JPH0217702A - 電磁波を案内するミラーシステム - Google Patents
電磁波を案内するミラーシステムInfo
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- mirrors
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- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
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- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
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- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
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- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
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- G21K1/06—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0004—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed
- G02B19/0019—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having reflective surfaces only (e.g. louvre systems, systems with multiple planar reflectors)
- G02B19/0023—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having reflective surfaces only (e.g. louvre systems, systems with multiple planar reflectors) at least one surface having optical power
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0033—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
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- G—PHYSICS
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- G21K2201/06—Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電磁波（ＥＭ）を案内するミラーシステムに関
する。そのようなシステムの１つの応用はプラズマ物理
学の分野で、種々の目的（イオン化、加熱、密度または
安定性の測定等）で発生器からプラズマ機械へミリ波ま
たはサブミリ波を案内するため使用することができる。
する。そのようなシステムの１つの応用はプラズマ物理
学の分野で、種々の目的（イオン化、加熱、密度または
安定性の測定等）で発生器からプラズマ機械へミリ波ま
たはサブミリ波を案内するため使用することができる。
波長が３１より長いとき、一般に大型の波案内装置が使
用される。波の伝播をたとえば数十メートルに及ぶ長い
距離に亘って特定の伝播モードＴＥＯＩに維持すること
は可能である。
用される。波の伝播をたとえば数十メートルに及ぶ長い
距離に亘って特定の伝播モードＴＥＯＩに維持すること
は可能である。
短い波長に対して、ミラーシステムは、それらが大型で
あるにしても一層有利に使用されることが分かつている
。これはＥＭビームのエネルギ損失がビーム直径に無関
係である一方、ミラー間の距離は、回折によって生じた
最大損失に対してミラーの表面積とともに増大すること
に関連している。
あるにしても一層有利に使用されることが分かつている
。これはＥＭビームのエネルギ損失がビーム直径に無関
係である一方、ミラー間の距離は、回折によって生じた
