JPH02196284A - Manufacture of multicolor display device - Google Patents
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- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、液晶カラーテ１／ビ、パーソナルコンピュー
タの表示装冨、ビデオ表示装置、に１測機器の表示パネ
ル等あらゆる多色表示装置の製造方法に関し、詳しくは
カラーフィルターの間隙部に遮光膜を形成して迷光をな
くし表示品質を向上させた多色液晶表示装置の製造方法
に関する。Detailed Description of the Invention [Industrial Field of Application] The present invention is applicable to the manufacture of all kinds of multicolor display devices such as liquid crystal color TVs, display devices for personal computers, video display devices, and display panels for measurement equipment. More specifically, the present invention relates to a method for manufacturing a multicolor liquid crystal display device in which a light shielding film is formed in the gaps between color filters to eliminate stray light and improve display quality.
本発明は、基板上に形成された高分子からなる複数のカ
ラーフィルターの間隙部分に、カラーフィルター上に透
明電極を形成した後に、遮光性を有する感光性物質をフ
ォトリソグラフィ法により遮光膜を形成することを特徴
とする。さらには、遮光膜形成時に、予め紫外線吸収剤
を固着させたカラーフィルターをフォトマスクとしたセ
ルファライメント方式による簡易な遮光膜の形成方法を
含む多色表示装置の製造方法を提供する。The present invention involves forming transparent electrodes on the color filters in the gaps between a plurality of color filters made of polymers formed on a substrate, and then forming a light-shielding film using a photolithography method using a photosensitive material having light-shielding properties. It is characterized by Furthermore, the present invention provides a method for manufacturing a multicolor display device, which includes a simple method for forming a light shielding film using a self-alignment method using a color filter to which an ultraviolet absorber is fixed in advance as a photomask when forming the light shielding film.
近年、液晶セルのシャッター効果を利用してカラーフィ
ルターを通過する光をコントロールして表示することに
よる多色表示技術が進歩してきた。In recent years, progress has been made in multicolor display technology that utilizes the shutter effect of liquid crystal cells to control and display light passing through color filters.
当初、液晶駆動用の透明電極は、カラーフィルターの下
に形成されていたが、これはカラーフィルターによる電
圧降下で駆動電圧を高めなければならないという問題が
生じ、最近はカラーフィルターの上にカラーフィルター
のパターンと一致させて透明電極を形成するようになっ
てきた。Initially, the transparent electrode for driving the liquid crystal was formed under the color filter, but this caused the problem that the driving voltage had to be increased due to the voltage drop caused by the color filter, and recently the color filter was formed above the color filter. Nowadays, transparent electrodes are formed to match the pattern of
また、カラーフィルター間隙部からの光の漏れを防止す
るための遮光膜の製造方法は大別して次の３つの方法が
採用されている。１つは、カラーフィルターの間隙部に
予めスパッタ法等による気相めっきにより、クロム等の
金属膜を形成し遮光膜とする方法である。２つめは、カ
ラーフィルターの３原色である赤・緑・青のパターンを
カラーフィルターの間隙部で重ね合わせ黒色化させ遮光
膜とする方法である。この方法は、通常染色カラーフィ
ルターの場合にのみ適用される。赤・緑・青の３色分の
フォトマスクによりそれぞれのパターンとカラーフィル
ター間隙部とにゼラチン等の感光性物質を残すようにフ
ォトリソグラフィ法を用いて順次形成する方法である。Furthermore, the following three methods have been adopted as methods for manufacturing a light-shielding film for preventing light leakage from the gaps between color filters. One is a method in which a metal film such as chromium is formed in advance by vapor phase plating using sputtering or the like in the gap between the color filters to serve as a light-shielding film. The second method is to overlap patterns of the three primary colors of the color filter, red, green, and blue, in the gaps between the color filters to create a black color, creating a light-shielding film. This method is usually only applied in the case of dyed color filters. This method uses photomasks for three colors, red, green, and blue, to sequentially form a photosensitive material such as gelatin in each pattern and in the gap between the color filters using a photolithography method.
