JPH02196641A - 光ディスク用スタンパの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、光ディスク用のスタンパの製造方法に関する
ものである。

［発明の技術的背景］ 近年において、レーザービーム等の高エネルギー密度の
ビームを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されて
いる。この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ
・ディスク、オーディオ・ディスク、さらには大容量静
止画像ファイルおよび大容量コンピュータ用ディスク・
メモリーとして使用されうるものである。

光ディスクは、基本構造としてプラスチック、ガラス等
からなる円盤状の透明基板と、この上に設けられた記録
層とを有する。記録層が設けられる側の基板表面には、
基板の平面性の改善、記録層との接着力の向上あるいは
光ディスクの感度の向上などの点から、高分子物質から
なる下塗層または中間層が設けられていることがある。

光ディスクには、情報の再生のみを目的とじた再生専用
型、情報の書き込みが可能な追記型、そして−旦記録し
た情報の書き換えが可能な書き換え型など各種のタイプ
がある。

追記型と書き換え型の光ディスクは、記録層の下側にガ
イドトラックの役割をするグループ（プレグルーブ、溝
）が形成されていることが多い。そして、記録層が形成
される前のグループのみが形成された状態のものは、一
般にレプリカディスクとよばれる。一方、再生専用型の
光ディスクでは、その基板の表面に、デジタル化された
情報に対応する複数のビット（小孔）が予め形成されて
いる。

これらのグループが形成されたレプリカディスクやビッ
トが予め形成されている光ディスク基板は、スタンパを
備えた金型を用いて、射出成形法、圧縮成形法または２
２法等により成形される。

現在、上記のようなレプリカディスクや光ディスク基板
の成形に用いるスタンパは一般に次のような方法により
製造されている。すなわち、まずガラス板等の支持体の
表面にフォトレジスト塗布液を塗布乾燥することにより
フォトレジスト層を形成し、得られたレジスト原盤のフ
ォトレジスト層にレーザー光を照射した後、現像処理を
行なって、所定の凹凸パターンをフォトレジスト層の表
面に形成する。次いで、凹凸が形成されたフォトレジス
ト層の表面に、スパッタ法、エレクトロン・ビーム法、
抵抗加熱蒸着法などの薄膜形成技術を利用して導電膜を
形成し、さらに、その導電膜を電鋳法により成長させて
電鋳層を形成する。

次いで、−株化している導電膜と電鋳層とをフォトレジ
スト層から取り外して表面に凹凸パターンを有する金属
板を得る。この金属板が光ディスク製造用スタンパであ
る。

上記のような一般的な光ディスク製造用スタンパの製造
工程において、フォトレジスト層を形成したレジスト原
盤にレーザー光を照射し、現像処理を行なう際にレジス
ト膜が剥離し易い、あるいは導電膜を電鋳法により成長
させて電鋳層を形成させる電鋳工程の際、電鋳層がフォ
トレジスト層と共に部分的にガラス原盤から浮いたり、
まためフき液の浸透により発泡が起こったりといった現
象が起き易かった。このような剥離が発生した場合、得
られるスタンパは変形、あるいは精度の低下を示し、不
良品となるため、実用上使用できなくなる。

上記特に電鋳工程時の剥離の問題を解決するために、導
電膜の形成の前に、ガラス原盤上のフォトレジスト層の
内、記録領域（凹凸パターンを有する領域）以外の領域
のフォトレジスト層を除去しておき、該記録領域のフォ
トレジスト層の上に導電膜を形成する光ディスク製造用
スタンパの製造方法（特開昭６２−２２３８３８号公報
）、あるいは内周側の非記録領域のフォトレジスト層の
み除去しておき、他の領域のフォトレジスト層の上に導
電膜を形成する光ディスク製造用スタンパの製造方法（
特開昭６２−２４３１４６号公報）が提案されている。

しかし、これらの方法では、記録領域以外にあるフォト
レジストを取り除く工程が必要となるため、製造工程が
複雑になり、製造コストが高くなるとの問題がある。

また、前記の導電膜剥離の問題を解決する目的で、導電
膜を厚く形成する光ディスク製造用スタンパの製造方法
が提案されている（特開昭６２−２１９２５１号公報）
。しかし、導電膜を厚く形成した場合においても、導電
膜の内部応力が高くなり、ガラス原盤から、導電膜ある
いはそれを成長させた電鋳層が剥離しやすくなるとの問
題が依然として残る。

