象と
なる成分の測定値に別な成分が干渉を及ぼし、正確な測
定値が得られない場合がある。
そこで本発明は、これらの問題点を解決することのでき
る力検出装置を提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
(1)  本願節1の発明は、XYZ三次元座標系で、
原点を作用点として軸方向に作用する力あるいは軸回り
に作用するモーメントを検出する力検出装置において、 上面がXY平面上に含まれ、この上面に、X軸圧方向に
沿った第1の領域と、X軸負方向に沿つた第2の領域と
、Y軸圧方向に沿った第3の領域と、Y軸負方向に沿っ
た第4の領域と、を有する基板を用意し、 この基板の上面の前述の各領域の境界部分に、下面まで
には達しないような深さの溝を形成することにより、原
点に力が作用した場合に、基板上面に生ずる歪みが4つ
の領域でそれぞれ特徴をもつようにし、 4つの領域のそれぞれに、機械的変形によって電気抵抗
が変化する性質をもつ抵抗素子を形成し、これらの抵抗
素子の電気抵抗の変化に基づいて、原点に作用する力あ
るいは軸回りに作用するモーメントを検出するようにし
たものである。
(2)  本願第2の発明は、XYZ三次元座標系で、
原点を作用点としてX軸方向に作用する力を検出する力
検出装置において、 原点の両側にY軸に沿って形成された架橋部を設け、 原点にX軸方向の力を加えることによって架橋部に歪み
が生じるように、架橋部の両端を固定部として固定し、 架橋部のXY平面上に、機械的変形によって電気抵抗が
変化する性質をもつ複数の抵抗素子からなる抵抗素子群
を、 Y軸圧方向の原点側にY軸を挟んで一対、Y軸負方向の
原点側にY軸を挟んで一対、Y軸圧方向の固定部鋼にY
軸を挟んで一対、Y軸負方向の固定部鋼にY軸を挟んで
一対、の各位置に設け、 これら抵抗素子群のうち、第1象限の原点側にある抵抗
素子群の抵抗素子と、第2象限の固定部鋼にある抵抗素
子群の抵抗素子と、を直列接続して第1の辺を構成し、 これら抵抗素子群のうち、第4象限の原点側にある抵抗
素子群の抵抗素子と、第3象限の固定部鋼にある抵抗素
子群の抵抗素子と、を直列接続して第2の辺を構成し、 これら抵抗素子群のうち、第2象限の原点側にある抵抗
素子群の抵抗素子と、第1象限の固定部鋼にある抵抗素
子群の抵抗素子と、を直列接続して第3の辺を構成し、 これら抵抗素子群のうち、第3象限の原点側にある抵抗
素子群の抵抗素子と、第4象限の固定部鋼にある抵抗素
子群の抵抗素子と、を直列接続して第4の辺を構成し、 この4つの辺について、第1の辺と第2の辺が互いに対
辺に、第3の辺と第4の辺とが互いに対辺に、なるよう
にしてブリッジ回路を形成し、この回路のブリッジ電圧
によって、X軸方向に作用する力を検出するようにした
ものである。
(3)  本願第3の発明は、XYZ三次元座標系で、
原点を作用点としてZ軸方向に作用する力を検出する力
検出装置において、 原点の両側にX軸に沿って形成された架橋部を設け、 原点に2軸方向の力を加えることによって架橋部に歪み
が生じるように、架橋部の両端を固定部として固定し、 架橋部のXY平面上に、機械的変形によって電気抵抗が
変化する性質をもつ複数の抵抗素子からなる抵抗素子群
を、 X軸圧方向の原点側の位置、 X軸負方向の原点側の位置、 X軸圧方向の固定部鋼の位置、 X軸負方向の固定部鋼の位置、 の各位置に、いずれもほぼX軸上にのるように設け、 これら抵抗素子群のうち、X軸圧方向の固定部鋼の抵抗
素子群の1抵抗素子と、X軸負方向の固定部鋼にある抵
抗素子群の1抵抗素子と、を直列接続して第1の辺を構
成し、 これら抵抗素子群のうち、同じくX軸圧方向の固定部鋼
の抵抗素子群の別な1抵抗素子と、同じくX軸負方向の
固定部鋼にある抵抗素子群の別な1抵抗素子と、を直列
接続して第2の辺を構成し、これら抵抗素子群のうち、
X軸圧方向の原点側の抵抗素子群の1抵抗素子と、X軸
負方向の原点側にある抵抗素子群の1抵抗素子と、を直
列接続して第3の辺を構成し、 これら抵抗素子群のうち、同じくX軸圧方向の原点側の
抵抗素子群の別な1抵抗素子と、同じくX軸負方向の原
点側にある抵抗素子群の別な1抵抗素子と、を直列接続
して第4の辺を構成し、この4つの辺について、第1の
辺と第2の辺が互いに対辺に、第3の辺とm4の辺とが
互いに対辺に、なるようにしてブリッジ回路を形成し、
この回路のブリッジ電圧によって、Z軸方向に作用する
力を検出するようにしたものである。
(4〉  本願箱4の発明は、XYz三次元座標系で、
原点を作用点としてX軸回りに作用するモーメントを検
出する力検出装置において、原点の両側にY軸に沿って
形成された架橋部を設け、 原点にX軸回りのモーメントを加えることによって架橋
部に歪みが生じるように、架橋部の両端を固定部として