最大損失に対してミラーの表面積とともに増大すること
に関連している。
第１図には従来公知の技術が示されている。そのような
システムは、１９８０年９月３日から１２日の間にイタ
リヤ国オルモで行われた、第２回ジヨイント・グルノー
プル中バレンナ国際シンポジウム議事録として刊行され
た、“プラズマによる高周波加熱用マイクロウェーブ管
の発展”と称するＧ、ファロン氏およびＧ、ムーリエ氏
の論文に記載されている。
システムは、１９８０年９月３日から１２日の間にイタ
リヤ国オルモで行われた、第２回ジヨイント・グルノー
プル中バレンナ国際シンポジウム議事録として刊行され
た、“プラズマによる高周波加熱用マイクロウェーブ管
の発展”と称するＧ、ファロン氏およびＧ、ムーリエ氏
の論文に記載されている。
そのようなシステムにおいて、楕円形を備えたミラーＥ
ｌ、Ｅ２・・が使用されている。連続した像がそれらの
共通軸線に沿って整合した楕円面内に形成される。
ｌ、Ｅ２・・が使用されている。連続した像がそれらの
共通軸線に沿って整合した楕円面内に形成される。
そのようなシステムはある観点からは満足であるが、ミ
ラーの楕円形のため製作が困難である。
ラーの楕円形のため製作が困難である。
同じ応用分野において、ＥＭ波の全体的伝播方向を変更
する必要があり、たとえば、ＥＭ波は発生器から垂直方
向に投射される一方、ＥＭ波を使用する箱体は発生器か
ら水平方向に配置されている。
する必要があり、たとえば、ＥＭ波は発生器から垂直方
向に投射される一方、ＥＭ波を使用する箱体は発生器か
ら水平方向に配置されている。
そのような場合、第２図に示すように、楕円形ミラーＭ
を使用し、ミラーＭはビームを偏倚しそれを異った方向
に再集中することができる。
を使用し、ミラーＭはビームを偏倚しそれを異った方向
に再集中することができる。
端を接して置かれた、この型のいくつかのミラーを使用
することができる。
することができる。
この解決方法は前記方法より簡単であるが、なおある不
便を有する。もしビームが円形断面であれば、ミラーの
形状は入射角αが大きくなるにつれて一層楕円形になる
。さらに、焦点距離は反射面と垂直面とでは同じでない
。平行ビームは、Ｒを曲率半径とするとき、反射面内に
おいてＲ／２ｃｏｓαの距離に収斂し、垂直面内におい
てはＲ／２の距離に収斂する。
便を有する。もしビームが円形断面であれば、ミラーの
形状は入射角αが大きくなるにつれて一層楕円形になる
。さらに、焦点距離は反射面と垂直面とでは同じでない
。平行ビームは、Ｒを曲率半径とするとき、反射面内に
おいてＲ／２ｃｏｓαの距離に収斂し、垂直面内におい
てはＲ／２の距離に収斂する。
ビームを距離ｆの一点に集中するため、それぞれ、反射
面内においてＲ１＝ ２ ｆ ／ ｃ ｏ ｓα、垂直
面内においてＲ−２【に等しい２つの曲率をもたなけれ
ばならない。
面内においてＲ１＝ ２ ｆ ／ ｃ ｏ ｓα、垂直
面内においてＲ−２【に等しい２つの曲率をもたなけれ
ばならない。
そのような２つの異なった曲率半径を備えたミラーを実
施する困難性は相当なもので、事態は楕円形ミラーに対
して大して改善されていない。
施する困難性は相当なもので、事態は楕円形ミラーに対
して大して改善されていない。
本発明の目的は、製作が容易で使用も容易なミラーシス
テムを提供することにより、これらの不便を解消するこ
とである。
テムを提供することにより、これらの不便を解消するこ
とである。
〔課題を解決するための手段および作用〕このため、本
発明は、円筒形の少なくとも３つの凹面ミラー（Ｍ１，
Ｍ２．Ｍ３・・）を備え、前記第１ミラー（Ｍ１）の凹
部は前記第２ミラー（Ｍ２）に向かって配置され、２つ
のミラー（Ｍ１，Ｍ２）の直線部分によって限定された
平面は互いに垂直であり、さらに第３ミラー（Ｍ３）の
凹部は前記第２ミラー（Ｍ２）に向かって配置され、２
つのミラー（Ｍ３．Ｍ２）の直線部分によって限定され
た平面は互いに垂直である（換言すれば、連続したミラ
ーはもつとも近いものに対して“横方向″に設置されて
いる。）ミラーシステムを提供する。
発明は、円筒形の少なくとも３つの凹面ミラー（Ｍ１，
Ｍ２．Ｍ３・・）を備え、前記第１ミラー（Ｍ１）の凹
部は前記第２ミラー（Ｍ２）に向かって配置され、２つ
のミラー（Ｍ１，Ｍ２）の直線部分によって限定された
平面は互いに垂直であり、さらに第３ミラー（Ｍ３）の
凹部は前記第２ミラー（Ｍ２）に向かって配置され、２
つのミラー（Ｍ３．Ｍ２）の直線部分によって限定され
た平面は互いに垂直である（換言すれば、連続したミラ
