JPH02185049A - Semiconductor element - Google Patents

Semiconductor element

Info

Publication number
JPH02185049A
JPH02185049A JP1005581A JP558189A JPH02185049A JP H02185049 A JPH02185049 A JP H02185049A JP 1005581 A JP1005581 A JP 1005581A JP 558189 A JP558189 A JP 558189A JP H02185049 A JPH02185049 A JP H02185049A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
image recognition
recognition mark
picture
recognizing
sign
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1005581A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0563098B2 (en
Inventor
Takaaki Yokoyama
隆昭 横山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanken Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanken Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanken Electric Co Ltd filed Critical Sanken Electric Co Ltd
Priority to JP1005581A priority Critical patent/JPH02185049A/en
Publication of JPH02185049A publication Critical patent/JPH02185049A/en
Publication of JPH0563098B2 publication Critical patent/JPH0563098B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item

Landscapes

  • Image Processing (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Image Analysis (AREA)

Abstract

PURPOSE:To enable wire bonding by recognizing a picture even when deviation in the direction of rotation is generated by forming a sign for recognizing the picture in an annular type pattern or an approximately annular type pattern having a notch region and shaping metallic electrodes to both the inside and the outside of the sign for recognizing the picture. CONSTITUTION:Metallic electrodes 5 for connecting lead wires have a sign 7 for recognizing a picture, the sign 7 is formed in an annular type pattern or an approximately annular pattern having notch regions in a plan view, and the metallic electrodes 5 are shaped on both the inside and the outside of the sign 7 for recognizing the picture. Consequently, even when a semiconductor element is fixed deviated in the direction of rotation to a support plate, etc., the sign 7 for recognizing the picture can be obtained as an annular type picture. Accordingly, even when deviation in the direction of rotation is generated, a wire bonder having a picture recognition function is used on the semiconductor element getting no trouble in wire bonding, and wire bonding operated at high speed and having little 'regognition impossibility' is conducted.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は画像認識用標識を有する半導体素子に関する。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] The present invention relates to a semiconductor device having an image recognition mark.

[従来の技術〕 半導体素子(#−導導体チップ上の電極と外部リードと
の間を電気的に接続するためのり−ドalfMは、周知
の自動ワイヤボンダによってワイヤボンディングされる
[Prior Art] A glue door alfM for electrically connecting an electrode on a semiconductor element (#-conductor chip and an external lead) is wire-bonded by a well-known automatic wire bonder.

[発明が贋決しようとする課題〕 ワイヤボンディングにおいて、リード細線全半導体チッ
プ上の電極と外部リードとの間に正確に接続するために
は、ワイヤボンダのボンディングヘッド(リードm線を
加圧する部分)全半導体チップ上の電極に正確に配置す
ることが1要である。
[Problem to be solved by the invention] In wire bonding, in order to accurately connect the thin lead wires between the electrodes on all the semiconductor chips and the external leads, the bonding head of the wire bonder (the part that applies pressure to the lead m wires) is required. One requirement is accurate placement of the electrodes on all semiconductor chips.

従来、整流ダイオードのような電極が比較的大面積の半
導体チップでは、リードフレームの支持板上に半導体チ
ップを正確に位置決めして固着し、このリードフレーム
を所定ピッチで間欠的に搬送して半導体チップ上の電極
をボンディングへッドの下方に正確に配置させることで
それを実現していた。ところが、上記の方法によると、
支持板上の半導体チップの位置決め精度がその!まワイ
ヤボンディングの接続精度【ボンディング精度)となる
ため、精度の高いワイヤホンデイングラ行うことが困難
である。したがって、半導体チップが小形化しfc場合
やリード細線を半導体チップの一方の側に片寄った位置
にワイヤボンディングするような場合にボンディングの
位置精度が不十分になることがある。また、半導体チッ
プを認識セずにワイヤボンデインクを行うfcめに、何
らかの霧出によジ半導体テップが固着されなかった支持
板に対しても不要なワイヤボンディングが施されること
になシ、生産性の点で不利である。上記問題を解決する
には画像認識機能を有するワイヤボンダを使用する方法
が考えられる。即ち、半導体チップ上に設けられた画像
認識用標識を予め記憶させた画像データとをパターンマ
ツチラグにJシ認識することにより半導体チップの位置
を検出してからワイヤボンディングする方法である。こ
の方法によれば、接続精度の高いワイヤボンディングが
可能となるし、チップの固着されていない支持板に対し
てワイヤボンディングが施されることもない。ところで
、半導体チップの支持板への固着t−量産化した場合、
半導体チップか支持板の標準位置に対して回転方向に偏
位して固着されることがある。この場合、画像認識用標
識も回転方向に偏位する。ところで単一電極の整流ダイ
オードテップ等ではワイヤボンディング位置が正しけれ
ば上記回転方向の偏位なワイヤボンディングにさけど支
障を来たさない。したかつて、回転方向の偏位のみの半
導体テップではワイヤボンディングが施されるのが望ま
しい。しかしながら、従来一般に使用されている「◇」
形状の画像認識用標識では回転方向に偏位すると画像認
識ができないために、ワイヤボンディングが行えなくな
ることがあった。もちろん、半導体チップの回転方向で
の位置検出も行えば画像認識が可能となるが、認識時間
が長くなりワイヤボンデインクの高速化の点で不利であ
る。
Conventionally, for semiconductor chips such as rectifier diodes with relatively large electrodes, the semiconductor chip is accurately positioned and fixed on the support plate of a lead frame, and the lead frame is intermittently conveyed at a predetermined pitch. This was achieved by placing the electrodes on the chip precisely below the bonding head. However, according to the above method,
The accuracy of positioning the semiconductor chip on the support plate is the key! However, due to the connection accuracy (bonding accuracy) of wire bonding, it is difficult to perform highly accurate wire bonding. Therefore, when the semiconductor chip becomes smaller and fc is used, or when wire bonding is performed to a thin lead wire at a position offset to one side of the semiconductor chip, the positional accuracy of bonding may become insufficient. In addition, since wire bonding is performed without recognizing the semiconductor chip, unnecessary wire bonding will be performed on the support plate to which the semiconductor chip is not fixed due to some kind of spraying. This is disadvantageous in terms of productivity. A possible solution to the above problem is to use a wire bonder with an image recognition function. That is, this method detects the position of the semiconductor chip by recognizing the image recognition mark provided on the semiconductor chip with pre-stored image data on a pattern match lag, and then performs wire bonding. According to this method, wire bonding with high connection accuracy is possible, and wire bonding is not performed on a support plate to which a chip is not fixed. By the way, in the case of mass production of semiconductor chips fixed to the support plate,
The semiconductor chip may be fixed to the support plate with rotational deviation relative to its standard position. In this case, the image recognition mark is also displaced in the rotational direction. By the way, in the case of a single-electrode rectifier diode tip, etc., if the wire bonding position is correct, the deviation in the rotational direction will not cause any trouble to the wire bonding. In the past, it is desirable to perform wire bonding on semiconductor chips that are only offset in the rotational direction. However, the commonly used "◇"
With shape image recognition markers, if the marker is deviated in the direction of rotation, image recognition cannot be performed, and therefore wire bonding may not be possible. Of course, if the position of the semiconductor chip in the rotational direction is also detected, image recognition becomes possible, but this increases the recognition time and is disadvantageous in terms of increasing the speed of wire bonding.

