JPH0217628B2 - - Google Patents
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- JPH0217628B2 JPH0217628B2 JP21707182A JP21707182A JPH0217628B2 JP H0217628 B2 JPH0217628 B2 JP H0217628B2 JP 21707182 A JP21707182 A JP 21707182A JP 21707182 A JP21707182 A JP 21707182A JP H0217628 B2 JPH0217628 B2 JP H0217628B2
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- temperature
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- plating
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- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 37
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 25
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 24
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims description 6
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 4
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/542—Controlling the film thickness or evaporation rate
- C23C14/543—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on the vapor source
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/246—Replenishment of source material
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は工業的大規模の真空蒸着設備によつ
て、例えば鋼帯のような長尺の板状体の表面に連
続的に真空蒸着メツキを施すに際して、均一なメ
ツキの厚さを得るための制御方法に関する。
て、例えば鋼帯のような長尺の板状体の表面に連
続的に真空蒸着メツキを施すに際して、均一なメ
ツキの厚さを得るための制御方法に関する。
第１図は従来の真空蒸着メツキによるメツキ厚
さの制御方法を示す。この図において、１は真空
が維持できる真空槽であり、この真空槽１の内部
においては鋼帯のような板状体２が連続的に走行
している。この板状体２の下部には所定温度に保
持された溶融状態のメツキ金属３を収容する蒸発
源用容器４が設定されており、この容器４の底部
には大気側と連通する輸送管５が接続されてい
る。大気側においてはメツキ金属浴３′を収容す
る容器６を設置しており、この容器６の底部およ
び壁部にはヒーター７と断熱層８を取付け、メツ
キ金属浴３′を溶融状態に加熱保持する。前記輸
送管５の先端はメツキ金属浴３′中にあつて、こ
のメツキ金属浴３′は真空槽１の圧力と大気圧の
圧力差によつて大気側の容器６から真空槽１の内
部の蒸発源容器４に輸送管５を通じて収容され、
レベル９と１０が形成される。真空蒸着時におい
ては、レベル９からメツキ金属浴３が蒸発し、板
状体２の表面に蒸着され、メツキ層が形成され
る。メツキの厚さの制御は、メツキ金属浴３の浴
底から距離ｌの浴中に熱電対１１の測温部を設置
し、この信号を温度調節器１２が受けて、電源１
３からヒーター１４の出力を調節することにより
行われている。
さの制御方法を示す。この図において、１は真空
が維持できる真空槽であり、この真空槽１の内部
においては鋼帯のような板状体２が連続的に走行
している。この板状体２の下部には所定温度に保
持された溶融状態のメツキ金属３を収容する蒸発
源用容器４が設定されており、この容器４の底部
には大気側と連通する輸送管５が接続されてい
る。大気側においてはメツキ金属浴３′を収容す
る容器６を設置しており、この容器６の底部およ
び壁部にはヒーター７と断熱層８を取付け、メツ
キ金属浴３′を溶融状態に加熱保持する。前記輸
送管５の先端はメツキ金属浴３′中にあつて、こ
のメツキ金属浴３′は真空槽１の圧力と大気圧の
圧力差によつて大気側の容器６から真空槽１の内
部の蒸発源容器４に輸送管５を通じて収容され、
レベル９と１０が形成される。真空蒸着時におい
ては、レベル９からメツキ金属浴３が蒸発し、板
状体２の表面に蒸着され、メツキ層が形成され
る。メツキの厚さの制御は、メツキ金属浴３の浴
底から距離ｌの浴中に熱電対１１の測温部を設置
