JPH02199646A - Magneto-optical recording medium - Google Patents

Magneto-optical recording medium

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Publication number
JPH02199646A
JPH02199646A JP2032589A JP2032589A JPH02199646A JP H02199646 A JPH02199646 A JP H02199646A JP 2032589 A JP2032589 A JP 2032589A JP 2032589 A JP2032589 A JP 2032589A JP H02199646 A JPH02199646 A JP H02199646A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
polyurethane resin
plasticizer
magneto
optical recording
Prior art date
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Pending
Application number
JP2032589A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Isamu Fukushima
勇 福島
Mitsugi Wakabayashi
若林 貢
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Mitsubishi Kasei Corp
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Kasei Corp filed Critical Mitsubishi Kasei Corp
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Publication of JPH02199646A publication Critical patent/JPH02199646A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain high corrosion resistance and high repetitive characteristics by providing a polyurethane resin layer contg. a plasticizer via an intermediate layer made of a polyurethane resin consisting of polytetramethylene ether glycol and polyisocyanate on a recording layer. CONSTITUTION:The polyurethane resin layer contg. the plasticizer is provided via the intermediate layer consisting of the polyurethane resin made of the polytetramethylene ether glycol and polyisocyanate on the recording layer. Since the intermediate layer which does not contain the plasticizer is interposed, the possibility of the direct contact of the plasticizer-contg. polyurethane resin of an adhesive layer or org. protective layer with a substrate to cause reaction is eliminated. The magneto-optical recording medium having the excellent corrosion resistance and repetitive recording characteristics is obtd. in this way.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は光磁気記録媒体に係り、特に光学的記録に用い
る光磁気記録媒体に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a magneto-optical recording medium, and particularly to a magneto-optical recording medium used for optical recording.

[従来の技術] 光メモリー素子の中でも追加記録、消去が可能なイレー
ザブル型メモリーは、光磁気記録方式が最も実用化に近
い段階にいる。光磁気記録媒体の記録層としては総合的
な特性から見て、現在のところ、希土類・遷移金属薄膜
が多く用いられている。
[Prior Art] Among optical memory devices, magneto-optical recording is at the closest stage to practical use for erasable memory, which allows additional recording and erasing. At present, rare earth/transition metal thin films are often used as the recording layer of magneto-optical recording media in view of their overall characteristics.

このような記録層は一般に非常に酸化が起り易いため、
記録層上に金属酸化物、金属窒化物等よりなる保護層を
設けることが行なわれている。更に、単板仕様の場合に
は保護層として、また、両面貼合仕様の場合には保護層
を兼ねた接着層として、樹脂コートすることが一般的で
ある。この樹脂コートよりなる有機保護層や接着層に用
いる樹脂としては、透湿度が低いこと及び低応力である
ことが必要な条件となる。
Since such recording layers are generally very susceptible to oxidation,
A protective layer made of metal oxide, metal nitride, etc. is provided on the recording layer. Furthermore, it is common to apply a resin coating as a protective layer in the case of a single-panel specification, and as an adhesive layer that also serves as a protective layer in the case of a double-sided lamination specification. The resin used for the organic protective layer and adhesive layer made of this resin coat must have low moisture permeability and low stress.

可塑剤を含むポリウレタン樹脂は、このような低透湿度
、低応力の特性を満たす優れた樹脂である0例えば、ポ
リオレフィンポリオールを主成分としパラフィン系プロ
セスオイルを加えたポリウレタン樹脂では、JISK6
301に規定された100%引張応力が3 K g f
 / c m’であり、JISZO208で規定された
25℃の透湿度は厚さ200μmのフィルムで24時間
において5g/m”であった、しかして、この樹脂を接
着層として貼合せた光磁気記録媒体は、80℃、85%
RHの2000時間の加速試験でも殆どエラーレートの
増加を示さなかった。
Polyurethane resin containing a plasticizer is an excellent resin that satisfies the characteristics of low moisture permeability and low stress.
The 100% tensile stress specified in 301 is 3 K g f
/ cm', and the moisture permeability at 25°C specified by JIS ZO208 was 5 g/m'' in 24 hours for a 200 μm thick film. Medium: 80°C, 85%
A 2000 hour accelerated test of RH showed almost no increase in error rate.

[発明が解決しようとする課題] しかしながら、上記可塑剤を含むポリウレタン樹脂には
、高温下で樹脂製基板と接している場合にわずかではあ
るが基板の樹脂と反応性を持つという欠点がある。
[Problems to be Solved by the Invention] However, the above-mentioned polyurethane resin containing a plasticizer has a drawback that it has a slight reactivity with the resin of the substrate when it is in contact with a resin substrate at high temperature.