固定し、 架橋部のXY平面上に、機械的変形によって電気抵抗が
変化する性質をもつ複数の抵抗素子からなる抵抗素子群
を、 Y軸圧方向の原点側の位置、 Y軸負方向の原点側の位置、 Y軸圧方向の固定部鋼の位置、 Y軸負方向の固定部鋼の位置、 の各位置に、いずれもほぼY軸上にのるように設け、 これら抵抗素子群のうち、Y軸圧方向の固定部鋼の抵抗
素子群の1抵抗素子と、Y軸負方向の原点側にある抵抗
素子群の1抵抗素子と、を直列接続して第1の辺を構成
し、 これら抵抗素子群のうち、同じくY軸圧方向の固定部鋼
の抵抗素子群の別な1抵抗素子と、同じくY軸負方向の
原点側にある抵抗素子群の別な1抵抗素子と、を直列接
続して第2の辺を構成し、これら抵抗素子群のうち、Y
軸圧方向の原点側の抵抗素子群の1抵抗素子と、Y軸負
方向の固定部鋼にある抵抗素子群の1抵抗素子と、を直
列接続して第3の辺を構成し、 これら抵抗素子群のうち、同じくY軸正方向の原点側の
抵抗素子群の別な1抵抗素子と、同じくY軸負方向の固
定部鋼にある抵抗素子群の別なl抵抗素子と、を直列接
続して第4の辺を構成し、この4つの辺について、第1
の辺と第2の辺が互いに対辺に、第3の辺と第4の辺と
が互いに対辺に、なるようにしてブリッジ回路を形成し
、この回路のブリッジ電圧によって、X軸回りに作用す
るモーメントを検出するようにしたものである。
〔作 用〕
本願箱1の発明による力検出装置では、基板の上面に、
下面までには達しないような深さの溝が形成される。原
点に力が作用すると、各領域に生じる歪みが、この溝の
作用によって各領域ごとに特徴をもったものになる。す
なわち、従来装置における架橋部が、基板をくりぬくこ
となく形成できるのである。したがって、起歪体上の溶
融した接着材が基板表面まで浸透してくることはない。
本願箱2の発明による力検出装置では、Y軸に沿って架
橋部を設け、このY軸周辺に形成された抵抗素子によっ
てX方向に作用する力を検出している。X方向の力は、
架橋部の長手方向に対して直角であるため、架橋部に生
じる歪みはゆらぎのない安定したものとなる。したがっ
て、ゆらぎのない正確な測定値が得られるようになる。
本願箱3の発明および第4の発明にょる力検出装置では
、はぼ軸上に配置された抵抗素子によって、軸方向の力
または軸回りのモーメントを検出している。このように
抵抗素子をほぼ軸上に配することにより、別な軸方向の
力あるいは軸回りのモーメントの影響が抑えられ、他の
成分の干渉を受けることのない正確な測定値が得られる
ようになる。
〔実施例〕
以下、本発明を図示する実施例に基づいて説明する。
装置の構成 第1図(a)は、本発明の一実施例に係る力検出装置の
上面図、同図(b)および(C)は同装置を切断線A−
Aに沿って切った断面図である。この実施例では、基板
10の表面上に24組の抵抗素子群R1−124が形成
されている。基板10はシリコンの単結晶基板からなり
、上面の8か所に溝G1〜G8が形成されている。この
溝61〜G8は、基板10の下面にまでは到達していな
い、別言すれば、基板10を上下に貫通するくりぬき孔
にはなっていない点が特徴である。この様子は、第1図
(b)または(C)の断面図を見るとよく理解できよう
。このような溝は、基板10をエツチング処理すること
によって容易に形成することができる。
異方性エツチングを施せば、同図(b)に示すような断
面形状をもつ溝が形成できるし、等方性エツチングを施
せば、同図(C)に示すような断面形状をもつ溝が形成
できる。このような溝を形成することによって、基板1
0の上面は、領域11〜14の4つの領域に区画され、
基板中央の作用点Pに力が作用した場合、各領域ごとに
特徴をもった機械的な歪みが生じることになる。溝01
〜G8を基板の下面にまで達するように堀り下げてくり
ぬくと、領域11〜14はそれぞれ橋を形成することに
なるが、この実施例のように、下面にまで達しない溝で
あっても、基板10上面で生じる機械的歪みに関する現
象については、領域11〜14が橋と同等の働きをする
ことになる。そこで、以下の説明では、第2図に模式的
に示すように、領域11〜14を架橋部11〜14と呼
ぶことする。また、基板10の上面中央に定めた作用点
Pを原点として、図のようにXYZ三次元座標系を定義
する。Z軸は原点Pから紙面上方に向かう軸となる。
さて、抵抗素子群R1−R24は、それぞれが複数の抵
抗素子で構成されている。第1図(a)に示す各抵抗素
子群の位置は、その抵抗素子群に所属する抵抗素子が分
布する領域を示しているにすぎない。たとえば、抵抗素
子群R3は、第3図に示すように、4つの抵抗素子「1
〜「4によって構成されており、この抵抗素子r1〜r
4が、第1図(a)においてR3と記された領域に分布