ーはもつとも近いものに対して“横方向″に設置されて
いる。）ミラーシステムを提供する。
定義において、用語“円筒形゛は厳密な幾何学的意味に
解すべきで、すなわち、直線母線を変位することにより
形成される面はつねに曲線の周りにそれ自体平行である
。曲線は円形とすることができ、その場合円筒は円形で
あるが、放物線（放物線筒）または楕円もしくは他の曲
線とすることもできる。
解すべきで、すなわち、直線母線を変位することにより
形成される面はつねに曲線の周りにそれ自体平行である
。曲線は円形とすることができ、その場合円筒は円形で
あるが、放物線（放物線筒）または楕円もしくは他の曲
線とすることもできる。
個々のミラーの独立性は、それぞれにシステムの単一の
所要の焦点距離を得るように、所要の曲線をそれぞれ与
えることができる。
所要の焦点距離を得るように、所要の曲線をそれぞれ与
えることができる。
本発明は多数の異なった実施例をもつことが可能である
。たとえば第４図に示すような３つのミラーの対照的配
置において、第１および第３ミラー曲率半径を同じＲ−
２ｆ／ｃｏｓαにまた中間ミラーの曲率半径をＲ’ ＝
２ｆ’ ／ｃｏｓαとすることができる。ここにαおよ
びα′はそれぞれ各入射角、ｆおよびｆ′はそれぞれ焦
点距離である。
。たとえば第４図に示すような３つのミラーの対照的配
置において、第１および第３ミラー曲率半径を同じＲ−
２ｆ／ｃｏｓαにまた中間ミラーの曲率半径をＲ’ ＝
２ｆ’ ／ｃｏｓαとすることができる。ここにαおよ
びα′はそれぞれ各入射角、ｆおよびｆ′はそれぞれ焦
点距離である。
第７図に線図的に示すような本発明による別の実施例に
おいて、システムは中心軸線の周りに交互に配置された
多数のミラーを備え、それらの母線はこの軸線に交互に
垂直または下行である。
おいて、システムは中心軸線の周りに交互に配置された
多数のミラーを備え、それらの母線はこの軸線に交互に
垂直または下行である。
本発明の性質および種々の特徴は、図面に基づく、非限
定的実施例に関する、下記の記載および種々の説明から
明らかになるであろう。
定的実施例に関する、下記の記載および種々の説明から
明らかになるであろう。
第３図は、それぞれ曲率半径Ｒ１およびＲ２の、２つの
ミラーＭ１およびＭ２のシステムを示している。物体点
Ｐは頂点０１から距離１１にまた像点Ｐ′は頂点０２か
ら距離！２にある。頂点０１゜０２の距離は１１，２に
よって示されている。
ミラーＭ１およびＭ２のシステムを示している。物体点
Ｐは頂点０１から距離１１にまた像点Ｐ′は頂点０２か
ら距離！２にある。頂点０１゜０２の距離は１１，２に
よって示されている。
Ｍｌの入射角はα１で示され、Ｍ２の入射角はα２で示
されている。ミラーは横方向に配置され、すなわち、そ
れらの各母線に垂直な平面は互いに垂直である。換言す
れば、２つの円部形ミラーの母線は直交する直線である
。上記に記載されかつこの図面に記載された符号は、第
４．５．６図に示す本発明の簡単な実施例であるそれよ
り僅かに複雑な形状を示すのに使用されている。
されている。ミラーは横方向に配置され、すなわち、そ
れらの各母線に垂直な平面は互いに垂直である。換言す
れば、２つの円部形ミラーの母線は直交する直線である
。上記に記載されかつこの図面に記載された符号は、第
４．５．６図に示す本発明の簡単な実施例であるそれよ
り僅かに複雑な形状を示すのに使用されている。
曲率半径Ｒ１およびＲ２は、
Ｒ１＝２ｆｌ／ｃｏｓα１゜
Ｒ＝２ｆ２／ｃｏｓａ２゜
で規定される。ここに、ｆｌおよびｆ２は１／ｆｌ−１
／１１＋ｌ／ （１１，，２＋ｌ２）、１／ｆ２−１／
（１１＋ｌ１，２）＋ｌ／１２である。
／１１＋ｌ／ （１１，，２＋ｌ２）、１／ｆ２−１／
（１１＋ｌ１，２）＋ｌ／１２である。
特別の場合、α１−α２−４５°となる。入射および反
射光はこの場合平行であり、曲率半径は２Ｊ２ｆ １お
よび２Ｊ２ｆ２である。対称システムにおいて、１１−
１２とすると、ｆｌ−ｆ２−ｆ、Ｒ１尊Ｒ２Ｊ２ｆとな
る。
射光はこの場合平行であり、曲率半径は２Ｊ２ｆ １お
よび２Ｊ２ｆ２である。対称システムにおいて、１１−
１２とすると、ｆｌ−ｆ２−ｆ、Ｒ１尊Ｒ２Ｊ２ｆとな
る。
この２ミラーシステムは、容易に実施しうるが、それに
も係わらずビームを変形するという重大な欠点を有する
。もしビームが物体点Ｐにおいて円形断面を有するなら
ば、断面は像点Ｐ′において楕円形となる。その理由は
、伝播平面において、像の大きさに対する物体の大きさ
ｙ／ｙ’はｙ／ｙ’ ＝１２／（１１＋ｌ１．２）とな