３つめは、黒色色素の含有した感光性物質をカラーフィ
ルター間にフォトリソグラフィ法により形成した遮光膜
とする方法である。これは、フォトマスクを使用してカ
ラーフィルター間に遮光膜を形成する方法と、カラーフ
ィルターの下に設けられた透明電極に予め無電解めっき
法等によりメタライズされたメツキパターンをフォトマ
スクとするセルフアライメント方式によりカラーフィル
ター間隙部に遮光膜を形成する方法がある。The third method is to use a photosensitive material containing a black dye as a light-shielding film formed between color filters by photolithography. This method uses a photomask to form a light-shielding film between color filters, and a self-propelled method that uses a plating pattern that is pre-metalized by electroless plating on a transparent electrode provided under the color filter as a photomask. There is a method of forming a light-shielding film in the gap between color filters using an alignment method.
これらの方法により設けられた遮光膜付きのカラーフィ
ルターを用いた多色表示装置の製造方法を第３図により
説明する。A method of manufacturing a multicolor display device using a color filter with a light shielding film provided by these methods will be explained with reference to FIG.
３１はガラス基板、その上にバターニングされた透明電
極３２が形成され、該透明電極上にカラーフィルター３
５が電着法、染色法、印刷法等によって形成される。電
着法は高分子と色素を含む溶液から選択的に電極に電圧
を印加することにより、透明電極３２上に着色した高分
子膜を析出させるものである。染色法は、感光性のゼラ
チン等の可染性の高分子を塗布した後、フォトリソグラ
フィ法によりパターンを形成し、赤・緑・青の各色素で
染色する方法である。印刷法は、多色のインクを基板上
に各色のパターン通りに精密に印刷することにより形成
される。透明電極３２は電着法以外の方法では不要であ
る。31 is a glass substrate, on which a patterned transparent electrode 32 is formed, and a color filter 3 is placed on the transparent electrode.
5 is formed by an electrodeposition method, a dyeing method, a printing method, or the like. In the electrodeposition method, a colored polymer film is deposited on the transparent electrode 32 by selectively applying a voltage to the electrode from a solution containing a polymer and a dye. The dyeing method is a method in which a dyeable polymer such as photosensitive gelatin is applied, a pattern is formed using photolithography, and the material is dyed with red, green, and blue dyes. In the printing method, multicolor ink is precisely printed on a substrate in a pattern of each color. The transparent electrode 32 is not required by methods other than electrodeposition.
また、遮光膜３６は、前述したようにスパッタ法による
金属膜をカラーフィルター３５の間隙部に設ける方法、
染色カラーフィルターの成膜過程で赤・緑・青のカラー
フィルターを重ね合わせる方法、黒色色素を含んだ感光
物質をフォトリソグラフィ法により形成する方法で設け
られたものである。The light-shielding film 36 can be formed by sputtering a metal film in the gap between the color filters 35 as described above;
This method was created by overlapping red, green, and blue color filters in the process of forming a dyed color filter, or by forming a photosensitive material containing a black dye using a photolithography method.
次に、カラーフィルター３５及び遮光膜３６の上に、通
常緩衝膜としてオーバーコートＮ３７を設ける。Next, an overcoat N37 is provided on the color filter 35 and the light shielding film 36 as a normal buffer film.
このオーバーコート層は、後に設ける透明ｉｌ！ｌ掘３
８とカラーフィルターとのミドルバリアとして無機物で
ある透明電極の密着性やパターニング性を安定させるた
めに設けるためのものである。そしてこのオーバーコー
ト層３７の上にスパッタ等の方法により透明導電膜を形
成した後、フォトリソグラフィ法により、透明電極３８
をカラーフィルター３５の上に形成する。This overcoat layer is a transparent il! that will be provided later. l digging 3
This is provided as a middle barrier between the transparent electrode 8 and the color filter in order to stabilize the adhesion and patternability of the inorganic transparent electrode. After forming a transparent conductive film on this overcoat layer 37 by a method such as sputtering, a transparent electrode 38 is formed by a photolithography method.
is formed on the color filter 35.
こうして形成されたカラーフィルター基板と透明電極３
４を設けた対向基板３３との間に液晶３９を挟持させて
多色表示装置を製造する。The color filter substrate and transparent electrode 3 thus formed
A multicolor display device is manufactured by sandwiching a liquid crystal 39 between a counter substrate 33 and a counter substrate 33 provided with a liquid crystal 39.
第３図に示したように、従来のカラーフィルターの遮光
膜の製造方法にはそれぞれ次に掲げるような欠点や問題
点を有していた。As shown in FIG. 3, each of the conventional methods of manufacturing a light-shielding film for a color filter has the following drawbacks and problems.