そこで、本発明の目的は、回転方向の偏位が発生した場
合であっても画像認識によってワイヤボンディングする
ことができる半導体素子を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a semiconductor element that can be wire-bonded by image recognition even when deviation in the rotational direction occurs.

c諌躍を解決するための手段〕 上記目的を達成するための本願の第1番目の発明は、半
導体基体の一方の主面にリード細線を接続するための金
属電極が形成されており、該金属電極が画像認識用標識
を備えており、該画像認識用標識は平面的に見て円環状
パターン又は切欠領域を有する略円環状パターンに形成
されてお夛、前記金a’g極は平面的に見て前記画像認
識用標識の内側と外側との両方に設けられていることt
−特徴とする半導体素子に係わるものである。
Means for Solving the Problem] The first invention of the present application for achieving the above object is that a metal electrode for connecting a thin lead wire is formed on one main surface of a semiconductor substrate, and The metal electrode is provided with a mark for image recognition, and the mark for image recognition is formed in a circular pattern or a substantially circular pattern having a cutout area when viewed from above, and the gold a'g electrode is provided with a flat surface. visually, it is provided both inside and outside the image recognition mark.
- It is related to a characteristic semiconductor element.

上記目的を達成するための本願の第2番目の発明は、半
導体基体の一方の主面に金属電極が形成されておシ、前
記金属電極が画像認識用標識を備えており、前記画像認
識用標識は前記金属電極の中央部に位置するとともに円
形又は略円形ヌは略円環状の平面形状を有しており、前
記金属電極の前記画像認識用標識の一方の外側部分と他
方の外側部分とがリード細線の接続領域とされているこ
とを特徴とする半導体素子に係わるものである。
A second invention of the present application for achieving the above object is that a metal electrode is formed on one main surface of a semiconductor substrate, the metal electrode is provided with an image recognition mark, and the image recognition The mark is located at the center of the metal electrode, and has a circular or substantially annular planar shape, and one outer part and the other outer part of the image recognition mark of the metal electrode. The present invention relates to a semiconductor device characterized in that the area is a connection area for thin lead wires.

[作 用] 第111目の発明の#!−導体素子の画像認識用標識は
円環状パターン又は略円環状パターンを有する。
[Function] # of the 111th invention! - The image recognition mark of the conductor element has a circular pattern or a substantially circular pattern.

したがって、半導体素子が支持板等に対して回転方向に
偏位して固着された場合であっても、画像認識用標識を
円環状の画像としてとらえることができる。このため、
回転方向の偏位が生じてもワイヤボンディングに支障の
ない半導体素子の場合に画像認識機能を有するワイヤボ
ンダを使用して高速かつ「認識不可能jの少ないワイヤ
ボンディングを行える。また、画像認識機能1識の内側
1領域と外側領域との両方にポンディングパッドとして
機能する電極が存在するため、画像認識用標識を設けた
ことによる電極の実効面積の低下は実質的にない。また
、′半導体素子の欠落も当然検出されるので、半導体素
子の欠落している支持板に不要なワイヤボンディングを
行うことがない。
Therefore, even if the semiconductor element is fixed to the support plate or the like while being deviated in the rotational direction, the image recognition mark can be captured as an annular image. For this reason,
In the case of semiconductor devices that do not interfere with wire bonding even when deviation occurs in the rotational direction, wire bonding can be performed at high speed and with fewer "unrecognizable j" using a wire bonder having an image recognition function.In addition, the image recognition function 1 Since there are electrodes that function as bonding pads in both the inner region and the outer region of the sensor, there is virtually no reduction in the effective area of the electrodes due to the provision of the image recognition mark. Naturally, missing parts are also detected, so unnecessary wire bonding is not performed on the support plate where the semiconductor element is missing.

第2番目の発明の半導体素子では、画像認識用標識の平
面形状が円形又は略円形又は円環状となっているから、
回転方向に偏位した場合でも画像認識用標識を円形又は
円環状の画像として識別できる。従つ℃、半導体素子が
支持板に対して回転方向に曲って固定された場合でも高
速かつ「認識不可能jの少ない画像認識を行5ことがで
きる。
In the semiconductor device of the second invention, since the planar shape of the image recognition mark is circular, approximately circular, or annular,
Even when it is deviated in the rotational direction, the image recognition mark can be identified as a circular or annular image. Therefore, even when the semiconductor element is bent and fixed in the rotational direction with respect to the support plate, image recognition can be performed at high speed and with fewer unrecognizable images.