していることになる。なお、各抵抗素子は、その長手方
向が第1図(a)に示す抵抗素子群R1〜R24の長手
方向に一致するように配するのが、高感度を得る上で好
ましい。この抵抗素子群の配列の特徴は、群R3、R4
、RL5. RIBが、それぞれほぼX軸上に配され、
群R9、RIO,R21,R22が、それぞれほぼY軸
上に配され、残りの群は、X軸またはY軸の両側に沿っ
て、軸から少し距離をおいて配されている点である。こ
のシンメトリックな配列は、第2図に模式的に示されて
いる。各抵抗素子は、単結晶基板上に不純物を拡散する
ことによって形成される。このようにして形成した抵抗
素子はピエゾ抵抗効果を示し、機械的変形によって電気
抵抗が変仕する性質をもっている。
基板10の周囲は固定され、作用点Pに対する固定部と
なる。そこで、偶数符号を付した抵抗素子群を原点側の
抵抗素子群、奇数符号を付した抵抗素子群を固定部鋼の
抵抗素子群と呼ぶことにする。このように基板10の周
囲を固定部とすれば、作用点Pに力が加わったときに、
架橋部11〜14に様々な応力歪みが生じるのである。
この歪みによって、各抵抗素子群の抵抗素子に電気抵抗
の変化が生じる。本装置は、この電気抵抗の変化に基づ
いて作用点Pに加わった力の検出を行うのである。なお
、実際には、作用点Pに何らかの起歪体が接着され、こ
の起歪体を介して作用点Pに力が加えられる。
上述のように配された24組の抵抗素子群を用いて、第
4図(a)〜(r)に示すような6とおりのブリッジが
形成されている。各ブリッジにはそれぞれ電源30が接
続され、また、FX、FYFZ、MX、MY、MZl、
:比例シタ電圧VFX。
VFY 、VFZ 、VMX 、VMY 、VMZをブ
リッジ電圧として出力する電圧計41〜46が接続され
ている。
なお、このブリッジ回路図で示されている各抵抗素子の
記号は、その抵抗素子群の中の1つの抵抗素子を意味し
ており、同一記号が付されている抵抗素子であってもそ
れらは同一の抵抗素子群に属する別な抵抗素子を意味す
るものとする。たとえば、第4図の回路図中、R3と記
された抵抗素子は同図(C)に2か所、同図(e)に2
か所、合計で4か所に用いられているが、これらはそれ
ぞれ第3図に示す4つの抵抗素子r1〜「4を用いてお
り、互いに電気的に独立した別な抵抗素子である。ここ
では、説明の便宜上、抵抗素子群Rx(x−1〜24)
に属する1抵抗素子を示すのにも、同一記号Rxを用い
ることにする。
装置の動作 以下、上述の装置の動作について説明する。第1図に示
すような抵抗素子の配置を行うと、作用点Pに力または
モーメントFX、FY、FZ。
MX、MY、MZが加わったときに、各抵抗素子R1−
R24は第5図に示す表(各抵抗素子はP型の半導体か
ら成るものとする)のような電気抵抗変化を生じる。こ
こで“01は変化なし、“+。
は電気抵抗の増加、 −°は電気抵抗の減少を示す。 
ここで、第5図のような結果が得られる理由を第6図〜
第9図を参照して簡単に説明する。
第6図〜第9図は、作用点Pに力またはモーメントFX
、FY、FZ、MX、MY、MZが加わったときに、架
橋部に生じる応力歪みおよび電気抵抗の変化を示す図で
、各図(a)は架橋部の上面図、各図(b)は正断面図
、各図(C)は側断面図である。
たとえば、第6図では、作用点PにX軸方向の力FXが
作用したときの状態が示されている。力FXにより架橋
部11は伸び、架橋部13は縮むことになる。したがっ
て、架橋部11にある抵抗素子(R1−Re)は伸びて
電気抵抗が増加しくP型半導体の場合)、架橋部13に
ある抵抗素子(R13〜R18)は縮んで電気抵抗が減
少する。架橋部12および14にある抵抗素子は、配置
位置によって伸びたり縮んだりする。結局、第5図の表
第1欄のような結果が得られることが容易に理解できよ
う。力FYが作用した場合は、第6図のX軸とY軸とを
単に入れ替えただけであるから、第5図の表第2欄のよ
うな結果になる。また、力FZが作用した場合は、第7
図に示す状態になり、同表第3欄のような結果になる。
一方、モーメントが作用した場合は次のようになる。ま
ず、X軸回りのモーメントMXが作用した場合は、第8
図に示す状態になり、同表第4欄のような結果が得られ
る。Y軸回りのモーメントMYが作用した場合は、第8
図でX軸とY軸とを単に入れ替えただけであるから、同
表第5欄のような結果が得られる。最後に、Z軸回りの
モーメントMzが作用した場合は、第9図に示す状態に
なり、同表第6欄のような結果が得られる。
さて、ここで各抵抗素子R1〜R24によって第4図に
示すようなブリッジが構成されていることを考慮すれば
、作用点Pに加わるFX、FY。
FZ、MX、MY、MZと、電圧計41〜461.:現
しル検出電圧VFX、VFY、VFZ、VMX。