光磁気記録にはその特長である、繰返し消去、記録のた
めに、記録層を、キューリー点近くまで、即ち数百℃の
温度にまで昇温した後冷却することを繰り返す。このた
め、わずかな反応性であっても、記録層のピンホールを
通して基板と直接接している樹脂が基板に対して反応性
を有する場合には、この樹脂が基板と反応を起こし、基
板に物理的或いは化学的変化を生じさせ、結果として、
広範囲における反射率の低下が起こる。
In order to repeatedly erase and record, which is a feature of magneto-optical recording, the recording layer is repeatedly heated to a temperature close to the Curie point, that is, several hundred degrees Celsius, and then cooled. Therefore, even if the reactivity is slight, if the resin that is in direct contact with the substrate through the pinhole in the recording layer has reactivity toward the substrate, this resin will react with the substrate, causing the substrate to physically cause a chemical or chemical change, resulting in
A reduction in reflectance occurs over a wide area.

このような現象は記録、消去を同一トラックで104〜
105回繰り返すことで始めて起こる現象であるが、媒
体の高信頼性という点では大きな問題になる。
This phenomenon occurs when recording and erasing are performed on the same track.
Although this phenomenon only occurs after 105 repetitions, it becomes a big problem in terms of high reliability of the medium.

この現象をひき起こす反応の詳細なプロセスは明らかに
されていないが、樹脂中に可塑剤を加えていない場合は
このような現象は起こらないことから、可塑剤がなんら
かの形で関与しているものと考えられる。しかしながら
、可塑剤を加えないポリウレタン樹脂では、粘度が高く
、塗布工程、貼合せ工程において取り扱いが困難である
ため、可塑剤を除外することは実用的ではない。
The detailed process of the reaction that causes this phenomenon has not been clarified, but since this phenomenon does not occur if no plasticizer is added to the resin, it is likely that the plasticizer is involved in some way. it is conceivable that. However, polyurethane resins to which no plasticizer is added have a high viscosity and are difficult to handle in the coating and laminating steps, so it is not practical to exclude the plasticizer.

本発明は上記従来の問題点を解決し、可塑剤を含むポリ
ウレタン樹脂層を設けた場合において、該樹脂層と基板
との反応を防止する光磁気記録媒体を提供することを目
的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems and to provide a magneto-optical recording medium that prevents reaction between a polyurethane resin layer containing a plasticizer and a substrate when the resin layer is provided.

[課題を解決するための手段コ 本発明の光磁気記録媒体は、樹脂基板上に光磁気記録層
を設け、該記録層上にポリテトラメチレンエーテルグリ
コールとポリイソシアネートとからなるポリウレタン樹
脂の中間層を介して、可塑剤を含むポリウレタン樹脂層
を設けたことを特徴とする。
[Means for Solving the Problems] The magneto-optical recording medium of the present invention includes a magneto-optical recording layer provided on a resin substrate, and an intermediate layer of polyurethane resin made of polytetramethylene ether glycol and polyisocyanate on the recording layer. A polyurethane resin layer containing a plasticizer is provided through the polyurethane resin layer.

即ち、本発明者等は前述の欠点を克服した光磁気記録媒
体を提供すべく鋭意検討した結果、媒体とポリウレタン
樹脂層との間にポリテトラメチレンエーテルグリコール
とポリイソシアネートからなるポリウレタン樹脂の中間
層を設けることにより、高耐食性、高繰り返し特性を兼
ねそなえた光磁気記録媒体が得られることを見出し、本
発明を完成させた。
That is, as a result of intensive studies aimed at providing a magneto-optical recording medium that overcomes the above-mentioned drawbacks, the present inventors have created an intermediate layer of polyurethane resin consisting of polytetramethylene ether glycol and polyisocyanate between the medium and the polyurethane resin layer. The present inventors have discovered that a magneto-optical recording medium having both high corrosion resistance and high repeatability can be obtained by providing the above, and have completed the present invention.

以下、本発明の詳細な説明する。The present invention will be explained in detail below.

なお、本明細書において、記録層を有する記録媒体の単
板の表面を可塑剤を含むポリウレタンで被覆する場合、
該ポリウレタン層を有機保護層と称し、2枚の記録媒体
を対向させてポリウレタン層で接着した構造とした場合
、該ポリウレタン層を接着層と称する。
Note that in this specification, when the surface of a single plate of a recording medium having a recording layer is coated with polyurethane containing a plasticizer,
The polyurethane layer is called an organic protective layer, and when two recording media are placed facing each other and bonded together with a polyurethane layer, the polyurethane layer is called an adhesive layer.

まず、本発明において用いられる基板としては、ポリカ
ーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂等
の樹脂基板が挙げられる。この基板の厚みは1〜2mm
程度が一般的である。
First, examples of the substrate used in the present invention include resin substrates such as polycarbonate resin, acrylic resin, and polyolefin resin. The thickness of this board is 1-2mm
The degree is common.

