JPH02178601A - Optical glass - Google Patents

Optical glass

Info

Publication number
JPH02178601A
JPH02178601A JP63334883A JP33488388A JPH02178601A JP H02178601 A JPH02178601 A JP H02178601A JP 63334883 A JP63334883 A JP 63334883A JP 33488388 A JP33488388 A JP 33488388A JP H02178601 A JPH02178601 A JP H02178601A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass
optical glass
zro2
specified
thickness
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63334883A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kaori Fukute
福手 香里
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Techno Glass Co Ltd
Original Assignee
Toshiba Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Glass Co Ltd filed Critical Toshiba Glass Co Ltd
Priority to JP63334883A priority Critical patent/JPH02178601A/en
Publication of JPH02178601A publication Critical patent/JPH02178601A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain optical glass prevented from generation of weathering by covering a whole surface of glass with a covering film having a specified thickness and being constituted of a specified wt.% of SiO2 and specified wt.% of at least one kind selected from a group consisting of Al2O3, TiO2, ZrO2 and CeO2. CONSTITUTION:A covering film having 20-200nm thickness constituted of >=80wt.% SiO2 and 0-20wt.% at least one kind selected from Al2O3, TiO2, ZrO2 and CeO2 is covered on the whole surface of glass. For example, a dipping soln. is prepd. by mixing a monomer or polymer of tetraethoxy silane is a mixed solvent of alcohol or in benzene, etc., and admixing 2wt.%(based on the amt. of the tetraethoxy silane in the liquid mixture) tetraisopropoxy zirconium therewith. An opposed corner 2 of optical glass 1 as a material for a rectangular filter is put between a jig 3 and the glass is dipped in the dipping soln. The glass is then pulled up at 15cm/min velocity, dried, and calcined for 30min at 500 deg.C. Thus, the weather resistance and transmissivity of the glass are improved.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明はガラスの耐候性を改善するのに好適する。[Detailed description of the invention] [Purpose of the invention] (Industrial application field) The present invention is suitable for improving the weather resistance of glass.

(従来の技術) ガラスの化学的性質は実用上の見地からガラスの化学的
耐久性と見なしてもほとんど誤りがないと言われており
、また、利用される分野から実用ガラスや理化学用ガラ
スに分類されている。
(Prior art) It is said that there is almost no error in considering the chemical properties of glass as the chemical durability of glass from a practical standpoint. Classified.

このようなガラスでは長期間大気にざらされていると、
表面にいわゆるウェザリング(Weathering)
と言われている変質が起こる。特に、光学用ガラスの中
には耐候性の悪い材質もあり、長期間使用中に本来の目
的や機能を損なう表面変質が起り易いものもある。例え
ば、カラーV、T R用カメラに適用する搬像半導体素
子では、赤外域成分を吸収するフィルターを使用するが
、これにはリン酸塩系成分をベースとしたガラスが一般
的である。
If this kind of glass is exposed to the atmosphere for a long time,
So-called weathering on the surface
The transformation that is said to occur occurs. In particular, some optical glasses have poor weather resistance, and some are susceptible to surface deterioration that impairs their original purpose and function during long-term use. For example, in image carrier semiconductor devices applied to color V and TR cameras, a filter that absorbs infrared components is used, and glass based on phosphate components is generally used for this.

このリン酸塩系ガラスは、化学的耐久性が悪く、ウェザ
リングを生じ易く、フィルターとしての機能を十分に果
たすことができなくなる。
This phosphate-based glass has poor chemical durability, tends to cause weathering, and cannot function as a filter satisfactorily.

このウェザリングは、別名臼ヤケともいい、ガラス成分
とガラス表面に付着した大気中の水との反応により発生
するガラスの変質風化現象である。
This weathering, also known as mortar tan, is a weathering phenomenon that occurs due to the reaction between glass components and atmospheric water adhering to the glass surface.

このウェザリングの解決策としては、 ←)カバーガラス:フィルターの両面にカバーガラスを
貼り付けて表面が 空気にさらさないようにす る。
The solution to this weathering is: ←) Cover glass: Attach cover glasses to both sides of the filter to prevent the surface from being exposed to the air.