一方、上記技術を利用しても、ガラス原盤が洗浄処理さ
れてから、経時的に表面の汚染などが進むとの根本的な
問題が存在する。このため、ガラス原盤にフォトレジス
トを塗布する時期によって、ガラス原盤とフォトレジス
ト層との密着性が上記ガラス原盤の表面状態によって変
動する。

すなわち、ガラス原盤の表面が汚染されていない時はガ
ラス原盤とフォトレジスト膜との密着性は良好であるが
、汚染が進んだ状態では不良となる。従って、特にある
程度大量に製造する場合。

製造初期と最期あるいは、保存していないものと保存し
ていうるものと間でガラス原盤表面の状態が異なるため
、常に上記密着性が良好で、均一な性能の光ディスクス
タンパを得ることは難しかった。

［発明の目的］ 本発明は、精度が優れた光ディスク製造用スタンパを、
従来の製造方法に特に複雑な工程を導入することなく、
高い再現性（高い歩留り）で製造する方法を提供するこ
とを目的とする。

さらに、本発明はガラス原盤の保存状態あるいは保存期
間の如何にかかわらず、ガラス原盤上に密着性の優れた
フォトレジスト層を形成することを可能にした光ディス
ク製造用スタンパの製造方法を提供することを目的とす
る。

詳しくは、本発明は、ガラス原盤表面を塵埃等による汚
染から防止する方法を提供することを目的とする。

［発明の要旨］ 本発明は、ガラス原盤の表面を洗浄した後、該表面にフ
ォトレジスト層形成用塗布液を塗布乾燥し、該レジスト
原盤にレーザー光を照射し、現像処理を行なうことによ
り該フォトレジスト層の表面に所定の凹凸パターンを形
成し、次いで該フォトレジスト層の表面の凹凸パターン
上に導電膜を形成したのち、該導電膜上に電鋳層を一体
的に形成し、この電鋳層をフォトレジスト層から分離す
ることからなる光ディスク用スタンパの製造方法におい
て、 ガラス原盤の表面を洗浄した後該表面に保護層を形成し
、フォトレジスト層形成用塗布液を塗布する際、該保護
層を剥離してから該ガラス原盤の表面に該塗布液を塗布
することを特徴とする製造方法にある。

本発明の光ディスク用スタンパの製造方法の好ましい態
様は下記のとおりである。

１）上記保護層が、可撓性樹脂フィルムをガラス原盤に
密着することにより形成されることを特徴とする上記光
ディスク用スタンパの製造方法。

２）上記保護層が、合成樹脂を含む塗布液を該ガラス原
盤表面に塗布乾燥することにより形成されるごとを特徴
とする光ディスク用スタンパの製造方法。

［発明の効果］ 本発明の光ディスクスタンパの製造方法は、上記のよう
にガラス原盤を洗浄後、塵埃等による汚染から防止する
ため、表面に保護層を設け、フォトレジスト層形成時に
剥離した後、フォトレジスト層形成用塗布液を塗布乾燥
することに特徴を有する。

このように、洗浄後のガラス盤表面に保護層の形成とい
う、比較的簡単な工程を上記製造工程中に導入すること
により、ガラス原盤とフォトレジスト層との密着性を向
上させることができる。すなわち、ガラス原盤は保護層
が設けられているため、その表面状態は保存状態あるい
は保存期間の如何にかかわらず、常にガラス盤表面が洗
浄直後の状態を維持していると考えられる。従って、フ
ォトレジスト層形成時に該保護層を剥離した場合、塗布
されるガラス盤表面の状態は洗浄直後時の状態を維持し
ていることから、上記のようにフォトレジストのガラス
盤表面への密着性が優れたものとなる。

従って、後の工程における、フォトレジスト膜の剥離を
防止することができ、またガラス原盤からフォトレジス
ト層と一緒に電鋳層が浮いて厚み精度が低下したり、フ
ォトレジスト層へのめっき液の浸透による発泡が起こっ
たりという剥離現象を防止することができる。これによ
り精度が優れた光ディスク製造用スタンパを、高い再現
性で製造することが可能である。