まず第一のスパッタ法による金属薄膜による遮光膜形成
は、高価なスパッタ装置等の導入と共に極めて作業能率
が悪い、従って、低廉価の多色表示装置を製造し難いと
いう問題を有している９次に、染色カラーフィルターに
よる赤・緑・青の３色重ね合わせによる遮光膜の形成方
法は、赤・緑・青の３色分のフォトマスクを正確にアラ
イメントする必要があり、第一の方法と同様な欠点を有
すると共に、遮光膜部の膜厚が大きくなり、カラーフィ
ルター表面が凹凸になり、多色表示装置のパネルギャッ
プの均一性に欠は表示品質への悪影響が生じ易いという
問題を有している。First, forming a light-shielding film using a metal thin film using the sputtering method has the problem of extremely low work efficiency due to the introduction of expensive sputtering equipment, and therefore, it is difficult to manufacture inexpensive multicolor display devices9. Next, the method of forming a light-shielding film by superimposing the three colors of red, green, and blue using a dyed color filter requires accurate alignment of the photomasks for the three colors of red, green, and blue. In addition to having similar drawbacks, the film thickness of the light-shielding film becomes large, the surface of the color filter becomes uneven, and the lack of uniformity in the panel gap of multicolor display devices tends to adversely affect the display quality. have.
第三の黒色色素を含む感光性物質を用いた遮光膜形成方
法のうち、フォトマスクを使用する前者の場合は、やは
り正確なアライメント露光が要求され作業能率が低下す
る。また、カラーフィルター形成後に遮光膜となる感光
性物質を塗布して、フィルター間に遮光膜を形成すると
、感光性物質は高分子物質であり、同じ高分子物質から
なるカラーフィルター上に塗布されるため、現像時にカ
ラーフィルター上に感光性物質が残留してしまい、カラ
ーフィルター本来の色を損なうという問題を有していた
。現像性を向上させるためにブラシ等でラビングを施す
る改善されるものの、感光性樹脂やカラーフィルターに
キズがつき、表面外観上見栄えが劣るという問題が発生
した。Among the methods for forming a light-shielding film using a photosensitive material containing the third black dye, the former method using a photomask still requires accurate alignment exposure, which reduces work efficiency. In addition, if a light-shielding film is formed between the filters by applying a photosensitive material that becomes a light-shielding film after forming a color filter, the photosensitive material is a polymeric material and is applied onto the color filter made of the same polymeric material. Therefore, there was a problem in that a photosensitive substance remained on the color filter during development, impairing the original color of the color filter. Although rubbing with a brush or the like is an improvement to improve developability, the problem arises that the photosensitive resin and color filter are scratched, resulting in poor surface appearance.
第三の方法のうちカラーフィルターをマスクとしてセル
フアライメントによる遮光膜形成方法は掻めて作業能率
が良く、低廉価の多色表示装置を提供しうるという特徴
は有しているものの、前者の方法と同様に、感光性物質
とカラーフィルターとの高分子物質どうしの現像性が劣
り、感光性物質が残るという問題を有していた。Among the third methods, the method of forming a light-shielding film by self-alignment using a color filter as a mask has the characteristics of having high work efficiency and being able to provide a low-cost multicolor display device, but the former method Similarly, there was a problem in that the developing properties of the photosensitive material and the polymeric material of the color filter were poor, and the photosensitive material remained.
上記のような問題点を解決する方策の１つとして、感光
性樹脂が感光する紫外領域の波長をわずかながら透過さ
せるカラーフィルターに紫外領域をシャープにカットす
る紫外線吸収剤を混入させるという方策がある。しかし
ながら、カラーフィルター形成時の材料に紫外線吸収剤
を混ぜるのは問題が多い０例えば、染色法によりカラー
フィルターを形成する場合は、カラーフィルター材料そ
のものが紫列線に感光するものであるため、この中に紫
外線吸収剤を混ぜることはカラーフィルター形成時の露
光を妨げることになり、現像不良を引き起こすことにな
る。また、電着法では高分子と色素の溶液に紫外線吸収
剤を混ぜることは、電着反応そのもののバランスを面し
膜の析出に悪影響を及ぼす。One way to solve the above problems is to mix an ultraviolet absorber that sharply cuts the ultraviolet region into a color filter that slightly transmits wavelengths in the ultraviolet region that photosensitive resins are sensitive to. . However, there are many problems with mixing ultraviolet absorbers into the materials used to form color filters. For example, when forming color filters by dyeing, the color filter material itself is sensitive to violet lines; Mixing an ultraviolet absorber therein will interfere with exposure during the formation of color filters, leading to poor development. Furthermore, in the electrodeposition method, mixing an ultraviolet absorber into the polymer and dye solution affects the balance of the electrodeposition reaction itself and has a negative effect on film deposition.