更に画1象認識用標識が金属電極の略中央部に配置さ7
−[ており、画像認識用標識の周囲の金属電極をリード
細線の接続部分として利用できる。したがって、リード
細線を画像認識用標識の両側に位置精度良く接続でき、
これらのリード細線及び半導体素子内の電流分布が良好
となp、許容通電電流値の増大が良好に達成できる。
Furthermore, a mark for image recognition is placed approximately in the center of the metal electrode7.
- The metal electrode around the image recognition mark can be used as a connection part for the thin lead wire. Therefore, the thin lead wires can be connected to both sides of the image recognition sign with high positional accuracy.
The current distribution in these thin lead wires and the semiconductor element is improved, and the allowable current value can be increased satisfactorily.

〔第1の実施例〕 次に、第1図〜第6図を参照して本発明の第1の実施例
に係わる整流素子及びその製造方法を説明する。
[First Embodiment] Next, a rectifying element and a method for manufacturing the same according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 6.

第2図に示すように、ダイオードテップ11は、n影領
域1とn影領域2とp影領域6とから成るシリコン半導
体基体4の一方の主面にアノード電極(第7の主電極)
5を有し、他方の主面にカソード電@!(第2の生′!
lL極)6を有する。アノード電極5及びカソード電極
6r/iいずれも略正四角形の平面形状を有しておシ、
それぞれ縁部を除い℃半導体基体4の一方の主面及び他
方の主面のほぼ全面に形成されている。アノード電極5
はアルミニウム電極から成っておシ、後述のようにリー
ド細線が接続される。カソード電極6はチタンとニッケ
ルの二層電極から成っており、支持板の一方の主面に固
着される。本実施例の従来例と異なる点は、アノード電
極5に画像認識用標識7が形成されていること、及び画
像認識用標R7の平面形状にある。画像認識用標識7は
、半導体基体4の一方の主面にアノード電極5を形成セ
ずに、半導体基体4の一方の主面を露出させた非電極部
分から成る。本実施例の画像認識用標識7は、アノード
電極5を真空蒸着によって全面に形成した後にエツチン
グ等でアノード電極5の一部を除去することによって形
成されている。第1図に示すように、画像認識用標識7
はアノード電極5のほぼ中央部、即ち半導体基体4のほ
ぼ中央部に形成されており、略円環状の平面形状を有す
る。但し、画像認識用標識7は完全に閉じた円環状パタ
ーンとはなっておらず、切欠領域を有する円環状パター
ンになっている。円環状パターンの切欠領域は了ノード
電極5の残存部8である。したがって、画像認識用標識
7はアノード電極5の残存部8で分断されている。アノ
ード電極5は画像認識用標識7の内[1111と外側と
の両方に形成されておシ、両者は残存部8で電気的に接
続されている。
As shown in FIG. 2, the diode tip 11 has an anode electrode (seventh main electrode) on one main surface of a silicon semiconductor substrate 4 consisting of an n-shade region 1, an n-shade region 2, and a p-shade region 6.
5, and a cathode electrode @! on the other main surface. (Second life'!
1L pole) 6. Both the anode electrode 5 and the cathode electrode 6r/i have a substantially square planar shape,
They are formed on almost the entire surface of one main surface and the other main surface of the semiconductor substrate 4, respectively, except for the edges. Anode electrode 5
consists of aluminum electrodes, to which thin lead wires are connected as described below. The cathode electrode 6 is made of a two-layer electrode made of titanium and nickel, and is fixed to one main surface of the support plate. This embodiment differs from the conventional example in that an image recognition mark 7 is formed on the anode electrode 5, and in the planar shape of the image recognition mark R7. The image recognition mark 7 consists of a non-electrode portion in which one main surface of the semiconductor substrate 4 is exposed, without forming the anode electrode 5 on the one main surface of the semiconductor substrate 4. The image recognition mark 7 of this embodiment is formed by forming the anode electrode 5 over the entire surface by vacuum deposition and then removing a part of the anode electrode 5 by etching or the like. As shown in FIG. 1, the image recognition sign 7
is formed approximately at the center of the anode electrode 5, that is, approximately at the center of the semiconductor substrate 4, and has a substantially annular planar shape. However, the image recognition mark 7 does not have a completely closed annular pattern, but has a notched area. The cutout area of the annular pattern is the remaining portion 8 of the end node electrode 5. Therefore, the image recognition mark 7 is divided by the remaining portion 8 of the anode electrode 5. The anode electrode 5 is formed on both the inside and outside of the image recognition mark 7, and the two are electrically connected through the remaining portion 8.

次に、この画像認識用標識7を用いてワイヤボンディン
グする方法を説明する。第6図は自動ワイヤボンディン
グの構成を概念的に示す。この自動ワイヤボンダは、ダ
イオードテップ11の固着された支持板9を載置するボ
ンディングステージ10と、照明装置12と、白黒TV
左カメラ6と、ボンディングツール14と、移動機構1
5と、画像読取装置16と、コンピュータ17とから成
る。
Next, a method of wire bonding using this image recognition mark 7 will be explained. FIG. 6 conceptually shows the configuration of automatic wire bonding. This automatic wire bonder includes a bonding stage 10 on which a support plate 9 to which a diode tip 11 is fixed, a lighting device 12, and a black and white TV.
Left camera 6, bonding tool 14, and moving mechanism 1
5, an image reading device 16, and a computer 17.