VMY 、VMZとの関係は、第10図に示す表のよう
になる。ここで、′Omは電圧変化が生じないことを示
し、“V”は加わる力に依存した電圧変化が生じること
を示す。電圧変化の極性は加わる力の向きに依存し、電
圧変化の大きさは加わる力の大きさに依存することにな
る。
第10図に示すような表が得られることは、第4図の回
路図でブリッジのそれぞれ対辺となる抵抗素子の抵抗値
の積が互いに等しい場合に、電圧変化がないことを考え
れば容易に理解できよう。
たとえば、力FXが加わった場合、各抵抗素子は第5図
の表第1欄のような電気抵抗の変化を生じる。ここで第
4図(a)を参照すると、R20,R23R7,R12
はともに抵抗値が増加し、R8、R11゜R19,R2
4はともに抵抗値が減少する。したがって、対辺となる
抵抗素子の抵抗値の積に大きな差が生じ、電圧変化“■
゛が検出されることになる。
一方、第4図(b)〜(f)のブリッジ回路においては
、ブリッジ電圧に変化は生じない。たとえば、第4図(
b)の回路では、R1とR6は+゛で抵抗値が増加する
が、その対辺となるR14とR17は“で抵抗値が減少
してしまう。同じことが、もう一方の対辺を構成するR
2 、 R5、R13,R18についても成り立ち、結
局ブリッジ電圧に変化は生じないのである。このように
、力FXの作用はVFXにのみ影響を及ぼし、VFXの
測定によって力FXを独立して検出することができる。
なお、実際の量産品では、各抵抗素子の特性にばらつき
があるため、他成分の力の影響を完全に排除することは
困難であるが、この点に関しては「本実施例の効果(3
)」において後述する。
以上、結局第10図の表において、対角成分のみが“V
”であり、それ以外はすべて“0°であるということは
、何ら演算を行うことなしに、各検出値を直接電圧計の
読みとして得ることができることを示している。
なお、上述のようなブリッジを構成することによって、
応力以外の要因に基づく抵抗変化の影響を打消すことが
できる。たとえば、温度によって各抵抗素子の電気抵抗
が変化するが、ブリッジを構成するすべての抵抗素子が
ほぼ同等に変化するため、この温度変化の影響は相殺さ
れるのである。
したがって、このブリッジ構成によってより高精度の測
定が可能になる。
本実施例の効果 最後に上述の実施例の効果を、従来装置に対比して述べ
ておく。まず、参考のために、特開昭63−26632
9号公報に開示されている従来装置の概要を説明する。
第11図はこの従来装置の上面図、第12図はこの装置
におけるX軸方向の力FXを検出ためのブリッジ回路図
である。第11図に示すように、この装置は十文字状の
架橋部21〜24と、その外側に円周状に形成された固
定部25を有する。各架橋部には、それぞれ抵抗素子群
R1−RlBが形成されている。隣接する架橋部の間に
は、4分円状のくりぬき部26が設けられている。この
くりぬき部26は基板の上面から下面に達する貫通孔で
ある。逆に言えば、このくりぬき部26を設けたために
、4つの架橋部21〜24が形成されたことになる。抵
抗素子群R1〜R1Bに属する抵抗素子を組み合わせて
6とおりのブリッジ回路が組まれており、FX、FY。
FZ、MX、MY、MZという6成分の力が検出できる
。第12図には、このうちFXを検出するためのブリッ
ジ回路を示す。電源30からこのブリッジに電圧を供給
すれば、電圧計47によって力FXを検出することがで
きる。なお、詳細については上記公報を参照されたい。
さて、この従来装置には、前述したように3つの問題点
がある。本実施例の装置では、これらの問題点を解決す
ることができる。以下、各問題点ごとに述べる。
(1)  従来装置の第1の問題点は、基板を起歪体に
接着する場合、接着材が基板のくりぬき部を浸透して基
板表面にまで出てきてしまい配線に悪影響を与えるとい
う点であった。この様子を第13図に示す。この第13
図は、従来装置の基板20を起歪体50に接着した状態
を示す。起歪体50は金属でできており、上面から見る
と円形をした部材である。その中心に位置する作用部5
1は下方に突出しており、その周囲には厚みが薄いため
に可撓性をもった可撓部52が形成されており、更にそ
の外周には固定部53が形成されている。この起歪体5
0の上面には接着剤層60を介して、基板20が接着さ
れている。固定部53を固定した状態で、作用部51に
力を加えると、可撓部52が撓み、起歪体50に機械的
歪みが生じる。この歪みはそのまま基板20に伝達され
る。
こうして、作用部51に加えた力を、基板20上の作用
点Pに加えられた力として検出することができる。基板
20としては、通常半導体基板が用いられるために、直
接大きな力を加えることができないが、このように起歪
体50に接着して用いるようにすれば、大きな力の測定