このような樹脂基板上に形成する光磁気記録層としては
、例えば、TbFe、TbFeCo。
Examples of the magneto-optical recording layer formed on such a resin substrate include TbFe and TbFeCo.

TbCo、DyFeCo等の希土類と遷移金属との非晶
質磁性合金、MnB1.MnCuB1等の多結晶垂直磁
化膜等が用いられる。光磁気記録層としては単一の層を
用いても良いし、GdTbF e / T b F e
のように2層以上の記録層を重ねて用いても良い。
Amorphous magnetic alloys of rare earth elements and transition metals such as TbCo and DyFeCo, MnB1. A polycrystalline perpendicular magnetization film such as MnCuB1 is used. A single layer may be used as the magneto-optical recording layer, or a GdTbFe/TbFe layer may be used.
Two or more recording layers may be stacked and used as shown in FIG.

上記基板と光磁気記録層との間には、干渉層を設けるこ
ともできる。この層は、高屈折率の透明膜による光の干
渉効果により反射率を落とすことでノイズを低下させC
/N比を向上させるためのものである。干渉層は単層膜
でも多層膜でもよい。干渉層の構成物買としては、金属
酸化物や金属窒化物が用いられる。
An interference layer can also be provided between the substrate and the magneto-optical recording layer. This layer reduces noise by lowering the reflectance due to the light interference effect of a transparent film with a high refractive index.
This is to improve the /N ratio. The interference layer may be a single layer film or a multilayer film. Metal oxides and metal nitrides are used as materials for forming the interference layer.

金属酸化物としてはAA20S 、Ta205 。The metal oxides are AA20S and Ta205.

SiO2,Sin、TiO2等の金属酸化物単独又はこ
れらの混合物、或いはAfL−Ta−0の複合酸化物等
が挙げられる。更に、これらの酸化物に、他の元素、例
えばTi、Zr、W、Mo。
Examples include metal oxides such as SiO2, Sin, and TiO2 alone or mixtures thereof, and composite oxides such as AfL-Ta-0. Furthermore, these oxides contain other elements such as Ti, Zr, W, and Mo.

Yb等が酸化物の形で単独で、あるいはAJ2゜Taと
複合して酸化物を形成しているものでもよい、これらの
金属酸化物よりなる干渉層は、緻密で外部からの水分や
酸素の侵入を防ぐことができ、また、耐食性が高く後述
の反射層との反応性も小さい、更に、基板を構成する樹
脂との密着性にも優れる。
The interference layer made of these metal oxides is dense and prevents moisture and oxygen from entering from the outside. It can prevent intrusion, has high corrosion resistance, has low reactivity with the reflective layer described below, and has excellent adhesion to the resin constituting the substrate.

金属窒化物としては窒化シリコン、窒化アルミニウム等
が挙げられる。これらの金属窒化物のうち、特に緻密で
外部からの水分や酸素の侵入を防ぐ効果に優れることか
ら、窒化シリコンを用いるのが好ましい。
Examples of metal nitrides include silicon nitride and aluminum nitride. Among these metal nitrides, it is preferable to use silicon nitride because it is particularly dense and has an excellent effect of preventing moisture and oxygen from entering from the outside.

このような金属酸化物又は金属窒化物よりなる干渉層の
膜厚は、その屈折率により最適膜厚が異なるが、通常4
00〜1500A程度、特に500〜100OA程度と
するのが適当である。
The optimal thickness of the interference layer made of such a metal oxide or metal nitride varies depending on its refractive index, but it is usually 4.
It is appropriate to set it to about 00 to 1500A, especially about 500 to 100OA.

記録層の干渉層と反対の面には、干渉層と同様の材質を
持つ話電体よりなる保護層を設けるのが望ましい、この
保護層の膜厚は通常の場合、500〜1500A程度と
する。
It is desirable to provide a protective layer made of a telephone body made of the same material as the interference layer on the side of the recording layer opposite to the interference layer.The thickness of this protective layer is usually about 500 to 1500A. .

なお、反射層を設ける構造の媒体では、記録層に接して
、又は数百人の誘電体層を介して高反射率の金属(例え
ばAJ2.Cu等)の単体又はその合金の層を反射層と
して設ける0反射層の上に更に誘電体層を設けることも
できる。
In addition, in the case of a medium having a structure in which a reflective layer is provided, a layer of a highly reflective metal (for example, AJ2.Cu, etc.) or an alloy thereof is placed in contact with the recording layer or through several hundred dielectric layers. It is also possible to further provide a dielectric layer on the 0-reflection layer provided as a 0-reflection layer.