移動機構15は、照明装置12、カメラ13、ツール1
4を支持し、ステージ1oに相対的に移動自在であり、
周辺装置を伴っ℃いるコンピュータ17の制御によっ℃
目的位置へ移動する。
The moving mechanism 15 includes a lighting device 12, a camera 13, and a tool 1.
4 and is movable relative to the stage 1o,
By the control of a computer 17 with peripheral equipment
Move to the target position.

ワイヤボンディングを行うには、まず、第5図に示すよ
うに支持板9と外部リード24とがら成る七ンタタップ
型整流素子用のリードフレーム18を用意し、ダイオー
ドチップ11を支持板9上に固着する。次に、リードフ
レーム18をボンデイシダステージ100所定位置にセ
ットする。TV右カメラ3I′i、予めの設定にょ勺、
画像認識によシ決定すべき基準点を確実に含む第1図で
点線で囲んで示す領域20を写し出す。なお、第1図で
はダイオ−トチソゲ11が標準位置に対して縦、横及び
回転方向に偏位している場合を描いている。
To perform wire bonding, first, as shown in FIG. 5, a lead frame 18 for a seven-tap type rectifier consisting of a support plate 9 and external leads 24 is prepared, and the diode chip 11 is fixed on the support plate 9. . Next, the lead frame 18 is set at a predetermined position on the bondi fern stage 100. TV right camera 3I'i, preset settings,
An area 20 shown surrounded by a dotted line in FIG. 1 is projected, which definitely includes the reference point to be determined by image recognition. In addition, FIG. 1 depicts a case where the diode chisage 11 is deviated from the standard position in the vertical, horizontal, and rotational directions.

そしてこのアナログ画像データは、画像読取装置16に
おいて、A−D変戻されて256階調のディジタル画像
データに変換され、更に所定のしきい値によって2値化
されて2値化画像データとして画像読取装置16内のメ
モリに入方される。コンピュータ17には、第3図に示
すような標準バターフ21が比較用の2値化画像データ
として予め格納されている。コンピュータ17/riパ
ターンマツチングのための所定の手順に基づいて画像デ
ータの演算を行い、第1図の領域20の2値化画像(図
示は省略]の中から標準パターン21とほぼ合致する領
域22を見つけ出す(所定の合致率以上となる領域を見
出したとき、一致したものと見なす)。
This analog image data is then A-D converted back into 256-level digital image data in the image reading device 16, and is further binarized using a predetermined threshold value to produce an image as binarized image data. The data is stored in the memory within the reading device 16. A standard butterf 21 as shown in FIG. 3 is stored in advance in the computer 17 as binary image data for comparison. The computer 17/ri calculates the image data based on a predetermined procedure for pattern matching, and selects an area that almost matches the standard pattern 21 from the binarized image (not shown) of the area 20 in FIG. 22 (when a region with a predetermined matching rate or higher is found, it is considered a match).

第4図は、パターンマツチングしたと認識された領域2
2の2値化画像23を模式的に示すものである。半導体
基体4が露出して成る画像認識用標識7はほぼ確実に「
黒コ画素、アルミニウム電極から成る7ノード電極はほ
ぼ確実に「白」画素となるようにしきい値が決定されて
いる。画像認識用標識7が閉環状でないため、2値化画
像データ21と26の合致率はあまり高くならないが、
実用上問題[はならない。
Figure 4 shows area 2 recognized as pattern matching.
2 schematically shows a binarized image 23 of No. 2. The image recognition mark 7 formed by exposing the semiconductor substrate 4 is almost certainly "
The threshold value is determined so that the black pixel and the seven-node electrode consisting of the aluminum electrode almost certainly become a "white" pixel. Since the image recognition mark 7 is not in a closed ring shape, the match rate between the binarized image data 21 and 26 is not very high;
There should be no practical problem.

こうしてボンディングステージ上における基準点(例え
ば領域22の中心点ンの位置(X、Y座標]が正確に決
定される。基準点が決定されると、了ノード電極5の位
置が決定されたことになり、了ノード電極5中のボンデ
ィング位#(リード細線19を接続する位置)は、予め
設定しである基準点からの位置関係から相対的に算出及
び決定され、コンピュータ17のメモリにボンディング
位置データとして入力される。また、外部リード24へ
のボンディング位置け、決定された基準点の位置から相
対的に算出及び決定されコンピュータ17にボンディン
グ位置データとしてメモリされる。外ff1MJ−ド2
4へのボンディング位置は、支持板9に対するダイオー
ドチップ11の固着位置のバラツキの影#を受けて精度
が低い。しかし、外部リード24のポンディングパッド
は比較的大きい面積を有するので、ダイオードチップ1
1の位置ずれによる影響は無視できる程度である。もち
ろん、外部リード24のボンディング位置も画像認識で
決定するようにしてもよい。また、基準点の領域20か
らの位置ずれを算出し、外部リード24のボンディング
位置データを修正してもよい。このようにしてボンディ
ング位置が決定されたら、コンピュータ17はボンディ
ング位置のデータを参照しつつ所定のワイヤボンディン
グ動作を行う指令を出し、第5図に示すようにリード細
線19の一端をアノード電極5のほぼ中央、他端?外部
リード24のポンディングパッドに接続する。
In this way, the reference point (for example, the position (X, Y coordinates) of the center point of the region 22) on the bonding stage is accurately determined. Once the reference point is determined, the position of the final node electrode 5 is determined. The bonding position # (the position where the thin lead wire 19 is connected) in the completed node electrode 5 is calculated and determined relatively from the positional relationship from a preset reference point, and the bonding position data is stored in the memory of the computer 17. In addition, the bonding position to the external lead 24 is calculated and determined relative to the determined reference point position, and is stored in the computer 17 as bonding position data.
The accuracy of the bonding position to No. 4 is low due to the influence of the dispersion in the fixing position of the diode chip 11 to the support plate 9. However, since the bonding pad of the external lead 24 has a relatively large area, the diode chip 1
The influence of the positional deviation of 1 is negligible. Of course, the bonding position of the external lead 24 may also be determined by image recognition. Alternatively, the positional deviation of the reference point from the area 20 may be calculated and the bonding position data of the external lead 24 may be corrected. Once the bonding position is determined in this way, the computer 17 issues a command to perform a predetermined wire bonding operation while referring to the bonding position data, and connects one end of the thin lead wire 19 to the anode electrode 5 as shown in FIG. Almost in the center, on the other end? Connect to the bonding pad of the external lead 24.