も可能になる。
ところで、従来装置の基板20には、前述のようにくり
ぬき部26が設けられているため、接着工程において、
溶融した接着材60が、このくりぬき部26を通って基
板上面にまで出てきてしまうのである。基板20の上面
には、抵抗素子が形成されるとともに、種々の配線がな
されており、接着材はこの配線に悪影響を及ぼす。
これに対し、本実施例の装置では、基板10の上面に溝
Gが形成されているものの、この溝Gは下面にまでは達
していないため、第14図に示すように、起歪体50に
接着した場合であっても、基板下面の接着材60が上面
にまで浸透するという弊害はない。これは、起歪体を用
いた量産品を生産する上で大きなメリットになる。
(2)  従来装置の第2の問題点は、架橋部に生じる
歪みにゆらぎが生じるため、安定した測定値が得られな
いという点であった。この現象を、X軸方向の力FXを
検出する場合を例にとって、もう少し詳しく説明する。
作用点Pに力FXが加わったときの基板の状態は、16
図に示したとおりである。同図(a)に示すように、架
橋部11は伸び、架橋部13は縮み、架橋部12.14
はねじれることになる。
ここで、従来装置と本実施例の装置との根本的な相違は
、従来装置が第6図(a)の架橋部11および13にあ
る抵抗素子(第11図では架橋部22.24に相当)を
利用して力FXを測定している(第12図のブリッジ参
照)のに対し、本実施例の装置は架橋部12および14
にある抵抗素子を利用して力FXを測定している点にあ
る。第6図(a)に示すように、架橋部11にある抵抗
素子は“十″を示し、架橋部13にある抵抗素子は”を
示すため、従来装置ではこの抵抗直の変化を利用して力
FXを検出していたのである。
ところが、実際には、架橋部13にある抵抗素子の抵抗
値の変化は、かなり不安定なものになる。
すなわち、第6図(b)に力FXが作用したときの基板
の断面状態が示されているが、これは理想的な状態を示
したものであって、実際には断面形状はこのように平ら
なものにはならない。実際の断面形状は、第15図(a
)または(b)のようになる。
作用点Pより右側の部分は縮むのであるが、平らのまま
縮むことは希で、同図(a)のように上側に反りを生じ
たり、同図(b)のように下側に反りを生じたりするの
である。なお、第15図では実際の装置における各部の
位置関係を明確にするために、起歪体50の作用部51
および固定部53の断面を合わせて示しである。このよ
うな反りが生じると、抵抗素子の抵抗値変化に影響を及
ぼす。
しかも反りは常に一定ではなく、その都度多様に変化す
るため、架橋部13にある抵抗素子の抵抗値の変化には
ゆらぎが生じる結果となる。このため、従来装置では安
定した測定値を得ることができないという問題が生じて
いたのである。
これに対し、本実施例の装置では、力FXを測定するの
に、架橋部12および14にある抵抗素子を利用してい
る。力FXが作用した場合、この架橋部12および14
には前述のような反りは生じず、常に安定した抵抗値変
化が得られ、常に安定した測定値を得ることができる。
要するに、従来装置では、X軸方向の力を測定するため
にX軸に沿って分布している抵抗素子を利用していたの
に対し、本実施例の装置では、Y軸に沿って分布してい
る抵抗素子を利用したのである。
以上、本実施例の装置のメリットを、X軸方向の力FX
を測定する場合について説明したが、Y軸方向の力FY
を測定する場合にも全く同様のメリットが得られる。
(3)  従来装置の第3の問題点は、対象となる力成
分の測定系に別な成分が干渉を及ぼし、正確な測定値が
得られないという点であった。前述の公報には、ブリッ
ジをうまく組み合わせることによって、このような他成
分の干渉のない正確な測定値が得られる旨の記載がある
。すなわち、FX。
FY、FZ、MX、MY、MZという6成分を検出する
ためにそれぞれ6つのブリッジ回路が組まれる。このう
ちのある1つのブリッジ回路、たとえばMXを検出する
ためのブリッジ回路について、そのブリッジを構成する
各抵抗素子に着目すれば、確かに他の5成分の力の作用
によっても抵抗値の変化が生じているが、この変化はブ
リッジ回路によって互いに相殺され、ブリッジ電圧の変
化として検出されるのは、MXという1成分だけとなる
旨の記載がなされている。簡単に言えば、測定対象でな
い力成分に対しては、ブリッジの一方では“十′の変化
を示し、他方では“−“の変化を示すようになるため、
両者で打ち消しあうということである。しかしながら、
このようなブリッジ回路による他成分の相殺を行うため
には、用いるすべての抵抗素子の大きさ、形状、材質な
どを同じにしてすべての抵抗値を等しくし、かつ、機械
的歪みによる抵抗変化率も等しくするという理想的な条