り、一方垂直平面において、大きさの比ｘ’／ｘは、 ｘ’ ／ｘ−（１１，２＋ｌ２）／１１となるからであ
る。
も係わらずビームを変形するという重大な欠点を有する
。もしビームが物体点Ｐにおいて円形断面を有するなら
ば、断面は像点Ｐ′において楕円形となる。その理由は
、伝播平面において、像の大きさに対する物体の大きさ
ｙ／ｙ’はｙ／ｙ’ ＝１２／（１１＋ｌ１．２）とな
り、一方垂直平面において、大きさの比ｘ’／ｘは、 ｘ’ ／ｘ−（１１，２＋ｌ２）／１１となるからであ
る。
物体点Ｐにおける正円形断面のビームは像点Ｐ′におい
て正楕円形に変化し、楕円軸の比はｙ’ ／ｘ’ ＝
（１１） ・ （１２）／（１１＋ｌ１，２）・（１
１＋ｌ１．２）で与えられる。
て正楕円形に変化し、楕円軸の比はｙ’ ／ｘ’ ＝
（１１） ・ （１２）／（１１＋ｌ１，２）・（１
１＋ｌ１．２）で与えられる。
この欠点を修正するため、本発明によるシステムを使用
することができ、そのもつとも簡単な構造のあるものが
第４．５．６図に示されている。
することができ、そのもつとも簡単な構造のあるものが
第４．５．６図に示されている。
第４図は３つのミラーＭ１，Ｍ２．Ｍ３を備えた本発明
の実施例を示し、その最初の２つのミラーは第３図に示
されかつ上記に記載されたものと同じ形状および配置を
備え、第３の凹面ミラーＭ３は第２ミラーＭ２に向かっ
て配置され、第３ミラーＭ３は第２ミラーＭ２に対して
横方向に配置され、すなわち各母線に垂直な平面は互い
に垂直である。換言すれば、２つの円筒ミラーＭ２およ
びＭ３の母線は直角な直線である。この第４図に示され
た実施例において、第３ミラーＭ３は第１ミラーＭ１と
同じで、さらに、第１ミラーＭ１および第３ミラーＭ３
は第２ミラーＭ２に対して対称に配置されている。
の実施例を示し、その最初の２つのミラーは第３図に示
されかつ上記に記載されたものと同じ形状および配置を
備え、第３の凹面ミラーＭ３は第２ミラーＭ２に向かっ
て配置され、第３ミラーＭ３は第２ミラーＭ２に対して
横方向に配置され、すなわち各母線に垂直な平面は互い
に垂直である。換言すれば、２つの円筒ミラーＭ２およ
びＭ３の母線は直角な直線である。この第４図に示され
た実施例において、第３ミラーＭ３は第１ミラーＭ１と
同じで、さらに、第１ミラーＭ１および第３ミラーＭ３
は第２ミラーＭ２に対して対称に配置されている。
第１ミラーＭ１および第３ミラーＭ３の曲率半径Ｒおよ
び第２ミラーＭ２の曲率半径Ｒ′は、式％式％ で与えられる。ここに、αは第１ミラーＭ１および第３
ミラーＭ３の入射角であり、α′は第２ミラーＭ２の入
射角である。
び第２ミラーＭ２の曲率半径Ｒ′は、式％式％ で与えられる。ここに、αは第１ミラーＭ１および第３
ミラーＭ３の入射角であり、α′は第２ミラーＭ２の入
射角である。
焦点距離ｆおよびｆ′は、
ｆ−１■１−’＋ （１＋２１’ ） −’（ｆ’
）−’−２（１＋ １’ ）−’で決定される。ここ
に、ｌは物体点Ｐと第１ミラーＭｌの頂点との距離であ
り、これは第３ミラーＦ１３の頂点と像点Ｐ′との距離
にも等しい。１′は第２ミラーＭ２の頂点と第１Ｍ１お
よび第３ミラーＭ３の頂点との距離である。
）−’−２（１＋ １’ ）−’で決定される。ここ
に、ｌは物体点Ｐと第１ミラーＭｌの頂点との距離であ
り、これは第３ミラーＦ１３の頂点と像点Ｐ′との距離
にも等しい。１′は第２ミラーＭ２の頂点と第１Ｍ１お
よび第３ミラーＭ３の頂点との距離である。
３つのミラーを備えたこの実施例は、実際のシステムに
おいて多数のモードで使用することができる。第４図で
示されかつ上に記載したモードを使用すると、角度はα
およびα′を ２α十α’＝３ｐｉ／４ とすることによって、水平波を垂直波に変化するため、
たとえば、伝播方向を９０″変化することができる。た
とえばα−α′とすると、各ミラーの入射角は４５＠と
なり、同じミラーとるすと、曲率は２Ｊ２ ｆとなる。
おいて多数のモードで使用することができる。第４図で
示されかつ上に記載したモードを使用すると、角度はα
およびα′を ２α十α’＝３ｐｉ／４ とすることによって、水平波を垂直波に変化するため、
たとえば、伝播方向を９０″変化することができる。た
とえばα−α′とすると、各ミラーの入射角は４５＠と
なり、同じミラーとるすと、曲率は２Ｊ２ ｆとなる。
第５図に示す本発明の別の実施例において、入力波およ
び出力波は平行であるが、向きが反対である。
び出力波は平行であるが、向きが反対である。
第６図に示す本発明の別の実施例において、入力波と出
力波は同じ方向に伝播する。
力波は同じ方向に伝播する。