そこで本発明者らは前述した問題点を解決するため、カ
ラーフィルター形成後にカラーフィルター中に紫外線吸
収剤溶液からカラーフィルター中に紫外線吸収剤を固着
させた。Therefore, in order to solve the above-mentioned problems, the present inventors fixed an ultraviolet absorber in the color filter from an ultraviolet absorbent solution after forming the color filter.
次に、カラーフィルター上に感光性物質の残留を防いで
現像性を向上させるために、カラーフィルター上に透明
電極を形成した後、感光性物質を塗布しカラーフィルタ
ーをマスクとして露光、現像して遮光膜を形成する方法
を採用したものである。Next, in order to prevent the photosensitive substance from remaining on the color filter and improve developability, a transparent electrode is formed on the color filter, and then a photosensitive substance is applied, and the color filter is used as a mask to expose and develop. This method employs a method of forming a light-shielding film.
一般に、紫外線吸収剤として多くの物質が存在している
が、高分子に固着可能なものは少なく、混合させるもの
が大部分である。しかし、繊維等の耐光性を向上させる
ことを目的にした染色助剤の中で紫外線を効果的に吸収
し、しかも高分子に染色するものが存在する０例えば、
下記構造式で示すれるヒドロキシベンゾトリアゾールの
誘導体がこのような目的に使用されている。Generally, many substances exist as ultraviolet absorbers, but there are only a few that can be fixed to polymers, and most of them are mixed. However, among dyeing aids aimed at improving the light resistance of fibers, etc., there are some that effectively absorb ultraviolet rays and dye polymers.
Derivatives of hydroxybenzotriazole represented by the following structural formula are used for this purpose.
これらの物質は溶液にされ、−船釣な染色と同様な方法
で高分子に固着され紫外線吸収能を付加することができ
る。これによって、本発明のようにカラーフィルター自
体を紫外線吸収膜とすることが可能になる。These substances can be put into solution and fixed to polymers in a manner similar to traditional dyeing to add ultraviolet absorption capacity. This makes it possible to use the color filter itself as an ultraviolet absorbing film as in the present invention.
さらに、高分子である感光性物質による遮光膜形成工程
中には、加熱処理が必ず伴うのが普通であり、同じ高分
子であるカラーフィルター上にこの感光性物質を塗布し
た後、加熱処理を施すと、高分子同士が熱融着し、現像
時に完全溶解され難しい状態になる。したがって、カラ
ーフィルター上に無機膜である透明電極を形成した後に
感光性物質を塗布すれば、透明電極上の感光性物質は容
易に現像溶解されることになり、カラーフィルター上に
は遮光膜材料の感光性物質が残留しなくな〔実施例〕
以下、実施例に基づき本発明について具体的に説明する
。Furthermore, during the process of forming a light-shielding film using a polymeric photosensitive substance, heat treatment is usually required, and after coating this photosensitive substance on the same polymeric color filter, heat treatment When applied, the polymers are thermally fused together and completely dissolved during development, creating a difficult state. Therefore, if a photosensitive substance is applied after forming a transparent electrode, which is an inorganic film, on a color filter, the photosensitive substance on the transparent electrode will be easily developed and dissolved, and a light-shielding film material will be applied on the color filter. [Example] The present invention will be specifically explained based on Examples below.
（実施例１）
第１図（ａ）〜（ｆｌは本発明によるカラーフィルタ・
−の製造方法の断面模式図である。第１図（６）では、
ガラス基板２１に所定の形状に透明電極２２を形成する
。（ｂ）は透明１ｉ極２２上にカラーフィルター２３を
高分子と色素を含んだ溶液から電圧を印加して析出形成
した。本実施例においては高分子は、ポリエステルメラ
ミン樹脂を使用した。次にカラーフィルター２３を紫外
線吸収剤Ｓｕａ＋−１ｐｏｎ ＦＩＬ（住友化学製）の
水溶液に浸漬し９０℃で紫外線吸収剤を染着させた。そ
の後カラーフィルター上全面にオーバーコート層２６と
してエポキシ樹脂（日本合成ゴム製）を形成した（Ｃ１
゜次に、スパッタ法により透明導電膜をオーバーコート
層２６の上全面に設けた後、フォトリソグラフィ法でカ
ラーフィルター２３の上部のみに透明電極２８をｆｄ＋
のように形成させた。次いで、黒色色素を含む感光性物
質（富士ハント製）を全面に塗布、ベークし、ガラス基
板２１の裏面より露光し、これを現像したところ、第１
図（ｆ）に示すように極めて容易に透明電極２８の上の
感光性物質が溶解除去され、カラーフィルター２３間隙
部のみに遮光膜２７が形成された。(Example 1) Figures 1(a) to (fl are color filters according to the present invention.