本発明においては上記の記録層上に、或いは保護層や反
射層、誘電体層を設けた場合には更にその上に、ポリテ
トラメチレンエーテルグリコールとポリイソシアネート
からなるポリウレタン樹脂の中間層を設け、更に可塑剤
を含むポリウレタン層よりなる接着層又は有機保護層を
設ける。
In the present invention, an intermediate layer of polyurethane resin made of polytetramethylene ether glycol and polyisocyanate is provided on the above-mentioned recording layer, or further on top of the protective layer, reflective layer, or dielectric layer when the protective layer, reflective layer, or dielectric layer is provided. Furthermore, an adhesive layer or an organic protective layer consisting of a polyurethane layer containing a plasticizer is provided.

中間層のポリテトラメチレンエーテルグリコールとポリ
イソシアネートからなるポリウレタン樹脂を形成するポ
リテトラメチレンエーテルグリコールとしては、下記−
数式で示される一級水酸基を両末端に有する直鎖状のポ
リエーテルグリコールが使用される。
The polytetramethylene ether glycol that forms the polyurethane resin consisting of polytetramethylene ether glycol and polyisocyanate in the intermediate layer is as follows:
A linear polyether glycol having primary hydroxyl groups represented by the formula at both ends is used.

HO−+−CH2CH2CH2CH20←−H式中、n
は重合度を示し、平均重合度としては、通常5〜40、
好ましくは5〜20の範囲であり、また平均分子量とし
ては500〜3000、好ましくは500〜1500の
範囲のものが好適に用いられる。また、ポリイソシアネ
ートとしては、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキ
サメチレンジイソシアネート、エチレンジイソシアネー
ト、フェニレンジイソシアネート、トリレンジイソシア
ネート、ジフェニレンジイソシアネート、1.5−ナフ
タレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイ
ソシアネー)−,1,4−イソプロピルベンゼンジイソ
シアネート及び1.3.6−ヘキサントリイソシアネー
ト等が挙げられ、これらの化合物は1種を単独で又は2
種以上を混合物として使用される。
HO−+−CH2CH2CH2CH20←−H in the formula, n
indicates the degree of polymerization, and the average degree of polymerization is usually 5 to 40,
The average molecular weight is preferably in the range of 5 to 20, and the average molecular weight is preferably in the range of 500 to 3,000, preferably 500 to 1,500. Examples of polyisocyanates include tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, ethylene diisocyanate, phenylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, diphenylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate)-, 1,4-isopropylbenzene. Examples include diisocyanate and 1,3,6-hexane triisocyanate, and these compounds may be used singly or in combination.
More than one species is used as a mixture.

上記中間層として用いられるポリウレタン樹脂としては
、該ポリテトラメチレンエーテルグリコールとポリイソ
シアネートとをN COlo H=0.8〜1.3、望
ましくはNC010H=0.9〜1.1となるような配
合比で混合し、重合反応させて硬化せしめたものが好ま
しい0重合反応形式はワンショット法、プレポリマー法
のいずれをも採用できる。特に、作業性、安全性を考慮
し、上記ポリイソシアネート化合物は予めポリテトラメ
チレンエーテルグリコールの一部と反応させたプレポリ
マーの形で用いることが好ましい、更に、必要に応じて
3官能以上のポリオールを併用して、硬化後の硬さ及び
弾性を調節することもできる。
The polyurethane resin used for the intermediate layer is a blend of the polytetramethylene ether glycol and polyisocyanate such that N COlo H = 0.8 to 1.3, preferably NC010 H = 0.9 to 1.1. Preferably, the polymerization reaction method is one in which the components are mixed at the same ratio and then cured by polymerization reaction. Either a one-shot method or a prepolymer method can be adopted as the polymerization reaction method. In particular, considering workability and safety, it is preferable to use the above polyisocyanate compound in the form of a prepolymer which has been reacted with a part of polytetramethylene ether glycol in advance. The hardness and elasticity after curing can also be adjusted by using them together.

中間層に用いられるポリウレタン樹脂は、上記両成分を
混合した状態では適度な粘性を有しており、そのまま通
常の塗布法例えば、スピンコード法等により樹脂基板の
記録層等の上に容易に成膜することができる。該ポリウ
レタン樹脂は記録層のピンホールを通して基板と直接接
触しても該ポリウレタン樹脂中に可塑剤を添加していな
いので、基板と反応を起して光磁気記録媒体を劣化させ
る恐れがない。
The polyurethane resin used for the intermediate layer has an appropriate viscosity when both of the above components are mixed, and can be easily coated onto the recording layer of the resin substrate by a normal coating method such as a spin code method. It can be membraned. Even if the polyurethane resin comes into direct contact with the substrate through a pinhole in the recording layer, since no plasticizer is added to the polyurethane resin, there is no risk of reaction with the substrate and deterioration of the magneto-optical recording medium.