(ロ)S ! 02蒸着:フィルター表面にS ! 0
2膜を真空蒸着法により被覆 して保護層を形成する。が 採られている。
(b)S! 02 vapor deposition: S on the filter surface! 0
A protective layer is formed by coating the two films by vacuum evaporation. is taken.

後者のSiO2蒸着方法には、大量生産方式によるプラ
ネタリュウム方式も採用されており、この場合には真空
雰囲気に配置した回転体表面に係止した光学ガラスに、
回転体の周囲の配置した蒸発源から蒸発物が蒸着して保
護層を形成する。従って、係止用部品により光学ガラス
の一部には、蒸着されない部分ができるし、−個の光学
ガラスに蒸着する時も同様である。
The latter SiO2 vapor deposition method also uses a planetarium method based on mass production, in which case optical glass is attached to the surface of a rotating body placed in a vacuum atmosphere.
Evaporated matter is deposited from an evaporation source placed around the rotating body to form a protective layer. Therefore, a part of the optical glass is not deposited due to the locking component, and the same is true when depositing on - pieces of optical glass.

(発明が解決しようとする課題) イの方法では、封着剤の使用や溶剤の揮発により汚れが
発生するために、可視波長の低下などの難点がある。
(Problems to be Solved by the Invention) Method A has drawbacks such as a decrease in visible wavelengths due to the use of a sealant and the volatilization of a solvent, which generates stains.

また、S!Ozを真空蒸着法で被膜する(口)の方法で
は、表裏二面を被覆してもまわりの被覆されない部分か
らウェザリングされる欠点がある。
Also, S! The method described above in which Oz is coated by vacuum evaporation has the drawback that even if both the front and back surfaces are coated, weathering occurs from surrounding uncoated areas.

本発明は、このような事情を考慮してなされたもので、
5102膜及び特殊成分を含む保護層を被覆することに
より、ガラスと大気の接触を遮断してウェザリングの発
生を防止し、光学ガラスの特性を長期間安定に維持する
ことを目的とする。
The present invention was made in consideration of such circumstances, and
By coating the glass with a protective layer containing the 5102 film and a special component, the objective is to block contact between the glass and the atmosphere, prevent weathering, and maintain the properties of optical glass stably for a long period of time.

L発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明は、S ! 0280重量%以上と、M1203
゜T ! 02 、ZrO2、CeO2からなる群から
選定した少なくとも一種をO〜20重間%で構成する厚
ざ20藺〜200 tnnの被膜をガラス全面に被覆す
ることに特徴がある。
L Configuration of the Invention] (Means for Solving the Problems) The present invention provides S! 0280% by weight or more and M1203
゜T! The present invention is characterized in that the entire surface of the glass is coated with a film having a thickness of 20 to 200 tnn and comprising at least one selected from the group consisting of ZrO2, ZrO2, and CeO2 in an amount of O to 20% by weight.

(作 用) 数値限定の根拠として下記の表−1を提出する。(for production) Table 1 below is submitted as the basis for numerical limitations.

(以下余白) 表−1 このようにM1203.TiO2,ZrO2゜Ce0z
のいずれかをS!02に混入して光学ガラスに被覆する
と、上記高温高湿テスト後の透過率が他の場合に比べて
良好な値を示しており、その含有率が20wt%を越え
ると、透過率が低下して率が他の場合に比べて良好な値
を示しており、その含有率が20wt%を越えると、透
過率が低下して光学ガラス特性として好ましくない。
(Left below) Table 1 M1203. TiO2, ZrO2゜Ce0z
S! When mixed with 02 and coated on optical glass, the transmittance after the above-mentioned high temperature and high humidity test showed a better value than in other cases, and when the content exceeds 20 wt%, the transmittance decreases. When the content exceeds 20 wt%, the transmittance decreases, which is not preferable for optical glass properties.

従って、本発明では、S!02を80wt%以上、14
11203、T iO2,ZrO2、Ce0zのいずれ
かは20wt%以下とし、厚さは、20nlllより薄
いと化学的耐久性の改善に十分な効果が得られず、20
0nmを越える厚さでは膜に亀裂が入り望ましくない。
Therefore, in the present invention, S! 02 at 80wt% or more, 14
11203, TiO2, ZrO2, and Ce0z should be 20wt% or less, and if the thickness is less than 20nllll, a sufficient effect in improving chemical durability cannot be obtained;
If the thickness exceeds 0 nm, cracks will occur in the film, which is undesirable.