本実施例は以下の効果を有する。This embodiment has the following effects.

(1)画像認識用標識7が円環状の平面形状となってい
るため、ダイオードチップ11が支持板9に対して回転
方向に偏位して固着された場合でも、画像認識用標識7
を円環状の画像としてとらえることができる。したがっ
て、画像認識用標識7の回転方向の偏位により工画像認
識が行えなくなる問題は解消されている。
(1) Since the image recognition mark 7 has an annular planar shape, even if the diode chip 11 is fixed to the support plate 9 with a deviation in the rotational direction, the image recognition mark 7
can be captured as a circular image. Therefore, the problem of inability to perform image recognition due to deviation of the image recognition mark 7 in the rotational direction is solved.

(2)画像認識用標識7がアノード電極5に形成されて
いるので、画像認識用標識7を設けたことによシダイオ
ードチツプ11が大型化することがない。
(2) Since the image recognition mark 7 is formed on the anode electrode 5, the diode chip 11 does not become larger due to the provision of the image recognition mark 7.

131  画像認識用標識7がアノード電極5を部分的
に形成しない領域から成るので、製造工程を煩雑化する
ことなく画像認識用標識7を設けることができる〇 (4) アノード電極5は画像認識用標識7の内側領域
と外側領域とを有し、2つの領域が残存部8を介して電
気的に接続されており、動領域が電極として良好に動作
する。したがって、アノード電極5の実働面積が大ぎく
、電流分布等の電気的特性が良好に得られる。例えば、
円形の画像認識用標識であっても、上記fi+の効果は
得られる。しかしながら、アノード電極5の面積が減少
するし、電気的特性が低下するから望ましくない。なお
、残存部8を形成しない場合であっても上記の2つの領
域はp影領域6を介して電気的に導通する。
131 Since the image recognition mark 7 consists of a region where the anode electrode 5 is not partially formed, the image recognition mark 7 can be provided without complicating the manufacturing process〇(4) The anode electrode 5 is used for image recognition It has an inner region and an outer region of the mark 7, the two regions are electrically connected via the residual part 8, and the dynamic region works well as an electrode. Therefore, the actual working area of the anode electrode 5 is large, and good electrical characteristics such as current distribution can be obtained. for example,
Even with a circular image recognition mark, the above fi+ effect can be obtained. However, this is not desirable because the area of the anode electrode 5 decreases and the electrical characteristics deteriorate. Note that even when the remaining portion 8 is not formed, the above two regions are electrically connected via the p shadow region 6.

しかしながら、良好な電気的特性を得るためには、残存
部8を設けるのが望ましい。
However, in order to obtain good electrical characteristics, it is desirable to provide the remaining portion 8.

(5)  ダイオードチップ11が欠落している支持板
9に対して不要なワイヤボンディングが行われることは
ない。
(5) Unnecessary wire bonding is not performed on the support plate 9 where the diode chip 11 is missing.

〔第2の実施例〕 次に、!71に〜第12図を8服して本発明の第2の実
施例に係わる整流素子及びその製造方法?説明する。
[Second Example] Next! 71 to 12, the rectifying element and manufacturing method thereof according to the second embodiment of the present invention? explain.

第8図に示すように、この実施例のダイオードチップ7
1は、シリコン半導体基体4と、アノード電I&!5と
、カソード電極6とを有する。アノード電極5は半導体
基体4の一方の主面の縁部を除いたほぼ全面に形成され
たアルミニウム電極から成る。カソード電極6は半導体
基体4の他方の主面の縁部を除いたけぼ全面に形成され
ておυ、チタンとニッケルの2層電極から成る。半導体
基体4けカソード電!6側から順にn影領域1と、n影
領域2と、p影領域3とから成る。
As shown in FIG. 8, the diode chip 7 of this embodiment
1 includes a silicon semiconductor substrate 4 and an anode electrode I&! 5 and a cathode electrode 6. The anode electrode 5 is made of an aluminum electrode formed on almost the entire surface of the semiconductor substrate 4 except for the edge of one main surface. The cathode electrode 6 is formed on the entire surface of the other main surface of the semiconductor substrate 4 except for the edge, and is made of a two-layer electrode made of titanium and nickel. Semiconductor-based 4-piece cathode voltage! It consists of an n shadow area 1, an n shadow area 2, and a p shadow area 3 in order from the 6th side.

アノード電極5には、本発明に基づく画像認識用標識7
が形成されている。第7図及び第8図から明らかなよう
に、画像認識用標識7は半導体基体4の一方の主面にア
ノード電極5が部分的に形成されなかった非電他領域で
あジ、半導体基体4の表面が円形状に露出した部分であ
る。本実施例では、アノード電極5を真空蒸着で形成す
る際に、rlt定パターンのマスクを用いて画像認識用
標識7に対応する領域に真空蒸着を施さないことによっ
て画像認識用標識7を形成した。しかし、画像認識用標
識7はアノード電極5を半導体基体4の一方の主面の全
体に形成した後に、アノード電極5の一部をエツチング
等で部分的に除去して形成してもよい。
The anode electrode 5 has an image recognition label 7 based on the present invention.
is formed. As is clear from FIGS. 7 and 8, the image recognition mark 7 is a non-electronic region where the anode electrode 5 is not partially formed on one main surface of the semiconductor substrate 4. This is the exposed circular part of the surface. In this example, when forming the anode electrode 5 by vacuum deposition, the image recognition mark 7 was formed by using a mask with an RLT constant pattern and not performing vacuum deposition on the area corresponding to the image recognition mark 7. . However, the image recognition mark 7 may be formed by forming the anode electrode 5 on the entire one principal surface of the semiconductor substrate 4 and then partially removing a portion of the anode electrode 5 by etching or the like.