この中間層の膜厚は1〜20μm程度が好ましく、更に
好ましくは3〜10μm程度である。中間層が厚過ぎる
場合には、媒体に応力が加わり、クランクが生じる恐れ
があり、薄過ぎる場合には、接着層又は有機保護層のポ
リウレタン樹脂を基板に対して遮断する効果が低下する
The thickness of this intermediate layer is preferably about 1 to 20 μm, more preferably about 3 to 10 μm. If the intermediate layer is too thick, stress may be applied to the medium and cranking may occur; if it is too thin, the effectiveness of blocking the polyurethane resin of the adhesive layer or organic protective layer from the substrate is reduced.

接着層又は有機保護層として用いられるポリウレタン樹
脂としては、炭化水素系ポリオールを主成分とし、イソ
シアネート化合物をN COlo H=0.8〜1.3
、好ましくはNC010H−0,9〜1.1となるよう
な配分比で混合し、硬化せしめたものが好ましい。
The polyurethane resin used as the adhesive layer or the organic protective layer contains a hydrocarbon polyol as the main component and an isocyanate compound as N COlo H = 0.8 to 1.3.
, preferably mixed at a distribution ratio of NC010H-0.9 to 1.1, and then cured.

ここで用いられる炭化水素系ポリオールは公知の方法、
例えば特開昭50−90894号に記載のブタジェンポ
リマーを水添する等の方法により容易に製造される。ま
た、これを用いたポリウレタンは公知の方法、例えば特
開昭50−142895号に記載の、上記ポリオールに
ポリイソシアネートを反応させる等の方法により容易に
製造される。
The hydrocarbon polyol used here can be prepared by a known method.
For example, it is easily produced by a method such as hydrogenating a butadiene polymer described in JP-A-50-90894. Moreover, polyurethane using this can be easily produced by a known method, for example, the method described in JP-A-50-142895, in which the above-mentioned polyol is reacted with a polyisocyanate.

接着層又は有機保護層としては、JISK6301にて
規定された100%引張応力が50 K g f / 
c m’以下で、かつJISZO208で規定された透
湿度が24時間で20g/m”以下のもの、好ましくは
上記規定の100%引張応力30 K g f / c
 rn’以下、かつ上記規定の透湿度が24時間で10
g/m”以下の有機物が良好な結果をもたらすが、上述
のポリウレタン樹脂はこの引張応力及び透湿度を溝足す
るものである。
The adhesive layer or organic protective layer has a 100% tensile stress of 50 K g f /
cm' or less and the moisture permeability specified by JIS ZO208 is 20 g/m'' or less in 24 hours, preferably 100% tensile stress of 30 K g f / c as specified above.
rn' or less and the moisture permeability specified above is 10 in 24 hours.
Although an organic content of less than g/m'' gives good results, the above-mentioned polyurethane resin satisfies this tensile stress and moisture permeability.

接着剤又は有機保護層のポリウレタン樹脂には、塗布工
程等における取扱い性等を良好なものとするために、可
塑剤が添加される。可塑剤としては、パラフィン系プロ
セスオイル、ジウンデシルフタレート、アルキルベンゼ
ン等が挙げられ、これらの可塑剤は通常ポリウレタン樹
脂に対する重量比で10〜70重量%程度使用される。
A plasticizer is added to the adhesive or the polyurethane resin of the organic protective layer in order to improve handling properties in the coating process and the like. Examples of the plasticizer include paraffinic process oil, diundecyl phthalate, alkylbenzene, etc., and these plasticizers are usually used in an amount of about 10 to 70% by weight relative to the polyurethane resin.

このような可塑剤を含むポリウレタン樹脂よりなる接着
層又は有機保護層の膜厚は、14m〜200μmが好ま
しく、更に好ましくは3μm〜100μm程度である。
The thickness of the adhesive layer or organic protective layer made of such a polyurethane resin containing a plasticizer is preferably about 14 m to 200 m, more preferably about 3 m to 100 m.

なお、本発明において、基板上に干渉層、記録層、反射
層、保護層等の各層を形成する方法としては、スパッタ
リング等の物理蒸着法(PvD)、プラズマCVDのよ
うな化学蒸着法(CvD)等が通用される。また、イオ
ンブレーティングを用いる方法も考えられる。
In the present invention, methods for forming each layer such as the interference layer, recording layer, reflective layer, and protective layer on the substrate include physical vapor deposition (PvD) such as sputtering, and chemical vapor deposition (CvD) such as plasma CVD. ) etc. are commonly used. Furthermore, a method using ion blating is also considered.

PVD法にて干渉層、光磁気記録層、反射層、保護層等
を成膜形成するには、所定の組成をもったターゲットを
用いて電子ビーム蒸着又はスパッタリングにより基板上
に各層を堆積するのが通常の方法である。
To form interference layers, magneto-optical recording layers, reflective layers, protective layers, etc. using the PVD method, each layer is deposited on a substrate by electron beam evaporation or sputtering using a target with a predetermined composition. is the usual method.