このような背景から本発明では、保護膜の成分と含有量
更に、その厚さを上記のように限定する。
From this background, in the present invention, the components and content of the protective film, as well as its thickness, are limited as described above.

(実施例) 第1図乃至第5図を参照して本発明に係わる実施例を説
明する。即ち、ゾルゲル法を利用するディッピング(D
ippina)法により保護膜を光学ガラスに被覆する
例について説明する。ディッピング液としては、テトラ
エトキシシランのモノマーまたはポリマーを、アルコー
ル、酢酸エチル、酢酸メチルなどの混合溶媒やベンゼン
などに混合する。
(Example) An example according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 5. That is, dipping (D
An example of coating optical glass with a protective film using the ippina method will be described. As the dipping liquid, a monomer or polymer of tetraethoxysilane is mixed with a mixed solvent such as alcohol, ethyl acetate, methyl acetate, or benzene.

この混合液中のテトラエトキシシラン世に対して2重量
%のテトラ−イソ−プロポキシ−ジルコニュウムを混ぜ
てデイツプ液を調合する。
A dip solution is prepared by mixing 2% by weight of tetra-iso-propoxy-zirconium with respect to the tetraethoxysilane in this mixed solution.

次に第1図に示すように、直方体状フィルターとなる光
学ガラス1の対向角2を適当な治具3により挟んで適当
な容器(図示せず)に充填したデイツプ液4に浸漬する
。次に、15Cm/分の速度で引上げ、150℃10分
間乾燥後、更に、500’Cで30分間焼成する。なお
、画然処理工程は大気中で行う。
Next, as shown in FIG. 1, the opposing angles 2 of the optical glass 1, which will become a rectangular parallelepiped filter, are held between suitable jigs 3 and immersed in a dip liquid 4 filled in a suitable container (not shown). Next, it was pulled up at a rate of 15 cm/min, dried at 150°C for 10 minutes, and then fired at 500'C for 30 minutes. Incidentally, the Gaden treatment step is performed in the atmosphere.

この結果、ZrO2を含有した透明で膜強度が強いS!
02保護膜100nmが光学ガラス全面に被覆され、そ
の耐候性が向上する。
As a result, S! contains ZrO2 and is transparent and has strong film strength.
The entire surface of the optical glass is coated with a 100 nm thick 02 protective film, improving its weather resistance.

ココテ、適用可能なM1202 、TiO2゜ZrO2
、Ce0zのアルコラードを記載する。
Kokote, applicable M1202, TiO2゜ZrO2
, describes the alcorado of Ce0z.

即ち、MhoS用に、トリエトキシアルミニュウム、ト
リーミープロポキシアルミニュウム及びトリーn−ブト
キシアルミニュウム T ! 02用に、テトラエトキシチタニュウム、テト
ラ−1−プロボキシチタニュウム及びテトラ−n−プト
キシチタニュウム Z r 02用に、テトラエトキシジルコニュウム、テ
トラ−1−プロポキシジルコニュウム及びテトラ−n−
ブトキシジルコニュウム CeO2用に、トリエトキシセリュウム、トリープロポ
キシセリュウム及びトリーn−ブトキシセリュウム があり、夫々により形成するデイツプ液は上記実施例と
同様に形成すれば良い。
That is, triethoxyaluminum, triamy propoxyaluminum and tri-n-butoxyaluminum T! for MhoS. For 02, tetraethoxytitanium, tetra-1-proboxytitanium and tetra-n-poxytitanium Z r For 02, tetraethoxyzirconium, tetra-1-propoxyzirconium and tetra-n-
For butoxyzirconium CeO2, there are triethoxycerium, tripropoxycerium, and tri-n-butoxycerium, and the dip liquid formed from each of them may be formed in the same manner as in the above embodiment.

このような保護膜を被覆できるのは、フィルターとして
利用する光学ガラスの他に例えば、光学用ガラスと同じ
くリン酸塩系ガラスなどの機能性ガラスである線量計ガ
ラスも可能である。
In addition to optical glass used as a filter, such a protective film can also be applied to dosimeter glass, which is a functional glass such as phosphate glass as well as optical glass.