第７図に示す本発明の別の実施例は軸線ＺＺ′の両側に
配置された、２組の円筒形ミラーＭ １ 。
配置された、２組の円筒形ミラーＭ １ 。
Ｍ３．Ｍ５・・・およびＭ２．Ｍ４・・・を備えている
。奇数番目のミラーＭ１，Ｍ３・・・は母線を軸線Ｚｚ
′に平行に配置され、一方偶数番口のミラーＭ２．Ｍ４
・・は母線を軸線Ｚｚ′に垂直に配置されている。
。奇数番目のミラーＭ１，Ｍ３・・・は母線を軸線Ｚｚ
′に平行に配置され、一方偶数番口のミラーＭ２．Ｍ４
・・は母線を軸線Ｚｚ′に垂直に配置されている。
奇数番目のミラーＭ１，Ｍ３．Ｍ５・・φが互いに平行
であるため、これらのミラーは（第７図に一点鎖線で示
されたような）剛性支持体上に取付けられた単一のそし
て特異な円筒形ミラーとして実施することができる。偶
数番目のミラーＭ２゜Ｍ４−−書は集合体の微妙な調整
ができるように可動支持体上に取付けることができる。
であるため、これらのミラーは（第７図に一点鎖線で示
されたような）剛性支持体上に取付けられた単一のそし
て特異な円筒形ミラーとして実施することができる。偶
数番目のミラーＭ２゜Ｍ４−−書は集合体の微妙な調整
ができるように可動支持体上に取付けることができる。
本発明のいずれかの実施例に使用しうる円筒形ミラーを
実施するため、第８図に示すような構成を使用すること
ができ、その構成によれば、支持体１０は機械加工され
、押出しされまたは他の方法で形成された２部分１２お
よび１４を備え、それらの上端は実施される円筒形ミラ
ーの正断面（円弧、楕円弧、放物線弧）に対して所要の
形状をａする。シート１８は前記部分１２および１４の
上端に取付けられ、前記上端の形状に一致するように湾
曲される。得られた構造は円筒形ミラーを形成する。
実施するため、第８図に示すような構成を使用すること
ができ、その構成によれば、支持体１０は機械加工され
、押出しされまたは他の方法で形成された２部分１２お
よび１４を備え、それらの上端は実施される円筒形ミラ
ーの正断面（円弧、楕円弧、放物線弧）に対して所要の
形状をａする。シート１８は前記部分１２および１４の
上端に取付けられ、前記上端の形状に一致するように湾
曲される。得られた構造は円筒形ミラーを形成する。
最後の図面である第９図は電磁エネルギを案内するため
使用される本発明によるミラーの種々のシステムにおけ
る実際的設備を線図的に示している。ミリメートル波ま
たはサブミリメートル波電磁輻射源２０は垂直波２２を
発生し、垂直波２２は（第３．４図に示すものとなし得
る）第１システム Ｓｌにより第２システムＳ２に向か
って送られ、第２システムＳ２は、単一の円筒形ミラー
に向かう（第７図に示すような）一連のミラーを備え、
（第４，５または６図に示すような）３つのミラーを備
えた第３システムＳ３は、波をプラズマ機械３０に送る
。
使用される本発明によるミラーの種々のシステムにおけ
る実際的設備を線図的に示している。ミリメートル波ま
たはサブミリメートル波電磁輻射源２０は垂直波２２を
発生し、垂直波２２は（第３．４図に示すものとなし得
る）第１システム Ｓｌにより第２システムＳ２に向か
って送られ、第２システムＳ２は、単一の円筒形ミラー
に向かう（第７図に示すような）一連のミラーを備え、
（第４，５または６図に示すような）３つのミラーを備
えた第３システムＳ３は、波をプラズマ機械３０に送る
。
すべての場合において、上記装置は本発明の原理を応用
しうる多くの可能な特殊な実施例を僅か少数の説明的の
ものであることがわかる。多くのかつ変化した他の装置
も、本発明の精神および範囲から離れることなくこの技
術に通じた人々により、これらの原理に従って容品に実
施しうるちのである。
しうる多くの可能な特殊な実施例を僅か少数の説明的の
ものであることがわかる。多くのかつ変化した他の装置
も、本発明の精神および範囲から離れることなくこの技
術に通じた人々により、これらの原理に従って容品に実
施しうるちのである。
本発明は、電磁波を案内するミラーシステムにおいて、
シリンダの一部の形状を有する少なくとも３つの凹面ミ
ラーを、第１ミラーの凹部がＴ５２ミラーに向かって配
置され、２つのミラーの母線が垂直で、第３ミラーの凹
部がは第２ミラーに向かって配置され、２つのミラーの
母線が垂直であるように設けることにより、２つの異な
った曲率半径を備えたミラーを設けることなく、ビーム
を距＃１ｆの一点に集中する、製作が容易で使用も容易
なミラーシステムを提供することができる。
シリンダの一部の形状を有する少なくとも３つの凹面ミ
ラーを、第１ミラーの凹部がＴ５２ミラーに向かって配