次に、画像認識用標識7を用いてワイヤボンディングす
る方法について説明する。
Next, a method of wire bonding using the image recognition mark 7 will be explained.

自動ワイヤボンダは、第1の実施例と同様に第6図に示
すものを使用する。ワイヤボンディングを行う際には、
第8図に示すダイオードチップ11が第11図の支持板
9の上に固着されたリードフレーム(但し、リード細線
19a、19bの接続されていないもの)18を第6囚
のボンディングステージ10の所定位置にセットする。
The automatic wire bonder shown in FIG. 6 is used as in the first embodiment. When performing wire bonding,
The diode chip 11 shown in FIG. 8 is fixed onto the support plate 9 shown in FIG. set in position.

TV右カメラ3は予めの設定により、画像認識によって
決定すべき基準点を確実に含む第7図で点線で囲んで示
す領域20を写し出す。次にこのアナログ画像データを
画像読取装置16でアナログ−ディジタル変換して25
6階調のディジタル画像データとじ、更に所定のしきい
値によって2値化して2値化画像データとして画像読取
装置16内のメモリに入力される。
By setting in advance, the TV right camera 3 images an area 20 surrounded by a dotted line in FIG. 7, which reliably includes the reference point to be determined by image recognition. Next, this analog image data is converted from analog to digital by the image reading device 16 and converted to 25
The six-gradation digital image data is combined, further binarized using a predetermined threshold value, and input to the memory in the image reading device 16 as binarized image data.

第9図は領域20の2値化画像26を模式的に示すもの
である。半導体基体4が露出して成る画像認識用標識7
は、はぼ確実に[黒J画素、アルばニウム電極から成る
アノード電極5はほぼ確実に「白」画素となるようにし
きい値が設定されている。コンピュータ17には、第1
0図に示すような標準パターン21が比較用の2値化画
像データとして予め設定されている。コンピュータ17
はパターンマツチングのための所定の手順に基づいて画
像データの演算を行い、第9図の2値化画1象26の中
から標準パターン21と合致する領域22を見つけ出す
(所定の合致率以上となる領域を見出したとき一致した
ものと見なす〕。こうして、ボンディングヌテージ上に
おける基準点(例えば領域22の中心点)の位置(X、
Y座標)が正確に決定される。
FIG. 9 schematically shows the binarized image 26 of the region 20. Image recognition mark 7 formed by exposing semiconductor substrate 4
The threshold value is set so that the black J pixel is almost certainly a "white" pixel, and the anode electrode 5 made of an aluminum electrode is almost certainly a "white" pixel. The computer 17 has a first
A standard pattern 21 as shown in FIG. 0 is set in advance as binary image data for comparison. computer 17
calculates the image data based on a predetermined procedure for pattern matching, and finds an area 22 that matches the standard pattern 21 from the binarized image 1 image 26 in FIG. When a region is found where
Y coordinate) is accurately determined.

基準点が決定されるとアノード電極5の位置が決定され
たことになシ、了ノード電極5中のボンディング位置(
リード細線19a、19bの接続される部分)は、予め
設定しである基準点からの位置関係から相対的に算出及
び決定され、コンピュータ17のメモリにボンディング
位置データとして入力される。また、外部リード24へ
のボンディング位置は決定された基準点の位置から相対
的に算出及び決定され、コンピユータ17FCボアデイ
ング位置データとしてメモリされる。外部リード24へ
のボンディング位置は支持板9に対するダイオードチッ
プ11の固着位置のバラツキの影響を受けて精度が低い
。しかし、外部リード24のポンディングパッドは比較
的大きい面積を有するので、ダイオードテップ11の位
置す11は無視できる程度である。もちろん、外部リー
ド24のボンディング位置も画像認識で決定するように
してもよい。′また、基準点の領域2o内でのずれを算
出して、外部リード24のボンディング位置データを修
正してもよい。このようにして、ボンディング位置が決
定したら、コンピュータ17tj:ボンディング位置の
データを参照しつつ所定のワイヤボンディング動作を行
う指令を出し、第11図に示すように、リード細線19
a、19bの一端をダイオードチップ11に、他端を外
部リード′24に接続する。ダイオードチップ11のア
ノード電極5には2本のリード細@19a、19bが接
続される。リード細線19a、19bの接続部は画像認
識用標R7を挾んで両側に位置する。
Once the reference point is determined, the position of the anode electrode 5 is determined, and the bonding position (
The connecting portions of the thin lead wires 19a and 19b) are relatively calculated and determined based on the positional relationship from a preset reference point, and are input into the memory of the computer 17 as bonding position data. Further, the bonding position to the external lead 24 is calculated and determined relatively from the position of the determined reference point, and is stored in the computer 17 as FC boring position data. The accuracy of the bonding position to the external lead 24 is low due to the influence of variations in the position where the diode chip 11 is fixed to the support plate 9. However, since the bonding pad of the external lead 24 has a relatively large area, the position 11 of the diode tip 11 is negligible. Of course, the bonding position of the external lead 24 may also be determined by image recognition. 'Furthermore, the bonding position data of the external lead 24 may be corrected by calculating the deviation of the reference point within the region 2o. When the bonding position is determined in this way, the computer 17tj issues a command to perform a predetermined wire bonding operation while referring to the bonding position data, and as shown in FIG.
One end of a, 19b is connected to the diode chip 11, and the other end is connected to an external lead '24. Two lead wires 19a and 19b are connected to the anode electrode 5 of the diode chip 11. The connecting portions of the thin lead wires 19a and 19b are located on both sides of the image recognition mark R7.