- is a cross-sectional schematic diagram of the manufacturing method. In Figure 1 (6),
A transparent electrode 22 is formed in a predetermined shape on a glass substrate 21. In (b), a color filter 23 was deposited on a transparent 1i electrode 22 from a solution containing a polymer and a dye by applying a voltage. In this example, polyester melamine resin was used as the polymer. Next, the color filter 23 was immersed in an aqueous solution of the ultraviolet absorber Sua+-1pon FIL (manufactured by Sumitomo Chemical) and dyed with the ultraviolet absorber at 90°C. Thereafter, an epoxy resin (manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.) was formed as an overcoat layer 26 on the entire surface of the color filter (C1
゜Next, after a transparent conductive film is provided on the entire surface of the overcoat layer 26 by a sputtering method, a transparent electrode 28 is formed only on the upper part of the color filter 23 by a photolithography method.
It was formed as follows. Next, a photosensitive material containing a black pigment (manufactured by Fuji Hunt) was applied to the entire surface, baked, exposed to light from the back side of the glass substrate 21, and developed.
As shown in Figure (f), the photosensitive material on the transparent electrode 28 was dissolved and removed very easily, and the light shielding film 27 was formed only in the gap between the color filters 23.
このように形成された遮光膜付のカラーフィルター基板
と対向電極１４を有するガラス基板１３との間に液晶を
挟持させる、：とにより、第２図に示すような本発明に
よる多色表示装置が製造される。A multicolor display device according to the present invention as shown in FIG. Manufactured.
（実施例２）
第１図０））において、カラーフィルター２３を感光性
ゼラチンを露光、現像し、てバターニングした後、染色
して形成したこのカラーフィルタ−２３ヲ銅錯体系の紫
外線吸収剤Ｃｈｉｂａｆａｓｔ、 Ｎ（チバガイギー製
）の水溶液に浸漬し、６０℃で染着させた。次いで、オ
ーバーコーｉ・層２６としてエポキシ−アクリル系樹脂
（日本合成ゴム）を塗布し、実施例１と同様にカラーフ
ィルター２３上に透明電極２８を形成りまた。(Example 2) In Fig. 1 0), the color filter 23 was formed by exposing photosensitive gelatin, developing it, buttering it, and then dyeing it. It was immersed in an aqueous solution of Chibafast N (manufactured by Ciba Geigy) and dyed at 60°C. Next, an epoxy-acrylic resin (Japan Synthetic Rubber) was applied as an overcoat I layer 26, and a transparent electrode 28 was formed on the color filter 23 in the same manner as in Example 1.
その後、透明で被染色性を有する感光性樹脂（日本合成
ゴム製ＪＤＲ５０９）を塗布し、ベーキングした。Thereafter, a transparent photosensitive resin (JDR509 manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.) that is transparent and dyeable was applied and baked.
次に、ガラス基板２１の裏面より露光し、現像したとこ
ろカラーフィルター２３の間隙部分にのみシャープな形
状を有した感光性樹脂が残留した。この後、黒色酸性染
料溶液により染色したところ、前記カラーフィルター２
３の間隙部のみに形成された感光性樹脂が染色され、遮
光膜２７が形成された。Next, when the glass substrate 21 was exposed to light from the back surface and developed, a photosensitive resin having a sharp shape remained only in the gaps between the color filters 23 . After that, the color filter 2 was dyed with a black acid dye solution.
The photosensitive resin formed only in the gap 3 was dyed, and a light shielding film 27 was formed.
このようにして形成されたカラーフィルター基板と対向
基板１３を用いて実施例１と同様に多色表示装置が製造
された。A multicolor display device was manufactured in the same manner as in Example 1 using the color filter substrate and counter substrate 13 thus formed.