また、本発明の洗浄後のガラス盤表面に保護層の形成工
程を導入することにより、いつでもガラス原盤とフォト
レジスト層との密着性が確保できることから、どのよう
な生産ラインであっても上記工程を利用することができ
、また上記工程を利用することで生産ラインの設計の自
由度が高くなるとの利点がある。

［発明の詳細な記述］ 本発明者は、光ディスク製造用スタンパの製造工程にお
いて、導電膜を電鋳法により成長させて電鋳層を形成す
る工程で発生する電鋳層（および導電膜）都よびフォト
レジスト層のガラス原盤からの剥離の原因について検討
を重ねてきた。

前述した従来技術では、ガラス原盤とフォトレジスト層
との密着性についての改善は行なわれず、導電膜とガラ
ス原盤とをフォトレジスト層の周囲で直接接着させるこ
とにより、あるいは導電膜を厚くすることにより、間接
的にガラス原盤とフィトレジスト層との密着性を改善あ
るいはフォトレジストを保護することが試みられている
。しかしながら、これらの方法を施しても、ガラス原盤
とフォトレジスト層との木質的な密着性の改善は行なわ
れないため、ガラス原盤からフォトレジスト層が浮き易
いという欠点は依然として残っていることから、製造条
件の微妙な差異により、フォトレジスト層と一緒に電鋳
層も浮いて厚み精度が低下したり、またフォトレジスト
層へのめっき液の浸透により発泡が起こったりという剥
離現象を完全に防止することができないことが分かった
。

そこで、本発明者らは、ガラス原盤とフォトレジスト層
との密着性の改善についてさらに検討を行なった。フォ
トレジストを塗布する前に一般にガラス原盤は、表面が
研磨され、そして洗浄処理が行なわれる。これらの処理
は比較的長時間を要するため、フォトレジストの塗布は
通常その翌日以降に行なわれる。しかしながら、洗浄処
理されたガラス原盤の表面は時間と共に有機被膜で覆わ
れるようになり、そしてこのような有機被膜は、ガラス
原盤表面の初期の活性化された状態を失効させることか
ら、上記密着性の低下が起こることが明らかとなった。

これを防止するためには、ガラス原盤表面の初期の活性
化された状態を維持することが必要であり、本発明者等
はこれを実現する方法を検討した結果、ガラス原盤を洗
浄後、その表面に保護層を形成して保護することにより
、その表面の活性状態を維持することが可能であること
を見出だした。

従って、本発明は、ガラス原盤を洗浄後、その表面に保
護層を形成した後、フォトレジストを塗布する際、該保
護層を剥離した後、フォトレジスト層形成用塗布液を塗
布乾燥し、以下現像処理、導電膜の形成、該導電膜上に
電鋳層の形成、そしてこの電鋳層の分離を行なうことを
特徴とする。

このように、洗浄後のガラス盤表面に保護層の形成とい
う、比較的簡単な工程を上記製造工程中に導入すること
により、ガラス原盤とフォトレジスト層との密着性を向
上させることができる。すなわち、ガラス原盤は保護層
が設けられているため、その表面状態は保存状態あるい
は保存期間の如何にかかわらず、常にガラス盤表面が洗
浄直後の状態を維持していると考えられる。従って、フ
ォトレジスト層形成時に該保護層を剥離した場合、塗布
されるガラス盤表面の状態は洗浄直後時の状態を維持し
ていることから、上記のようにフォトレジストのガラス
盤表面への密着性が優れたものとなる。

従って、後の工程にお°ける、フォトレジスト膜の剥離
を防止することができ、またガラス原盤からフォトレジ
スト層と一緒に電鋳層が浮いて厚み精度が低下したり、
フォトレジスト層へのめっき液の浸透による発泡が起こ
ったりという剥離現象を防止することができる。これに
より精度が優れた光ディスク製造用スタンパを、高い再
現性で製造することが可能である。

また、本発明の洗浄後のガラス盤表面に保護層の形成工
程を導入することにより、いつでもガラス原盤とフォト
レジスト層との密着性が確保できることから、どのよう
な生産ラインであっても上記工程を利用することができ
、また上記工程を利用することで生産ラインの設計の自
由度が高くなるとの利点がある。