件を満足させねばならない。すなわち、“+。
と“−”とで他成分の力を相殺する原理を用いる以上、
“+”の値と“−”の値とが等しくなければ、完全な相
殺はできないわけである。したがって、現実的にはこの
ような条件を満足させた製品を製造することは不可能で
あり、従来装置を量産した場合には、他成分の干渉を受
けざるを得ないのである。
本実施例の装置では、はぼ軸上に配された抵抗素子を用
いてブリッジ回路を組むという手法をとることによって
、このような他成分の干渉を抑制しているのである。抵
抗素子群の配列における、従来装置と本実施例の装置と
の顕著な差は、111図のR1−R1&の配列と第2図
のR1−R24の配列を対比するとわかるように、本実
施例の装置ではほぼ軸上に抵抗素子群R3、R4、R1
5゜RlB、 R9、RIO,R21,R22が配され
ている点である。このように、はぼ軸上に配された抵抗
素子は、ある力成分が加わった場合の抵抗値の変化が常
に°0″になるという特徴をもっている。たとえば、第
2図において、Y軸上に配された抵抗素子群R9、RI
O,R21,R22に着目すれば、第6図(a)に示す
ように、力FXが加わった場合には変化“0°を示し、
第9図(a)に示すように、モーメントMZが加わった
場合にも変化“0”を示す。本実施例の装置では、FZ
、MX、MYを検出するブリッジ回路に、このような軸
上の抵抗素子群を採用している。たとえば、MXを検出
するブリッジ回路では、第4図(d)に示すように、Y
軸上に配列された抵抗素子群R9、RIO,R21゜R
22を用いている。したがって、力FXやモーメントM
Zといった測定対象でない他成分の力が加わったとして
も、これらの抵抗素子群の抵抗値の変化は“O″であり
、ブリッジ電圧は発生しないことになる。
従来装置では、前述のように“+“と“−゛とで、他成
分の力を相殺する原理を用いていたが、“+”の値と“
−”の値とが等しくなければ、完全な相殺はできないわ
けである。これに対し、本実施例の装置では、特定の他
成分の力に対してもともと変化“O”を示す抵抗素子を
用いているので、抵抗素子間に特性のばらつきがあって
も、この特定の他成分の力は検出されないのである。も
っとも、他成分の力すべてに対して、変化“0“を示す
わけではないので、用いる抵抗素子としては、従来装置
と同様に、可能な限り大きさ、形状、材質などが同じも
のを用いるようにすべきである。
このように、本実施例の装置では、従来装置に比べ、他
成分の力が測定値に与える干渉を抑制することができる
〔発明の効果〕
(1)  本願第1の発明によれば、力検出装置におい
て、基板上面に下面までには達しないような深さの溝を
設けて架橋部を形成するようにしたため、基板を接着す
る場合に接着剤が基板上面にまで浸透することがなく、
配線に悪影響を与えることがない。
(2)  本願第2の発明によれば、力検出装置におい
て、Y軸に沿って架橋部を設け、このY軸周辺に形成さ
れた抵抗素子によってX方向に作用する力を検出するよ
うにしたため、ゆらぎのない正確な測定値が得られるよ
うになる。
(3)  本願第3の発明および第4の発明によれば、
力検出装置において、はぼ軸上に配置された抵抗素子に
よって、軸方向の力または軸回りのモーメントを検出す
るようにしたため、他の成分の干渉を抑制した正確な測
定値が得られるようになる。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)は本発明の一実施例に係る力検出装置の上
面図、同図(b) 、 (c)は同装置を切断線A−A
で切った断面図、第2図は第1図に示す装置の抵抗素子
群の配列を示す模式図、第3図は第1図に示す装置の1
抵抗素子群を構成する複数の抵抗素子を示す図、第4図
(a)〜(f’)は第1図に示す装置の各抵抗素子を組
み合わせたブリッジ回路を示す図、第5図は第1図に示
す装置の各抵抗素子の抵抗変化を示す図表、第6図は第
1図に示す装置にX軸方向の力が作用したときの状態を
示す図、第7図は第1図に示す装置にY軸方向の力が作
用したときの状態を示す図、第8図は第1図に示す装置
にX軸回りのモーメントが作用したときの状態を示す図
、第9図は第1図に示す装置にZ軸回りのモーメントが
作用したときの状態を示す図、第10図は第1図に示す
装置において検出すべき力と検出電圧との関係を示す図
表、第11図は従来の力検出装置の上面図、第12図は
第11図に示す従来装置の各抵抗素子を組み合わせたブ
リッジ回路の1つを示す図、第13図は第11図に示す
従来装置を起歪体に接着した状態を示す図、第14図は
第1図に示す本発明の装置を起歪体に接着した状態を示
す図、第15図は基板の歪みにゆらぎが生ずることを説
明する図である。 10・・・基板、11〜14・・・架橋部、20・・・