置され、２つのミラーの母線が垂直で、第３ミラーの凹
部がは第２ミラーに向かって配置され、２つのミラーの
母線が垂直であるように設けることにより、２つの異な
った曲率半径を備えたミラーを設けることなく、ビーム
を距＃１ｆの一点に集中する、製作が容易で使用も容易
なミラーシステムを提供することができる。
第１図は従来技術において公知のシステムを示し、第２
図は従来技術において公知の球面ミラーを示し、第３図
は従来技術において公知の別のシステムを示し、第４図
は３つのミラーを備えた本発明による実施例を示し、第
５図は３つのミラーを備えた本発明による別の実施例を
示し、第６図は３つのミラーを備えた本発明によるさら
に別の実施例を示し、第７図は中心軸線の両側に交互に
配置された円筒形ミラーシステムを備えた本発明の実施
例を示し、第８図は円筒形ミラーの実施例の可能なモー
ドを示し、第９図は本発明によるシステムを使用する設
備を示す。
図は従来技術において公知の球面ミラーを示し、第３図
は従来技術において公知の別のシステムを示し、第４図
は３つのミラーを備えた本発明による実施例を示し、第
５図は３つのミラーを備えた本発明による別の実施例を
示し、第６図は３つのミラーを備えた本発明によるさら
に別の実施例を示し、第７図は中心軸線の両側に交互に
配置された円筒形ミラーシステムを備えた本発明の実施
例を示し、第８図は円筒形ミラーの実施例の可能なモー
ドを示し、第９図は本発明によるシステムを使用する設
備を示す。
Claims (9)
- １．電磁波を案内するミラー方式であつて、前記システ
ムがシリンダの一部の形状を有する少なくとも３つの凹
面ミラー（Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３）を備え、前記第１ミラー
（Ｍ１）の凹部は前記第２ミラー（Ｍ２）に向かつて配
置され、２つのミラー（Ｍ１，Ｍ２）の母線は垂直で、
前記第３ミラー（Ｍ３）の凹部は前記第２ミラー（Ｍ２
）に向かつて配置され、２つのミラー（Ｍ２，Ｍ３）の
母線器が垂直であることを特徴とする、前記電磁波を案
内するミラーシステム。 - ２．前記第３ミラー（Ｍ３）は前記第１ミラー（Ｍ１）
と同じであること、および前記第１ミラー（Ｍ１）およ
び第３ミラー（Ｍ３）は前記第２ミラー（Ｍ２）に対し
て対称的に配置されたことをさらに特徴とする、請求項
１記載のシステム。 - ３．前記第１および第３ミラー（Ｍ１，Ｍ３）の曲率半
径Ｒおよび前記第２ミラー（Ｍ２）の曲率半径Ｒ′は Ｒ＝２ｆ／ｃｏｓαおよび Ｒ′＝２ｆ′／ｃｏｓα′ で与えられ、ここに、αは第１および第３ミラー（Ｍ１
，Ｍ３）の入射角であり、α′は第２ミラー（Ｍ２）の
入射角であり、ｆおよびｆ′はｆ＾−＾１＝ｌ＾−＾１
＋（ｌ＋２１′）＾−＾１，（ｆ′）＾−＾１＝２（ｌ
＋ｌ′）＾−＾１の関係式で決定され、ｌは物体点Ｐと
前記第１ミラー（Ｍ１）の頂点の距離であり、それはま
た第３ミラー（Ｍ３）と像点Ｐ′の距離に等しく、ｌ′
は前記第２ミラー（Ｍ２）の頂点と前記第１および第３
ミラー（Ｍ１，Ｍ３）の頂点の距離である、請求項２記
載のシステム。 - ４．前記システムは軸線（ＺＺ′）の両側に交互に配置
された一連のミラー（Ｍ１，Ｍ３，Ｍ５，・・Ｍ２，Ｍ
４・・）を備え、連続したミラー対（Ｍｎ，Ｍｎ＋ｌ）
の１つのミラー（Ｍｎ）はその母線が前記軸線に平行に
なるように配置され、前記対の他のミラー（Ｍｎ＋ｌ）
はその母線が前記軸線に垂直になるように配置され、す
べてのそのような連続したミラーの対は前記システムを
含むことをさらに特徴とする、請求項１記載のシステム
。 - ５．母線が前記軸線（ＺＺ′）に平行になるように配置
された前記ミラー（Ｍ１，Ｍ３，Ｍ５）は母線が前記軸
線に平行になるようにまたその凹部がシステム（Ｍ２，
Ｍ４・・・）を備えた他のミラーに向かつて配置された
単一のかつ特異な円筒形ミラーを備えたことを特徴とす
る、請求項４記載のシステム。 - ６．前記円筒形ミラーはそれらの母線に１４直な平面に
おいて円形断面であることを特徴とする、請求項１ない
し５のいずれかに記載のシステム。 - ７．前記円筒形ミラーはそれらの母線に垂直な平面にお
いて放物線断面であることを特徴とする、請求項１ない
し５のいずれかに記載のシステム。 - ８．前記円筒形ミラーはそれらの母線に垂直な平面にお
いて楕円形断面であることを特徴とする、請求項１ない
し５のいずれかに記載のシステム。 - ９．ミラーの軸線に平行な支持装置によつて得られる円
筒形ミラーを実施するモードであつて、前記支持装置は