ところで、保護膜を形成するに当たって必要な引上げ速
度と膜厚の関係を、縦軸に膜厚(nm)、横軸に引上げ
速度(cm/分)を採って得られる曲線を第2図に示し
た。この図から明らかなように引上げ速度の増大に伴っ
て付着量も増しており、上記15cm/分の引上げ速度
では、はぼ70〜80nmの膜厚が得られる。
By the way, Figure 2 shows a curve obtained by plotting the film thickness (nm) on the vertical axis and the pulling speed (cm/min) on the horizontal axis, showing the relationship between the pulling speed and film thickness required for forming a protective film. Ta. As is clear from this figure, the amount of adhesion increases as the pulling speed increases, and at the above-mentioned pulling speed of 15 cm/min, a film thickness of about 70 to 80 nm can be obtained.

また、保護膜を被覆したガラスの分光透過率が保護膜が
ないガラス即ちフィルターガラス基板に比べて500n
mで2.5%向上していることが、縦軸に透過率%横軸
に波長(nm)を採った第3図に示されている。
In addition, the spectral transmittance of glass coated with a protective film is 500n compared to glass without a protective film, that is, a filter glass substrate.
Figure 3 shows that the vertical axis shows the transmittance % and the horizontal axis shows the wavelength (nm).

更に、第4図では、縦軸に最高透過率(%)、横軸に波
長(nm)を採っており、この測定は、60℃湿度90
%の条件で500tlr耐候性試験を行った後、最高透
過率(%)が膜厚によりどのように変化かを示したもの
である。保護膜の膜厚が50nm程度となると透過率は
ほぼ飽和することが明らかにされている。
Furthermore, in Figure 4, the vertical axis shows the maximum transmittance (%) and the horizontal axis shows the wavelength (nm).
This figure shows how the maximum transmittance (%) changes depending on the film thickness after a 500 tlr weather resistance test was conducted under the conditions of %. It has been revealed that the transmittance is almost saturated when the thickness of the protective film is about 50 nm.

更にまた、第5図は、実施例に示した方法でSiO保護
膜を1100n被覆し、被覆なしガラスと一緒に耐候性
試験を実施した結果の時間(横軸)と最高透過率(50
0nm縦軸)の変化を示したが、明らかに5fO2保護
膜を被覆したガラスが良好な値を得ている。このような
結果は、上記のような光学ガラスの他に線量計ガラスに
保護膜を被覆しても同様な結果が得られるのは勿論であ
る。この第5図に関連して表−2を示す。
Furthermore, FIG. 5 shows the time (horizontal axis) and the maximum transmittance (50 nm) of the results of a weather resistance test with an SiO protective film coated with 1100 nm using the method shown in the example and uncoated glass.
It is clear that the glass coated with the 5fO2 protective film obtained a good value. Of course, similar results can be obtained by coating the dosimeter glass with a protective film in addition to the optical glass described above. Table 2 is shown in relation to this FIG.

従来のカラーフィルター用ガラスは、60℃、湿度90
%の雰囲気中で、250Hr経過すると白ぐもりが発生
した。しかし、表−2にあるように3!(hの保護膜を
形成したものは、50011r以上変化がなく耐候性が
優れている。
Conventional glass for color filters is heated at 60°C and humidity at 90°C.
% atmosphere, white cloudiness occurred after 250 hours. However, as shown in Table-2, 3! (The product with the protective film h has excellent weather resistance with no change over 50011r.