基板、21〜24・・・架橋部、25・・・固定部、2
6・・・くりぬき部、30・・・電源、41〜47・・
・電圧計、50・・・起歪体、51・・・作用部、52
・・・可撓部、53・・・固定部、60・・・接着材、
G、Gl〜G8・・・溝、R1−R24・・・抵抗素子
群、r1〜「4・・・抵抗素子、P・・・作用点。 出願人代理人  志  村     浩第3図 第1図 (α) (b) (C) (d) (e) 第4図 ご1 N ♂1 づ1 よ1 第13図 第14図 第15図

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)XYZ三次元座標系において、原点を作用点とし
    て軸方向に作用する力あるいは軸回りに作用するモーメ
    ントを検出する力検出装置であって、 上面がXY平面上に含まれ、この上面に、X軸正方向に
    沿った第1の領域と、X軸負方向に沿った第2の領域と
    、Y軸圧方向に沿った第3の領域と、Y軸負方向に沿っ
    た第4の領域と、を有する基板を用意し、 この基板の上面の前記各領域の境界部分に、下面までに
    は達しないような深さの溝を形成することにより、前記
    原点に力が作用した場合に、前記基板上面に生ずる歪み
    が前記4つの領域でそれぞれ特徴をもつようにし、 前記4つの領域のそれぞれに、機械的変形によって電気
    抵抗が変化する性質をもつ抵抗素子を形成し、これらの
    抵抗素子の電気抵抗の変化に基づいて、前記原点に作用
    する力あるいは前記軸回りに作用するモーメントを検出
    することを特徴とする力検出装置。
  2. (2)XYZ三次元座標系において、原点を作用点とし
    てX軸方向に作用する力を検出する力検出装置であつて
    、 原点の両側にY軸に沿って形成された架橋部を設け、 原点にX軸方向の力を加えることによって前記架橋部に
    歪みが生じるように、前記架橋部の両端を固定部として
    固定し、 前記架橋部のXY平面上に、機械的変形によって電気抵
    抗が変化する性質をもつ複数の抵抗素子からなる抵抗素
    子群を、 Y軸圧方向の原点側にY軸を挟んで一対、 Y軸負方向の原点側にY軸を挟んで一対、 Y軸圧方向の固定部側にY軸を挟んで一対、Y軸負方向
    の固定部側にY軸を挟んで一対、の各位置に設け、 前記抵抗素子群のうち、第1象限の原点側にある抵抗素
    子群の抵抗素子と、第2象限の固定部側にある抵抗素子
    群の抵抗素子と、を直列接続して第1の辺を構成し、 前記抵抗素子群のうち、第4象限の原点側にある抵抗素
    子群の抵抗素子と、第3象限の固定部側にある抵抗素子
    群の抵抗素子と、を直列接続して第2の辺を構成し、 前記抵抗素子群のうち、第2象限の原点側にある抵抗素
    子群の抵抗素子と、第1象限の固定部側にある抵抗素子
    群の抵抗素子と、を直列接続して第3の辺を構成し、 前記抵抗素子群のうち、第3象限の原点側にある抵抗素
    子群の抵抗素子と、第4象限の固定部側にある抵抗素子
    群の抵抗素子と、を直列接続して第4の辺を構成し、 前記4つの辺について、第1の辺と第2の辺が互いに対
    辺に、第3の辺と第4の辺とが互いに対辺に、なるよう
    にしてブリッジ回路を形成し、この回路のブリッジ電圧
    によって、X軸方向に作用する力を検出することを特徴
    とする力検出装置。
  3. (3)XYZ三次元座標系において、原点を作用点とし
    てZ軸方向に作用する力を検出する力検出装置であって
    、 原点の両側にX軸に沿って形成された架橋部を設け、 原点にZ軸方向の力を加えることによって前記架橋部に
    歪みが生じるように、前記架橋部の両端を固定部として
    固定し、 前記架橋部のXY平面上に、機械的変形によって電気抵
    抗が変化する性質をもつ複数の抵抗素子からなる抵抗素
    子群を、 X軸正方向の原点側の位置、 X軸負方向の原点側の位置、 X軸正方向の固定部側の位置、 X軸負方向の固定部側の位置、 の各位置に、いずれもほぼX軸上にのるように設け、 前記抵抗素子群のうち、X軸正方向の固定部側の抵抗素
    子群の1抵抗素子と、X軸負方向の固定部側にある抵抗
    素子群の1抵抗素子と、を直列接続して第1の辺を構成
    し、 前記抵抗素子群のうち、同じくX軸正方向の固定部鋼の
    抵抗素子群の別な1抵抗素子と、同じくX軸負方向の固
    定部側にある抵抗素子群の別な1抵抗素子と、を直列接
    続して第2の辺を構成し、前記抵抗素子群のうち、X軸
    正方向の原点側の抵抗素子群の1抵抗素子と、X軸負方
    向の原点側にある抵抗素子群の1抵抗素子と、を直列接