本実施例は以下の効果を有する。This embodiment has the following effects.

(11画像認識用標R7が円形状となっているため、ダ
イオードテップ11が回転方向に曲って支持板9に固着
された場合であっても、画像認識用標識7を円形状の画
像としてとらえることができる。したがって、従来のよ
うにダイオードチップ11の回転方向への偏位によって
画gl認識が困難となる問題は解消されている。
(11 Since the image recognition mark R7 is circular, even if the diode tip 11 is bent in the rotation direction and fixed to the support plate 9, the image recognition mark 7 can be recognized as a circular image. Therefore, the conventional problem of difficulty in recognizing the image GL due to deviation of the diode chip 11 in the rotational direction is solved.

(2) 2本のリード細#19a、19bが画像認識用
標識7を挾んで両側に位置精度良く接続されているから
、リード細AjJ19a、19b及びダイオードチップ
11内の電流分布等が良好に得られ、リード細If#を
2本にして許容電流値を向上させるという目的を確実に
達成できる。
(2) Since the two lead wires #19a and 19b are connected to both sides of the image recognition mark 7 with good positional accuracy, the current distribution in the lead wires AjJ19a and 19b and the diode chip 11 can be obtained satisfactorily. Therefore, the purpose of increasing the allowable current value by reducing the number of thin leads If# to two can be reliably achieved.

(31ダイオードテップ11の欠落している支持板9に
不要なワイヤボンディングが行われることがない。
(Unnecessary wire bonding is not performed on the support plate 9 where the 31 diode tip 11 is missing.

[変形例] 本発明は上述の実施例に限定されるものでなく、例えば
次の変形が可能なものである。
[Modifications] The present invention is not limited to the above-described embodiments, and, for example, the following modifications are possible.

(1)  第1の実施例において、リード細a19をア
ノード電極5の画像認識用標識7よジも外側の@域に接
続してもよい。この場合、電気的特性を良好にするため
にリード細線19を左右に2本接続するのがよい。
(1) In the first embodiment, the lead thin a19 may be connected to the @ region outside the image recognition mark 7 of the anode electrode 5. In this case, in order to improve the electrical characteristics, it is preferable to connect two thin lead wires 19 on the left and right sides.

(2)  第1の実施例において、画像認識用標識7と
残存部8の割合は任意に設定できるが、良好な画1象認
識を行うためには画像認識用標識7の面積を残存部8の
面積の1.5倍望ましくは4倍以上とするのが良い。
(2) In the first embodiment, the ratio of the image recognition mark 7 to the remaining part 8 can be set arbitrarily, but in order to perform good image recognition, the area of the image recognition mark 7 must be set to the remaining part 8. The area is preferably 1.5 times, preferably 4 times or more, the area of .

+31 1ihl像認識用m識7の位置は、アノード電
極5の中央部に設けるのが一般的であるが、必ずしもそ
の必要はない。第1の実施例で画像認識用標識7をアノ
ード電極5の一刀の側に片寄せて形成したときは、円環
状の画像認識用11.1ll17の内側(円環内ンにワ
イヤボンディング位置を設定すればよい。
+31 The position of the 1IHL image recognition m-sensor 7 is generally provided at the center of the anode electrode 5, but this is not always necessary. In the first embodiment, when the image recognition mark 7 is formed to be biased toward the one side of the anode electrode 5, the wire bonding position is set inside the annular image recognition 11.1ll17 (inside the annular ring). do it.

(41第2の実施例において、画像認識用標識7は平面
形状が完全に円形でなくてもよい。第12図に示す画像
認識用tlA識7はアノード電極5によって4つの分断
されている。このような画像認識用標R7であっても、
合致率を低めに設定して画像認Rを行うことにより実用
上問題のないワイヤボンディングが可能である。また、
画像認識用標識7は円環状でもよく、完全に円環状でな
くてもよい。
(41 In the second embodiment, the image recognition mark 7 does not have to have a completely circular planar shape. The image recognition mark 7 shown in FIG. 12 is divided into four parts by the anode electrode 5. Even with such an image recognition target R7,
By setting the matching rate to a low value and performing image recognition R, it is possible to perform wire bonding without any practical problems. Also,
The image recognition mark 7 may be annular, or may not be completely annular.

(511ili像M織用標識7をアノード電極5の上面
にシリコン酸化膜、ポリイミド樹脂等で形成してもよい
(511ili image M weave marking 7 may be formed on the upper surface of the anode electrode 5 using a silicon oxide film, polyimide resin, etc.).