本発明の光ディスク製造用のスタンパの製造方法を、代
表的な態様を添付した第１−Ａ図〜第１−）１図を参照
しながら詳しく説明する。

第１−Ａ図は、ガラス原盤１１が洗浄された直後の、表
面が活性化されたガラス原盤１１の断面図である。ガラ
ス原盤の洗浄は、例えば研磨材を除去した後、アルカリ
洗浄、酸洗浄、超音波洗浄、そして有機溶剤による洗浄
を単独または適宜組合わせて行ない、イソプロピルアル
コールやフレオン蒸気等によって乾燥が行なわれること
からなる。

第１−８図は、ガラス原盤１１を洗浄した後、数十分以
上経過して表面に有機被膜１２が形成されたガラス原盤
１１の断面図である。本発明では、このような状態にな
る前に、好ましくは洗浄直後に保護層が設けられる。

第１−Ｃ図は、第１−Ａ図の洗浄された直後のガラス原
盤１１表面に、保護層１３が設けられたガラス原盤１１
の断面図である。保護層１３は、可撓性樹脂フィルムを
ガラス原盤に、ラミネート等により密着させて形成され
ても良いし、あるいいは、合成樹脂を含む塗布液を該ガ
ラス原盤表面に塗布乾燥することにより形成されても良
い。

第１−Ｄ図は、レジスト原盤１０の断面図である。レジ
スト原盤１０は、支持体として上記保護層１３を剥離し
た活性化状態にあるガラス原盤１１の表面に、例えばポ
ジタイプのフォトレジスト層１４が形成されている。こ
のレジスト原盤１０のフォトレジスト層に、記録対象の
情報信号により変調されたレーザー光を照射させた後、
現像処理（一般にアルカリ性の水溶液が使用される）を
行なうことにより、所定の凹凸パターンが形成された第
１−Ｅ図の構成を有する光ディスク原盤１５が得られる
。

本発明のレジスト原盤１０は、フォトレジスト層とガラ
ス原盤表面との間の密着性が極めて優れているため、所
定の凹凸パターンが形成するための現像処理の際にレジ
スト膜の剥離はほとんど発生することはない。従って、
得られる光ディスク原盤１５は、ガラス原盤上に所定の
凹凸パターンが正確に形成されたものであるということ
ができる。

次に、第１−Ｅ図の光ディスク原盤１５の凹凸が形成さ
れた側の表面にスパッタリング等の方法により導電膜に
ニッケルなどの導電性の高い金属の薄膜）１６を形成し
、第１−Ｆ図の導電１ｉ１６を有する光ディスク原盤が
得られる。この際、導電層は、フォトレジスト層１４が
外界との接触しないように、フォトレジスト層１４の表
面のみならず、その側面１４ａを越えて、支持体の側面
１１ａにまで行なうことが好ましい（第１−Ｆ′図）。

すなわち、フォトレジスト層と支持体との界面を越える
位置まで導電膜を形成させることにより、フォトレジス
ト層の電鋳工程における電鋳液との接触を防止するに特
に有効である。

第１−Ｇ図は、第１−Ｆ図で示した電鋳層１７を、電鋳
法によりさらに成長させた状態を示す断面図である。本
発明においては、ガラス原盤とフォトレジスト層との密
着性が向上しているので、ガラス原盤からフォトレジス
ト層と一緒に電鋳層が浮いて厚み精度が低下したり、フ
ォトレジスト層へのめっき液の浸透により発泡が起こっ
たりという剥離現象がほとんど発生しない。

従って、電鋳層１７は、上記の第１−Ａ図〜第１−Ｈ図
の工程により光ディスク原盤１５上に、良好に形成され
ているため、凹凸が形成された側の反対側表面での板層
を高い精度で行なうことができる。そして、内外周にお
いて打ち抜き加工が施されてスタンパが得られる。上記
研磨には、例えばアルミナ、硝酸アルミナ等の研磨材が
使用される。

第１−Ｈ図は、光ディスク原盤１５に形成された電鋳層
１６が研磨され、光ディスク原盤１５から分離され、次
いで、内径側および外径側で打ち抜き加工が施されてス
タンパ１８として製造された状態を示す断面図である。