[発明の効果] 本発明は、ガラスの全表面にデイプどフグ法によるゾル
ゲル法で保護膜を被覆したので次の効果がある。即ち、
耐候性、透過率の向上と、6面のガラス面に一回の被覆
工程で被覆でき、極めて簡単な工程ですむ利点がある。
[Effects of the Invention] The present invention has the following effects since the entire surface of the glass is coated with a protective film by the sol-gel method using the dip puffer method. That is,
It has the advantage of improving weather resistance and transmittance, and can coat six glass surfaces in a single coating process, making it an extremely simple process.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、ディッピング工程の概念図、第2図は、引上
げ速度と膜厚の関係を示す図、第3図は、被覆の無いガ
ラスとSiO2が被覆されたガラスの分光透過率を示す
図、第4図は、最高透過率と膜厚の関係を示した図、第
5図は、保護膜の有無による最高透過率と試験時間の関
係を示した図である。 1:光学ガラス  2:対向角 3:治具     4:デイツプ液 代理人 弁理士 大 胡 典 夫 第 4 図 菓5図 手続補正書(自船 1、事件の表示 昭和63年特許願第334883号 2、発明の名称 光学用ガラス 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 東芝硝子株式会社 代表者相原弘永 4、代理人 〒144 東京都大田区蒲田4丁目41番11号 第−津野田ビル 大胡特許事務所内 5、補正の対象 ■ 明細書の特許請求の範囲の欄 ■ 明細書の発明の詳細な説明の欄 6、補正の内容 ■ 明細書の特許請求の範囲を別紙のように訂正する。 ■−1明細書第3頁第13行記載の「イの方法」を「(
イ)の方法」に補正する。 ■−2明細書第3頁第14行記載の「可視波長の低下J
を「可視波長の透過率の低下」に補正する。 ■−3明細書第4頁第9行記載の[r tus jをF
nmjに補正する。 ■−4明細書第6頁第1行乃至第2行の記載を削除する
。 ■−5明細書第10頁第15行記載の16面」を「全面
」に補正する。 特許請求の範囲
Figure 1 is a conceptual diagram of the dipping process, Figure 2 is a diagram showing the relationship between pulling speed and film thickness, and Figure 3 is a diagram showing the spectral transmittance of uncoated glass and glass coated with SiO2. , FIG. 4 is a diagram showing the relationship between maximum transmittance and film thickness, and FIG. 5 is a diagram showing the relationship between maximum transmittance and test time depending on the presence or absence of a protective film. 1: Optical glass 2: Opposing angle 3: Jig 4: Dip liquid agent Patent attorney Norio Oko , Name of the invention: Optical glass 3, Relationship with the person making the amendment Patent applicant: Toshiba Glass Co., Ltd. Representative: Hironaga Aihara 4, Agent: Tsunoda Building, 4-41-11 Kamata, Ota-ku, Tokyo 144 Japan Within Ogo Patent Office 5, Subject of amendment ■ Claims column of the specification ■ Detailed explanation of the invention column 6 of the specification, Contents of amendment ■ Correct the claims of the specification as shown in the attached sheet ■-1 “Method A” described in page 3, line 13 of the specification is changed to “(
(b) method”. ■-2 “Decrease in visible wavelength J” described in page 3, line 14 of the specification
is corrected to "decreased transmittance of visible wavelengths". ■-3 [r tus j written in line 9 of page 4 of the specification]
Correct to nmj. (2)-4 The description in the first and second lines of page 6 of the specification is deleted. (1)-5 "16th page" written on page 10, line 15 of the specification is corrected to "full surface." Scope of claims

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] SiO80重量%以上と、Al_2O_3、TiO_2
、ZrO_2、CeO_2からなる群から選定した少な
くとも一種を0〜20重量%で構成する厚さ20μm〜
200μmの被膜をガラス全面に被覆することを特徴と
する光学用ガラス
SiO 80% by weight or more, Al_2O_3, TiO_2
, ZrO_2, and CeO_2 at a thickness of 20 μm or more, comprising 0 to 20% by weight of at least one selected from the group consisting of
Optical glass characterized by coating the entire surface of the glass with a 200 μm film.
JP63334883A 1988-12-28 1988-12-28 Optical glass Pending JPH02178601A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63334883A JPH02178601A (en) 1988-12-28 1988-12-28 Optical glass

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63334883A JPH02178601A (en) 1988-12-28 1988-12-28 Optical glass

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02178601A true JPH02178601A (en) 1990-07-11

Family

ID=18282292

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63334883A Pending JPH02178601A (en) 1988-12-28 1988-12-28 Optical glass

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02178601A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8652614B2 (en) 2009-06-26 2014-02-18 Asahi Glass Company, Limited Optical element and method for producing the same
WO2023248900A1 (en) * 2022-06-24 2023-12-28 Agc株式会社 Optical filter and imaging device
WO2023248908A1 (en) * 2022-06-24 2023-12-28 Agc株式会社 Optical filter and imaging device