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

上述のように、本発明の手導体素子によれば画像認識機
能を有するワイヤボンダを使用したワイヤボンディング
を良好に行うことができる。
As described above, according to the hand conductor element of the present invention, wire bonding using a wire bonder having an image recognition function can be performed satisfactorily.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の第1の実施例のダイオードチップと画
像認識との関係を示す平面図、第2図は81図のJJ−
n線断面図、 第3図は標準パターンを模式的に示す平面図、第4図は
画像認識のパターンを模式的に示す平面図、 第5図は第1図の整流素子を得るためにダイオードチッ
プをリードフレームに取シ付けた状態を示す平面図、 第6図は自動ワイヤボンダを原理的に示す正面図、 第7図は第2の実施例のダイオードチップを示す平面囚
、 第8図は第7図ノVIli−11118断面図、第9図
は第2の実施例における画像認識パターンを模式的に示
す平面図、 第10図は第2の実施例の檄準パターンを模式%式% 第11図は第7図のダイオードチップを装着したリード
フレームを示す平面図、 第12図は画像認識用標識の変形例を示す平面図である
。 4・・・半導体基体、5・・アノード電極、6・・・カ
ンード電極、7・・・画像認識用a識、8・・・残存部
、9・・・支持板、19・・リード細線。 代  理  人   高  野  則  次第3図 第4図 第5図 第1図 第2図 第6図 第9図 第10図 第11図
FIG. 1 is a plan view showing the relationship between the diode chip of the first embodiment of the present invention and image recognition, and FIG.
3 is a plan view schematically showing a standard pattern, FIG. 4 is a plan view schematically showing an image recognition pattern, and FIG. FIG. 6 is a front view showing the principle of the automatic wire bonder; FIG. 7 is a plan view showing the diode chip of the second embodiment; FIG. FIG. 7 is a cross-sectional view of VIli-11118, FIG. 9 is a plan view schematically showing the image recognition pattern in the second embodiment, and FIG. 10 is a schematic diagram showing the hypothetical pattern of the second embodiment. FIG. 11 is a plan view showing a lead frame equipped with the diode chip shown in FIG. 7, and FIG. 12 is a plan view showing a modification of the image recognition mark. 4... Semiconductor substrate, 5... Anode electrode, 6... Cando electrode, 7... A identification for image recognition, 8... Remaining part, 9... Support plate, 19... Lead thin wire. Agent Nori Takano Figure 3 Figure 4 Figure 5 Figure 1 Figure 2 Figure 6 Figure 9 Figure 10 Figure 11

Claims (1)

【特許請求の範囲】 [1]半導体基体の一方の主面にリード細線を接続する
ための金属電極が形成されており、該金属電極が画像認
識用標識を備えており、該画像認識用標識は平面的に見
て円環状パターン又は切欠領域を有する略円環状パター
ンに形成されており、前記金属電極は平面的に見て前記
画像認識用標識の内側と外側との両方に設けられている
ことを特徴とする半導体素子。 [2]半導体基体の一方の主面に金属電極が形成されて
おり、前記金属電極が画像認識用標識を備えており、前
記画像認識用標識は前記金属電極の中央部に位置すると
ともに円形又は略円形又は略円環状の平面形状を有して
おり、前記金属電極の前記画像認識用標識の一方の外側
部分と他方の外側部分とがリード細線の接続領域とされ
ていることを特徴とする半導体素子。
[Scope of Claims] [1] A metal electrode for connecting a thin lead wire is formed on one main surface of a semiconductor substrate, and the metal electrode is provided with an image recognition mark, and the image recognition mark is provided with an image recognition mark. is formed into an annular pattern or a substantially annular pattern having a cutout area when viewed from above, and the metal electrode is provided both inside and outside of the image recognition mark when viewed from above. A semiconductor device characterized by: [2] A metal electrode is formed on one main surface of the semiconductor substrate, and the metal electrode is provided with an image recognition mark, and the image recognition mark is located in the center of the metal electrode and has a circular or circular shape. It has a substantially circular or annular planar shape, and is characterized in that one outer portion and the other outer portion of the image recognition mark of the metal electrode are used as connection areas for thin lead wires. semiconductor element.
JP1005581A 1989-01-12 1989-01-12 Semiconductor element Granted JPH02185049A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1005581A JPH02185049A (en) 1989-01-12 1989-01-12 Semiconductor element

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1005581A JPH02185049A (en) 1989-01-12 1989-01-12 Semiconductor element

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02185049A true JPH02185049A (en) 1990-07-19
JPH0563098B2 JPH0563098B2 (en) 1993-09-09

Family

ID=11615204

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1005581A Granted JPH02185049A (en) 1989-01-12 1989-01-12 Semiconductor element

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02185049A (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015204375A (en) 2014-04-14 2015-11-16 株式会社ジェイテクト semiconductor device
JP2015204374A (en) 2014-04-14 2015-11-16 株式会社ジェイテクト semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0563098B2 (en) 1993-09-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6729528B2 (en) Recognition device, bonding device, and method of manufacturing a circuit device
JPH02185049A (en) Semiconductor element
US20050001299A1 (en) Substrate for semiconductor package wire bonding method using thereof
JP2001298036A (en) Methods and devices for measuring height and position of bump, and manufacturing and packaging methods of semiconductor device
JPH03105937A (en) Semiconductor device
US7247522B2 (en) Semiconductor device
JP2871696B2 (en) Integrated circuit device
JPH0770551B2 (en) Method for confirming die bonding position of semiconductor chip
JP2982794B1 (en) Semiconductor device
JP2003179193A (en) Lead frame and manufacturing method thereof, resin- sealed semiconductor device and manufacturing and inspection methods thereof
JP3070145B2 (en) Semiconductor device
JPH0810187Y2 (en) Die bonding machine
JPH0713232Y2 (en) Sardip type semiconductor device
US20240136302A1 (en) Method of manufacturing semiconductor device
JPH03129862A (en) Glass sealed type semiconductor device
JPH05206197A (en) Method of detecting center position of wire bonding section
JPS5867033A (en) Wire bonding method
JPS5898995A (en) Photosemiconductor device
JPS642442Y2 (en)
KR830001955B1 (en) Wire bonding equipment
JPH08316259A (en) Method and apparatus for wire bonding of semiconductor product
JPH085826Y2 (en) IC card module substrate
JPS5851526A (en) Semiconductor element pellet and semiconductor device with said pellet
JPS59210648A (en) Wire bonding method of semiconductor
JPS6169142A (en) Wire-bonding device