第１−Ａ図〜第１−Ｈ図において説明した光ディスク製
造用のスタンパの製造方法は、本発明の製造方法のうち
の好ましいものを述べたものであり、本発明は、上記の
ような構成に限定されるものではない。たとえば、導電
膜および電鋳層をニッケルの他の金属を用いて形成して
もよい。

本発明の光ディスク製造用のスタンパの製造方法におい
て使用される材料について簡単に説明する。

ガラス原盤の材料としては、ソーダライム、ノナルカリ
ガラス、光学ガラスおよびパイレックス等を挙げること
ができる。好ましくは、価格の点からソーダライムガラ
スである。

フォトレジストの材料は、レーザー光の照射により現像
可能なものであれば何でもよく、例えば、ポジ型の材料
としては、ＡＺシリーズ（ヘキスト社）　、　Ｍｉｃｒ
ｏ　Ｐｏ５ｉＬシリーズ（シブレー社）　、　０ＦＰＲ
シリーズ（東京応化■）およびにＭＰＲシリーズ（コダ
ック社）等を挙げることができる。

また、ネガ型の材料としては、例えばキノンアジド系化
合物や光分解剤とフェノールノボラックの併用などを利
用することができる。

保護層を形成するために用いられる材料は、ガラス原盤
に均一に密着できる膜であればよく、可撓性樹脂フィル
ムでも、合成樹脂を含む塗布液でもよい。

本発明の可撓性樹脂フィルムとしては、特に限定される
ものではないが、表面に微小な凹凸を有する樹脂フィル
ム、あるいは乳白色樹脂フィルムおよび着色樹脂フィル
ムなどの不透明樹脂フィルム等を挙げることができる。

本発明の可撓性樹脂フィルムの材料としては、ポリオレ
フィン系樹脂（例、ポリプロピレン、ポリエチレン）、
ポリカーボネート、ポリエステル系樹脂（例、ポリエチ
レンテレフタレート）アクリル系樹脂、塩化ビニル系樹
脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリビニ
ルアルコールおよびポリ塩化ビニリデン等の熱可塑性樹
脂を挙げることができる。好ましくはポリオレフィン系
樹脂、ポリビニルアルコールまたはポリエステル系樹脂
であり、特に好ましくはポリエチレンである。ポリエチ
レンフィルムの商品名の例としては、保護用フィルム５
ｐｖ（日東電気工業■製）を挙げることができる。

上記可撓性樹脂フィルムを、情報記録媒体の基板表面あ
るいは記録層表面（または記録層上に設けられた保護層
等の表面）に密着させる方法は、上記フィルムが粘着性
を有する場合は、そのまま上記情報記録媒体の表面に覆
って密着させることにより行なわれる。また粘着性を有
しない場合は、粘着剤を介して情報記録媒体の表面に覆
ワて密着させる。粘着剤としては、アクリル系粘着剤が
好ましい。

さらに、上記樹脂フィルムを用いずに、合成樹脂を含む
塗布液を塗布することにより上記保護層を設ける場合は
、上記合成樹脂（上記可撓性樹脂フィルムで示した材料
）を有機溶剤に溶解して塗布液を調製してガラス原盤表
面に塗布することにより保護層を形成することができる
。また、ストリッパブルペイントを塗布して情報記録媒
体上に上記樹脂フィルムを形成してもよい。この場合は
、剥離が容易であるとの利点を有する。

上記保護層の厚さとしては５〜３０μｍの範囲内にある
ことが好ましい。

次の本発明の実施例および比較例を記載する。

但し、これらの各側は本発明を制限するものではない。

［実施例１］ 外径２４０ｍｍ、厚さ６ｍｍの鏡面に研磨されたガラス
原盤三枚をアルカリ洗浄性ない、乾燥後すぐポリエチレ
ンフィルムをラミネートした。

−８後および三日後に、それぞれ該フィルムを剥離した
後、すぐにその表面にネガ型のフォトレジスト塗布液を
スピンコーターにて塗布し、乾燥することにより１００
０又の層厚のフォトレジスト層を設けた。

得られたレジスト原盤にレーザー光を露光（カッティン
グ）し、アルカリ水溶液にて現像処理を行ない表面にパ
ターンを形成した。次いでその表面のパターン上にＮｉ
をスパッタリングにより厚さ１２５０＾のＮｉ導電膜を
形成したのち、該導電膜上にＮｉメツキを行なうことに
より３００μｍの電鋳層を一体的に形成し、その後電鋳
層の裏面を研磨材としてセロックスを使用して鏡面に研
磨し、この電鋳層をフォトレジスト層から分離してスタ
ンパを作成した。