上端が実施される円筒形ミラーの正断面に所望の形状（
円弧、楕円弧、放物線弧等）を有するように機械加工さ
れ、押出しされまたは他の方法で形成された少なくとも
２つの部分を備え、前記上端はシートの支持体として作
用し、前記シートは前記上端に取付けられかつ前記上端
の形状に一致するように湾曲されて、所要の形状の円筒
形ミラーを形成する、前記モード。
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5818393A (en) * | 1991-12-10 | 1998-10-06 | Raytheon Ti Systems, Inc. | Wide field-of-view fixed body conformal antenna direction finding array |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2071598C (en) * | 1991-06-21 | 1999-01-19 | Akira Eda | Optical device and method of manufacturing the same |
| AU703510B2 (en) * | 1994-05-11 | 1999-03-25 | Regents Of The University Of Colorado, The | Spherical mirror grazing incidence x-ray optics |
| DE69504004T2 (de) * | 1994-05-11 | 1999-05-27 | Univ Colorado | Roentgenstrahlungsoptik mit streifendem lichteinfall und sphaerischen spiegeln |
| WO1997016833A1 (en) * | 1995-10-31 | 1997-05-09 | Regents Of The University Of Colorado | Spherical mirror grazing incidence x-ray optics |
| GB9410254D0 (en) * | 1994-05-23 | 1994-07-13 | Virtual Control Limited | Generating an image |
| US7631989B2 (en) * | 2000-03-27 | 2009-12-15 | Wavien, Inc. | Dual paraboloid reflector and dual ellipsoid reflector systems with optimized magnification |
| US6634759B1 (en) * | 2000-03-27 | 2003-10-21 | Cogent Light Technologies, Inc. | Coupling of light from a light source to a target using dual ellipsoidal reflectors |
| US7513630B2 (en) * | 2000-03-27 | 2009-04-07 | Wavien, Inc. | Compact dual ellipsoidal reflector (DER) system having two molded ellipsoidal modules such that a radiation receiving module reflects a portion of rays to an opening in the other module |
| DE10028970C1 (de) | 2000-06-05 | 2002-01-24 | Fraunhofer Ges Forschung | Röntgenoptische Anordnung zur Erzeugung einer parallelen Röntgenstrahlung |
| US6582088B2 (en) * | 2000-08-10 | 2003-06-24 | Benq Corporation | Optical path folding apparatus |
| US6705736B1 (en) | 2001-12-03 | 2004-03-16 | David E. Pressler | Light-collection device |