    続して第3の辺を構成し、 前記抵抗素子群のうち、同じくX軸正方向の原点側の抵
    抗素子群の別な1抵抗素子と、同じくX軸負方向の原点
    側にある抵抗素子群の別な1抵抗素子と、を直列接続し
    て第4の辺を構成し、前記4つの辺について、第1の辺
    と第2の辺が互いに対辺に、第3の辺と第4の辺とが互
    いに対辺に、なるようにしてブリッジ回路を形成し、こ
    の回路のブリッジ電圧によって、Z軸方向に作用する力
    を検出することを特徴とする力検出装置。
  4. (4)XYZ三次元座標系において、原点を作用点とし
    てX軸回りに作用するモーメントを検出する力検出装置
    であって、 原点の両側にY軸に沿って形成された架橋部を設け、 原点にX軸回りのモーメントを加えることによって前記
    架橋部に歪みが生じるように、前記架橋部の両端を固定
    部として固定し、 前記架橋部のXY平面上に、機械的変形によって電気抵
    抗が変化する性質をもつ複数の抵抗素子からなる抵抗素
    子群を、 Y軸正方向の原点側の位置、 Y軸負方向の原点側の位置、 Y軸正方向の固定部側の位置、 Y軸負方向の固定部側の位置、 の各位置に、いずれもほぼY軸上にのるように設け、 前記抵抗素子群のうち、Y軸正方向の固定部側の抵抗素
    子群の1抵抗素子と、Y軸負方向の原点側にある抵抗素
    子群の1抵抗素子と、を直列接続して第1の辺を構成し
    、 前記抵抗素子群のうち、同じくY軸正方向の固定部側の
    抵抗素子群の別な1抵抗素子と、同じくY軸負方向の原
    点側にある抵抗素子群の別な1抵抗素子と、を直列接続
    して第2の辺を構成し、前記抵抗素子群のうち、Y軸正
    方向の原点側の抵抗素子群の1抵抗素子と、Y軸負方向
    の固定部側にある抵抗素子群の1抵抗素子と、を直列接
    続して第3の辺を構成し、 前記抵抗素子群のうち、同じくY軸正方向の原点側の抵
    抗素子群の別な1抵抗素子と、同じくY軸負方向の固定
    部側にある抵抗素子群の別な1抵抗素子と、を直列接続
    して第4の辺を構成し、前記4つの辺について、第1の
    辺と第2の辺が互いに対辺に、第3の辺と第4の辺とが
    互いに対辺に、なるようにしてブリッジ回路を形成し、
    この回路のブリッジ電圧によって、X軸回りに作用する
    モーメントを検出することを特徴とする力検出装置。
JP1023121A 1989-02-01 1989-02-01 力検出装置 Pending JPH02203229A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1023121A JPH02203229A (ja) 1989-02-01 1989-02-01 力検出装置
US07/470,102 US5035148A (en) 1989-02-01 1990-01-25 Force detector using resistance elements
EP90101903A EP0381187B1 (en) 1989-02-01 1990-01-31 Force detector using resistance elements
DE69018285T DE69018285T2 (de) 1989-02-01 1990-01-31 Kraft-Messfühler mit Widerstandselementen.

Applications Claiming Priority (1)

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JP1023121A JPH02203229A (ja) 1989-02-01 1989-02-01 力検出装置

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JP (1) JPH02203229A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011209178A (ja) * 2010-03-30 2011-10-20 Minebea Co Ltd 3軸力センサ
JP2016070673A (ja) * 2014-09-26 2016-05-09 株式会社レプトリノ 力覚センサ

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011209178A (ja) * 2010-03-30 2011-10-20 Minebea Co Ltd 3軸力センサ
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