［比較例１］ 実施例１において、ポリエチレンフィルムをラミネート
しなかった以外は実施例１と同様にしてスタンパを作成
した。

ガラス　盤とフォトレジスト １）電鋳層の浮き ２）電鋳層の剥離 上記二項目について、Ｎｉ導電膜形成後、電鋳時におけ
る発生の有無を観察した。

その結果、実施例１では上記浮き、剥離等の発生はなか
ったが、比較例１では三日後に多数発生した。そして、
その剥離界面がガラス原盤とフォトレジストとの間であ
ることも観察した。

従って、本発明の保護層を設けることにより、浮き、剥
離等の発生を有効に防止できることが分かる。

【図面の簡単な説明】

第１−Ａ図〜第１−Ｈ図は、本発明の光ディスク製造用
スタンパの製造方法を説明するための模式図である。 １０ニレジスト原盤 １１ニガラス原盤 １ａ １２　： １３　： １４　： ４ａ １５　： ｌ　６　： ｌ　７　： １８　： ：ガラス原盤側面 有機被膜 保護層 フォトレジスト層 ：フォトレジスト層側面 光ディスク原盤 導電膜層 電鋳層 スタンパ 特許出願人　富士写真フィルム株式会社代　理　人　弁
理士　　柳　川　泰　男第１−Ａ図 １１７３ＺでＺり 第１−Ｄ図 第１−Ｅ図 −ｆ続７市エト書 （方式） ％式％ （１）明細書の「発明の詳細な説明」の欄を下記の通り
補正する。 平成元年　特許願　第１６７８４号 ２゜発明の名称 光ディスク用スタンパの製造方法 ３、補正をする者 １１ｓ件との関係　　特許出願人 名　称　（５２０）富士写真フィルム株式会社４゜代理
人 住所 東京都新宿区四谷２−１４ミツヤ四谷ビル８階６゜ ７゜ 補正の対象 （１）明細どの「発明の詳細な説明」の欄。 （２）明細書の「図面の簡単な説明」の欄。 （３）図面 補正の内容 （１）別紙のとおり。 （２）別紙のとおり。 （３）出願時願書に添付した図面第１−Ｆ図および第１
−Ｆ′図をここに添付した図面第１−ＦＡ図および第１
−ＦＢ図と差し替える。 メ７／、ＮＦ　、、ン。 一起工 ｒ第１−Ｆ （１）明細書の第１６頁第１８行目の 図１をｒ第１−ＦＡ図１と補正する。 （２）明細書の第１７頁第３〜４行目のｒ第１Ｆ°図１
をｒ第１−ＦＢ図１と補正する。 （３）明細書の第１７頁第８行目のｒ第１図１をｒ第１
−ＦＡ図１と補正する。 （２）明細書の「図面の簡単な説明」の欄を下記のとお
り補正致します。 一記一 １゜明細書の第２３頁第１５行目のｒ第１−Ａ図〜第１
−１１図１をｒ第１−Ａｉｄ、ｉｆ−Ｂｌｇ、第ｔ−Ｃ
図、’＄１−Ｄ図、第１−Ｅ図、第１−ＦＡ図、第１−
ＦＢ図、第１−Ｇ図および第１−８図１と補正する。 −以上一

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ガラス原盤の表面を洗浄した後、該表面にフォトレ
   ジスト層形成用塗布液を塗布乾燥し、該レジスト原盤に
   レーザー光を照射し、現像処理を行なうことにより該フ
   ォトレジスト層の表面に所定の凹凸パターンを形成し、
   次いで該フォトレジスト層の表面の凹凸パターン上に導
   電膜を形成したのち、該導電膜上に電鋳層を一体的に形
   成し、この電鋳層をフォトレジスト層から分離すること
   からなる光ディスク用スタンパの製造方法において、 ガラス原盤の表面を洗浄した後該表面に保護層を形成し
   、フォトレジスト層形成用塗布液を塗布する際、該保護
   層を剥離してから該ガラス原盤の表面に該塗布液を塗布
   することを特徴とする製造方法。