膜の堆積速度は速すぎると膜応力を増加させ、遅過ぎる
と生産性が低下するので、通常、0. 1〜100 A
 / s e c程度の範囲で適宜決定される。
If the film deposition rate is too fast, it will increase the film stress, and if it is too slow, the productivity will decrease, so it is usually set at 0. 1~100A
/sec.

前記ポリウレタン樹脂の中間層及び可塑剤を含むポリウ
レタン樹脂よりなる接着層(又は有機保護層)は、スピ
ンコード法、その他通常の塗布法により容易に成膜する
ことができる。
The intermediate layer of polyurethane resin and the adhesive layer (or organic protective layer) made of polyurethane resin containing a plasticizer can be easily formed by a spin-coating method or other conventional coating methods.

[作用] 本発明に係る中間層を設けない場合においては、記録層
のピンホールを通して基板に接着層又は有機保護層を構
成するポリウレタン樹脂(樹脂中の可塑剤)が直接接し
て反応を起す可能性があるが、中間層を介在させること
により、接着層又は有機保護層の、可塑剤を含むポリウ
レタン樹脂が基板と直接接する可能性は無くなる。
[Function] When the intermediate layer according to the present invention is not provided, the polyurethane resin (plasticizer in the resin) constituting the adhesive layer or organic protective layer may come into direct contact with the substrate through the pinhole in the recording layer and cause a reaction. However, by interposing the intermediate layer, there is no possibility that the polyurethane resin containing a plasticizer in the adhesive layer or the organic protective layer will come into direct contact with the substrate.

しかして、中間層を構成するポリテトラメチレンエーテ
ルグリコールとポリイソシアネートとからなるポリウレ
タン樹脂は、適度な粘性を有するため可塑剤を用いるこ
となく通常の方法で容易に成膜することができ、可塑剤
を含有しないことから、記録層のとンホールを通して基
板と直接接着しても、基板と反応して光磁気記録媒体を
劣化させることがない。
However, since the polyurethane resin composed of polytetramethylene ether glycol and polyisocyanate that constitutes the intermediate layer has a moderate viscosity, it can be easily formed into a film by a normal method without using a plasticizer. Since it does not contain , it does not react with the substrate and deteriorate the magneto-optical recording medium even if it is directly bonded to the substrate through the holes in the recording layer.

[実施例] 以下に、製造例、実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限
り、以下の実施例に限定されるものではない。
[Examples] The present invention will be explained below in more detail by giving production examples, working examples, and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist thereof. .

まず、実施例で用いた中間層形成用ポリウレタン樹脂及
び接着層形成用ポリウレタン樹脂の製造方法を、下記製
造例1及び製造例2に示す。
First, a method for producing the polyurethane resin for forming the intermediate layer and the polyurethane resin for forming the adhesive layer used in the Examples is shown in Production Example 1 and Production Example 2 below.

製造例1 中間層形成用ポリウレタン樹脂の製造−下記■〜■の手
順で成分A、Bより得られる2液混合型のポリウレタン
樹脂を製造した。
Production Example 1 Production of polyurethane resin for forming intermediate layer - A two-component mixed polyurethane resin obtained from components A and B was produced according to the following procedures.

■ A液の製造 “ポリテトラメチレンエーテルグリコール”(三菱化成
■社製。平均分子量;650、水酸基当量;:2. 9
7meq/g)132gと、2.4−)−リレンジイソ
シアネート68gとを混合し、80℃で5時間反応させ
A液を得た。
■ Manufacture of liquid A “Polytetramethylene ether glycol” (manufactured by Mitsubishi Kasei Corporation. Average molecular weight: 650, hydroxyl equivalent:: 2.9)
7 meq/g) and 68 g of 2.4-)-lylene diisocyanate were mixed and reacted at 80° C. for 5 hours to obtain Solution A.

A液の粘度は12000 c p / 25℃であった
The viscosity of liquid A was 12000 cp/25°C.

■ B液の製造 ポリテトラメチレンエーテルグリコール91gと“アブ
カフオドロール” (商品名)(旭電化■社製。4官能
のポリオール:水酸基当量;13.5meq/g)9g
とを50℃で均一に混合し、B液を得た。B液の粘度は
400cp/25℃であった。
■ Production of liquid B 91 g of polytetramethylene ether glycol and 9 g of “Abcafuodrol” (trade name) (manufactured by Asahi Denka ■. Tetrafunctional polyol: hydroxyl group equivalent: 13.5 meq/g)
were mixed uniformly at 50°C to obtain Solution B. The viscosity of liquid B was 400 cp/25°C.

■ 上記■及び■にて調製したA液とB液とを重量比2
:1で混合した。
■ The weight ratio of liquid A and liquid B prepared in ■ and ■ above is 2.
: Mixed at 1.