| US7633425B2 (en) * | 2007-11-16 | 2009-12-15 | Ratheon Company | Waveguide system comprising reflective surfaces for directing a wave beam to a target |
| CN106054377B (zh) * | 2016-08-05 | 2020-02-21 | 北京国承万通信息科技有限公司 | 光束扫射机构、光束扫射装置以及定位系统 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3224330A (en) * | 1961-12-22 | 1965-12-21 | Bell Telephone Labor Inc | Optical reflecting system for redirecting energy |
| DE2029718A1 (de) * | 1970-06-16 | 1971-12-23 | Bardocz A | Ein Dreispiegelsystem |
| US3762794A (en) * | 1972-04-06 | 1973-10-02 | Bell Telephone Labor Inc | Adjustable beam refocuser and redirector |
| US4088884A (en) * | 1976-01-26 | 1978-05-09 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Wide aperture optical communications detector |
| US4357075A (en) * | 1979-07-02 | 1982-11-02 | Hunter Thomas M | Confocal reflector system |
| US4268338A (en) * | 1979-08-20 | 1981-05-19 | Peterson Electronic Die Co. | Method and apparatus for RF sealing of thermoplastic layers |
| US4429953A (en) * | 1980-09-29 | 1984-02-07 | Visidyne, Inc. | Curved glass reflector and method of making same |
| JPS57195205A (en) * | 1981-05-26 | 1982-11-30 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Optical waveguide |
| US4571812A (en) * | 1984-02-16 | 1986-02-25 | Industrial Solar Technology | Method for making a solar concentrator and product |
| US4776696A (en) * | 1987-03-20 | 1988-10-11 | Michael C. Hettrick | Optical system for high resolution spectrometer/monochromator |
-
1988
- 1988-04-29 FR FR8805794A patent/FR2630832B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
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- 1989-04-28 JP JP1111900A patent/JPH0217702A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5818393A (en) * | 1991-12-10 | 1998-10-06 | Raytheon Ti Systems, Inc. | Wide field-of-view fixed body conformal antenna direction finding array |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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