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS50123354A (en) * 1974-03-14 1975-09-27
JPS5193922A (en) * 1975-02-17 1976-08-18 sio2 keisankabutsuhimakuno keiseihoho
JPS5614614A (en) * 1979-07-11 1981-02-12 Akio Chiba Screw
JPS57100940A (en) * 1980-12-10 1982-06-23 Asahi Glass Co Ltd Substrate coated with silicon oxide having high durability
JPS57100943A (en) * 1980-12-10 1982-06-23 Asahi Glass Co Ltd Substrate coated with silicon oxide having excellent durability
JPS57124301A (en) * 1981-01-27 1982-08-03 Asahi Glass Co Ltd Highly durable multilayered film containing silicon oxide film
JPS6151281A (en) * 1984-08-20 1986-03-13 Nippon Tsushin Kensetsu Kk Real time character recognizer
JPS6273202A (en) * 1985-09-27 1987-04-03 Hamamatsu Photonics Kk Production of thin optical film
WO1988009776A1 (en) * 1987-06-10 1988-12-15 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Förderung Der Angewand Process for manufacturing glasses possessing high resistance to fracture

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS50123354A (en) * 1974-03-14 1975-09-27
JPS5193922A (en) * 1975-02-17 1976-08-18 sio2 keisankabutsuhimakuno keiseihoho
JPS5614614A (en) * 1979-07-11 1981-02-12 Akio Chiba Screw
JPS57100940A (en) * 1980-12-10 1982-06-23 Asahi Glass Co Ltd Substrate coated with silicon oxide having high durability
JPS57100943A (en) * 1980-12-10 1982-06-23 Asahi Glass Co Ltd Substrate coated with silicon oxide having excellent durability
JPS57124301A (en) * 1981-01-27 1982-08-03 Asahi Glass Co Ltd Highly durable multilayered film containing silicon oxide film
JPS6151281A (en) * 1984-08-20 1986-03-13 Nippon Tsushin Kensetsu Kk Real time character recognizer
JPS6273202A (en) * 1985-09-27 1987-04-03 Hamamatsu Photonics Kk Production of thin optical film
WO1988009776A1 (en) * 1987-06-10 1988-12-15 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Förderung Der Angewand Process for manufacturing glasses possessing high resistance to fracture

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8652614B2 (en) 2009-06-26 2014-02-18 Asahi Glass Company, Limited Optical element and method for producing the same
WO2023248900A1 (en) * 2022-06-24 2023-12-28 Agc株式会社 Optical filter and imaging device
WO2023248908A1 (en) * 2022-06-24 2023-12-28 Agc株式会社 Optical filter and imaging device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7919145B2 (en) Silica films and method of production thereof
US4966812A (en) Sol-gel antireflective coating on plastics
US4929278A (en) Sol-gel antireflective coating on plastics
Brinker et al. Sol-gel derived antireflective coatings for silicon
US2366516A (en) Method for producing layers on solid objects
US2474061A (en) Method of producing thin microporous silica coatings having reflection reducing characteristics and the articles so coated
AU737747B2 (en) An inorganic polymer material based on tantalum oxide, notably with a high refractive index, mechanically resistant to abrasion, its method of manufacture, and optical material including this material
US20060286813A1 (en) Silica and silica-like films and method of production
US6180188B1 (en) Method for preparing a multilayer optical material with crosslinking-densifying by ultraviolet radiation
US4112142A (en) Method for the production of light-reflecting layers on a surface of a transparent glass article
JPH02178601A (en) Optical glass
JPS6135521B2 (en)
US2601124A (en) Solution for reducing light reflection
JPH06299091A (en) Reflection-preventive film-forming coating composition
US2482684A (en) Solutions of tetraalkylsilicates
US4363852A (en) Coated phosphate glass
Floch et al. Porous silica sol-gel coatings for Nd: glass high-power pulsed laser uses
JP3762108B2 (en) Antifogging and antireflection optical article
JPS63162549A (en) Glass having optical thin film formed thereon
JP2812121B2 (en) Optical article manufacturing method
US3421921A (en) Colored,transparent,durable titania films on glass
JPH02271935A (en) Optical glass element
US2634215A (en) Solutions of tetraalkylsilicates
JPH04238839A (en) Chemical liquid composition for flow-coating
JPS62195804A (en) Transparent insulating film and dipping solution for formingtransparent film