製造例2 接着層形成用ポリウレタン樹脂の製造:下記■〜■の手
順で成分C,Dより得られる2液温合型のポリウレタン
樹脂を製造した。
Production Example 2 Production of polyurethane resin for adhesive layer formation: A two-component hot-melt type polyurethane resin obtained from components C and D was produced according to the following procedures.

■ C液の製造 ”ポリテールHA” (商品名)(三菱化成■社製。数
平均分子量:約2000、水酸基当量;0.907me
q/gのポリオレフィンポリオール)100gと、“ア
ブカフオドロール”(商品名)(旭電化■社製。4官能
ポリオール:水酸基当量; 13. 7meq/g)1
9.8gと、“パラフィン系プロセスオイル” (可塑
剤)(共同石油■社製。P−200)1 tagと、“
スズ系ウレタン化触媒” (MD化成■社製。UL−2
2)138mgとを、50℃で均一に混合し、C液とし
た。C液の粘度は25℃で1800cpsであった。
■ Production of liquid C "Polytail HA" (trade name) (manufactured by Mitsubishi Kasei ■) Number average molecular weight: approximately 2000, hydroxyl equivalent: 0.907me
q/g of polyolefin polyol) 100 g and "Abcafuodrol" (trade name) (manufactured by Asahi Denka ■. Tetrafunctional polyol: hydroxyl group equivalent; 13.7 meq/g) 1
9.8g, 1 tag of “paraffinic process oil” (plasticizer) (manufactured by Kyodo Oil Co., Ltd. P-200), and “
"Tin-based urethanization catalyst" (manufactured by MD Kasei Co., Ltd. UL-2
2) and 138 mg were uniformly mixed at 50°C to obtain liquid C. The viscosity of liquid C was 1800 cps at 25°C.

■ D液の製造 “ポリテールHA”100gと、′パラフィン系プロセ
スオイルP−200” (可塑剤)116gとを、セパ
ラブルフラスコ中で室温で均一に混合した。次いで、2
.4−トリレンジイソシアネート14.2gを添加し、
80℃で6時間反応してD液を得た。D液の粘度は25
℃で3800cpsであフた。
■ Production of Liquid D 100 g of "Polytail HA" and 116 g of 'paraffinic process oil P-200' (plasticizer) were mixed uniformly at room temperature in a separable flask.
.. Add 14.2 g of 4-tolylene diisocyanate,
The reaction was carried out at 80° C. for 6 hours to obtain Solution D. The viscosity of liquid D is 25
The temperature was 3800 cps.

■ 上記■及び■にて調製したC液とD液とを重量比1
:5で混合した。
■ The weight ratio of liquid C and liquid D prepared in the above ■ and ■ is 1.
: Mixed at 5.

実施例1 130mmφのポリカーボネート基板をスパッタリング
装置に導入し、まず8xlO″” t o r r以下
まで排気し、Arを20secm、02を5secm導
入し、圧力を0.8Paに調整した。この状態で500
Wのパワーで4インチφのTaターゲットを直流スパッ
タリングし、4A/秒の速度で酸化タンタルの干渉層を
80OA厚さに形成した。次いで、TbターゲットとF
e9゜CO+oツタ−ットの同時スパッタリングを行な
い、干渉層の上にT b2s (F eeoc O+o
 ) 77の記録層を30OA厚さに形成した。更に、
Taチップを配したAJ2ターゲットを用いArガス中
でスパッタし、記録層上にA It 97T a 3の
合金からなる厚さ300人の反射層を形成した。この反
射層上に、更に上記干渉層と同様の方法を用いて、酸化
タンタルによる保護層を30OA厚さに形成した。
Example 1 A polycarbonate substrate with a diameter of 130 mm was introduced into a sputtering apparatus, and the temperature was first evacuated to below 8xlO''''torr. Ar was introduced for 20 sec, O2 was introduced for 5 sec, and the pressure was adjusted to 0.8 Pa. 500 in this condition
A tantalum oxide interference layer having a thickness of 80 OA was formed at a rate of 4 A/sec by direct current sputtering using a 4-inch diameter Ta target with a power of W. Then, Tb target and F
Simultaneous sputtering of e9°CO+o is performed, and Tb2s (Feeoc O+o
) 77 recording layers were formed to a thickness of 30 OA. Furthermore,
Sputtering was performed in Ar gas using an AJ2 target equipped with Ta chips to form a 300 mm thick reflective layer made of an alloy of A It 97T a 3 on the recording layer. On this reflective layer, a protective layer of tantalum oxide was further formed to a thickness of 30 OA using the same method as for the interference layer.