以上実施例で具体的に説明したように、紫外線吸収剤を
固着させることによりカラーフィルターがほぼ完全なフ
ォトマスクになり、露光時に紫外線をカットし、カラー
フィルター間隙部のみの感光性物質を感光させることが
でき、カラーフィルター上部の透明電極部分の感光性樹
脂を容易にかつ完全に現像溶解し、極めてシャープな形
状を有した遮光膜が得られる。このため、このようにし
て形成された遮光膜付のカラーフィルター基板を用いて
製造される多色表示装置は、高品質で高歩留りが期待で
きると同時に、低廉価で市場に供給できる基板になるも
のである。As specifically explained in the examples above, by fixing the ultraviolet absorber, the color filter becomes a nearly complete photomask, cuts ultraviolet rays during exposure, and exposes the photosensitive material only in the gaps between the color filters. The photosensitive resin in the transparent electrode portion on the upper part of the color filter can be easily and completely developed and dissolved, and a light-shielding film with an extremely sharp shape can be obtained. Therefore, a multicolor display device manufactured using a color filter substrate with a light-shielding film formed in this way can be expected to have high quality and high yield, and at the same time, it will be a substrate that can be supplied to the market at a low price. It is something.
第１図は本発明によるカラーフィルターの製造工程図、
第２図は本発明による多色表示装置の断面模式図、第３
図は従来の多色表示装置の断面模式図である。
１１．１３，２１．２３，３１．３３・・・ガラス基板
１２、１４，２２，２４，３２．３４・・・透明電極１
５、２５．３５・・・・・カラーフィルター１６、２６
．３６・・・・・オーバーコート１７、２７．３７・・
・・・遮光膜
１８、２８．３８・・・・・透明電極
１９、２９．３９・・・・・液晶
以上
出願人 セイコー電子工業株式会社
代理人 弁理士 林 敬 之 助
讐
牛
＋ ＋ 手
九
本発明１−よるカラーフィルター〇＊ＬＴＯ−程図第
１ 図
才Ｉ右明１’Ｊろ勿色Ａ不ｇ１［の岬面凍式図第２図
Ｖ：米の勿邑東不せ亙め白゛置１１八′図第３図FIG. 1 is a manufacturing process diagram of a color filter according to the present invention;
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a multicolor display device according to the present invention;
The figure is a schematic cross-sectional view of a conventional multicolor display device. 11.13, 21.23, 31.33... Glass substrate 12, 14, 22, 24, 32.34... Transparent electrode 1
5, 25.35...Color filter 16, 26
．． 36...Overcoat 17, 27.37...
...Light shielding film 18, 28.38...Transparent electrode 19, 29.39...Liquid crystal or above Applicant Seiko Electronics Co., Ltd. Agent Patent attorney Takayuki Hayashi Invention 1 - Color filter according to *LTO - Process diagram
1. Figure 2: Map of the cape surface of Mt.
Claims (3)
法において、該カラーフィルター上に透明電極を形成し
た後に、遮光性を有する感光性物質を塗布し、カラーフ
ィルターをフォトマスクとしてフォトリソグラフィ法で
、該カラーフィルター間隙部に上記感光性物質を遮光膜
として形成することを特徴とする多色表示装置の製造方
法。(1) In a method for manufacturing a multicolor display device using a color filter, after forming a transparent electrode on the color filter, a photosensitive substance having a light-shielding property is applied, and the color filter is used as a photomask by photolithography. . A method for manufacturing a multicolor display device, characterized in that the photosensitive material is formed as a light-shielding film in the gap between the color filters.
であることを特徴とする請求項（１）記載の多色表示装
置の製造方法。(2) The method for manufacturing a multicolor display device according to claim (1), wherein the photosensitive material is a photosensitive material mixed with a black dye.
ーをフォトマスクとしてフォトリソグラフィ法で形成さ
れた後、黒色染料により染色することを特徴とする請求
項（１）記載の多色表示装置の製造方法。(3) The multicolor display device according to claim (1), wherein the light-shielding film is formed by applying a photosensitive polymer, using a photolithography method using a color filter as a photomask, and then dyeing with a black dye. manufacturing method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1015967A JPH02196284A (en) | 1989-01-25 | 1989-01-25 | Manufacture of multicolor display device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1015967A JPH02196284A (en) | 1989-01-25 | 1989-01-25 | Manufacture of multicolor display device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02196284A true JPH02196284A (en) | 1990-08-02 |
Family
ID=11903487
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1015967A Pending JPH02196284A (en) | 1989-01-25 | 1989-01-25 | Manufacture of multicolor display device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02196284A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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1989
- 1989-01-25 JP JP1015967A patent/JPH02196284A/en active Pending
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