その後、基板をスパッタリング装置から取り出し、スピ
ンコード法により、製造例1で得られたポリテトラメチ
レンエーテルグリコールとポリイソシアネートとからな
るポリウレタン樹脂を塗布して中間層を形成した。即ち
、製造例1のA液及びB液を重量比2:1で混合し、真
空脱泡を行なった後、スピンコーターにより500rp
m/2秒で塗布後、5000rpm/60秒で飛散させ
てコート後、80℃にて60分で硬化させ中間層とした
Thereafter, the substrate was taken out from the sputtering apparatus, and a polyurethane resin made of polytetramethylene ether glycol and polyisocyanate obtained in Production Example 1 was applied by a spin cord method to form an intermediate layer. That is, the A liquid and the B liquid of Production Example 1 were mixed at a weight ratio of 2:1, vacuum defoamed, and then heated at 500 rpm using a spin coater.
After coating at m/2 seconds, sputtering at 5000 rpm/60 seconds to coat, and curing at 80° C. for 60 minutes to form an intermediate layer.

同様にして、基板上に干渉層、記録層、反応層、保護層
及び中間層を順次形成した媒体を、もう1枚作製した。
Similarly, another medium was produced in which an interference layer, a recording layer, a reaction layer, a protective layer, and an intermediate layer were sequentially formed on a substrate.

次いで、製造例2で得られたポリウレタン樹脂を接着層
として用い、作製された2枚の媒体を対向して貼合わせ
た。
Next, using the polyurethane resin obtained in Production Example 2 as an adhesive layer, the two produced media were bonded together facing each other.

即ち、製造例2のC液とD液を重量比1:5で混合し、
真空脱泡を行なった後、一方の媒体に塗布し、2枚の媒
体を対向させて接着し、80℃にて60分で硬化させ接
着層とした。
That is, liquid C and liquid D of Production Example 2 were mixed at a weight ratio of 1:5,
After vacuum defoaming, it was applied to one of the media, the two media were bonded facing each other, and the mixture was cured at 80° C. for 60 minutes to form an adhesive layer.

このようにして得られた光磁気記録媒体を8mWのパワ
ーで108回書込みと消去を繰り返したところ、反射率
の変動は全く見られなかった。記録層にピンホールの存
在する部分も全く変化は無かった。
When the thus obtained magneto-optical recording medium was repeatedly written and erased 108 times with a power of 8 mW, no change in reflectance was observed. There was no change at all in the area where the pinhole existed in the recording layer.

このディスクを80℃、85%RHの環境下で1000
時間の加速試験を行なったところ、殆ど劣化は見られな
かった。
This disc was heated for 1000 cycles at 80℃ and 85%RH.
When an accelerated time test was performed, almost no deterioration was observed.

比較例1 中間層を形成しなかったこと以外は実施例1と同様にし
て光磁気記録媒体を作製した。得られた光磁気記録媒体
を8mWで106回書込みと消去を繰り返したところ、
記録層にピンホールが存在する部分の反射率が低下し、
その反射率が低下していた部分が次第に広がってゆき、
106回後には大きな領域にわたフて反射率の低下を生
じた。
Comparative Example 1 A magneto-optical recording medium was produced in the same manner as in Example 1 except that no intermediate layer was formed. When the obtained magneto-optical recording medium was repeatedly written and erased 106 times at 8 mW,
The reflectance of the area where the pinhole exists in the recording layer decreases,
The area where the reflectance had decreased gradually expanded,
After 106 times, the reflectance decreased over a large area.

この異常領域を分析した結果、膜に異常は無かったが、
基板に凹部が生じていた。
As a result of analyzing this abnormal area, there was no abnormality in the membrane, but
A recess was formed on the board.

[発明の効果コ 以上詳述した通り、本発明の光磁気記録媒体は、可塑剤
を含むポリウレタン樹脂よりなる有機像ii層又は接着
層と樹脂基板とが直接接触して反応する可能性がなく、
基板が長期にわたって劣化することなく、良好に保護さ
れるものであって、耐食性、繰り返し記録特性に著しく
優れた光磁気記録媒体である。
[Effects of the Invention] As detailed above, the magneto-optical recording medium of the present invention has no possibility of direct contact and reaction between the organic image layer II or adhesive layer made of polyurethane resin containing a plasticizer and the resin substrate. ,
It is a magneto-optical recording medium in which the substrate is well protected without deteriorating over a long period of time, and has excellent corrosion resistance and repeated recording characteristics.

代理人  弁理士  重 野  剛Agent: Patent attorney Tsuyoshi Shigeno

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)樹脂基板上に光磁気記録層を設け、該記録層上に
ポリテトラメチレンエーテルグリコールとポリイソシア
ネートとからなるポリウレタン樹脂の中間層を介して、
可塑剤を含むポリウレタン樹脂層を設けたことを特徴と
する光磁気記録媒体。
(1) A magneto-optical recording layer is provided on a resin substrate, and an intermediate layer of polyurethane resin made of polytetramethylene ether glycol and polyisocyanate is interposed on the recording layer.
A magneto-optical recording medium characterized by being provided with a polyurethane resin layer containing a plasticizer.
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