し、この信号を温度調節器１２が受けて、電源１
３からヒーター１４の出力を調節することにより
行われている。
このように従来の真空蒸着法におけるメツキ層
の厚さ制御法はメツキ金属浴３の内部温度を検出
してヒーター１４の出力を調整し、浴表面レベル
９から蒸発するメツキ金属浴の蒸発速度を制御す
ることにより行われていた。
の厚さ制御法はメツキ金属浴３の内部温度を検出
してヒーター１４の出力を調整し、浴表面レベル
９から蒸発するメツキ金属浴の蒸発速度を制御す
ることにより行われていた。
しかし、このような従来のメツキ厚制御法にお
いては、次のような問題があり、均一なメツキ厚
さの制御が不充分であつた。
いては、次のような問題があり、均一なメツキ厚
さの制御が不充分であつた。
即ち、真空蒸着時においてはメツキ金属浴面９
からメツキ金属浴３が蒸発しており、これに伴い
蒸発潜熱が放出している。従つて浴面レベル９の
温度は浴中の熱電対１１の測温部の温度より低温
となり、浴中では第２図のような傾向の温度勾配
が生じる。一方、浴面レベル９はメツキ金属浴３
の蒸発に伴つて常に低下し、測温部との距離Ｌは
次第に短かくなり、大気中のメツキ金属浴３′か
らメツキ金属を供給して浴面レベル９を調整する
必要がある。また、大気の気圧によつても浴面レ
ベル９の高さが異なる。このような浴面レベル９
の高さの変動と前記温度勾配が存在する状況下に
おいて、固定位置の測温部でメツキ金属浴３の温
度制御を行うことは実質上困難で経済的にメツキ
厚さが変化して均一なメツキが生産されていな
い。
からメツキ金属浴３が蒸発しており、これに伴い
蒸発潜熱が放出している。従つて浴面レベル９の
温度は浴中の熱電対１１の測温部の温度より低温
となり、浴中では第２図のような傾向の温度勾配
が生じる。一方、浴面レベル９はメツキ金属浴３
の蒸発に伴つて常に低下し、測温部との距離Ｌは
次第に短かくなり、大気中のメツキ金属浴３′か
らメツキ金属を供給して浴面レベル９を調整する
必要がある。また、大気の気圧によつても浴面レ
ベル９の高さが異なる。このような浴面レベル９
の高さの変動と前記温度勾配が存在する状況下に
おいて、固定位置の測温部でメツキ金属浴３の温
度制御を行うことは実質上困難で経済的にメツキ
厚さが変化して均一なメツキが生産されていな
い。
本発明は、このような欠点を解消するためにな
されたもので、浴面レベルとヒータ出力を制御す
ることによりメツキ金属浴の蒸発速度を制御し、
均一なメツキ厚さのメツキ製品を生産することを
目的とするものである。
されたもので、浴面レベルとヒータ出力を制御す
ることによりメツキ金属浴の蒸発速度を制御し、
均一なメツキ厚さのメツキ製品を生産することを
目的とするものである。
ところで、蒸発速度は一般に下記理論式で与え
られている。
られている。
Ｇ：蒸発速度（ｇ／cm2・sec）
Ｐ：Ｔ（〓）におけるメツキ金属の飽和蒸発圧
（Torr） Ｍ：蒸発分子のグラム分子量 Ｔ：蒸発温度（〓） この式において、蒸発速度は蒸発温度が支配的
であり、メツキ金属浴中の各部の温度とこの理論
式を対応させることを試みたところ、浴面レベル
（浴表面）の温度と理論式が対応することが解明
された。すなわち、浴表面温度を常時検出し、ヒ
ータ出力を制御すれば蒸発速度が制御されて均一
なメツキ厚さを理論式通りに得られるのであり、
またこの時、浴面レベルも常時一定に保持する制
御が必要である。
（Torr） Ｍ：蒸発分子のグラム分子量 Ｔ：蒸発温度（〓） この式において、蒸発速度は蒸発温度が支配的
であり、メツキ金属浴中の各部の温度とこの理論
式を対応させることを試みたところ、浴面レベル
（浴表面）の温度と理論式が対応することが解明
された。すなわち、浴表面温度を常時検出し、ヒ
ータ出力を制御すれば蒸発速度が制御されて均一
なメツキ厚さを理論式通りに得られるのであり、
またこの時、浴面レベルも常時一定に保持する制
御が必要である。
本発明は、以上の知見に基づいてなされたもの
で、真空蒸着法の蒸発源容器に収容したメツキ金
属浴の浴表面レベルを検知器にて検知し、該検知
器の信号を浴表面レベル保持用装置に与えて前記
浴表面レベルを一定に保持し、さらに前記検知器
の信号発信部と同レベル高さに測温部がある温度
検知器を設置し、該温度検知器の信号を温度調節
器に与えて前記メツキ金属浴を加熱するヒータの
出力を調整することを特徴とする蒸発速度制御方
法に関するものである。
で、真空蒸着法の蒸発源容器に収容したメツキ金
属浴の浴表面レベルを検知器にて検知し、該検知
器の信号を浴表面レベル保持用装置に与えて前記
浴表面レベルを一定に保持し、さらに前記検知器
の信号発信部と同レベル高さに測温部がある温度
検知器を設置し、該温度検知器の信号を温度調節
器に与えて前記メツキ金属浴を加熱するヒータの
出力を調整することを特徴とする蒸発速度制御方
法に関するものである。
本発明方法は、鋼帯等長尺の連続体表面を被処
理材とする工業的大規模の連続重空蒸着技術に適
用することができる。
理材とする工業的大規模の連続重空蒸着技術に適
用することができる。
本発明方法を第３図に示す一実施態様例によつ
て具体的に説明する。なお、説明を容易にするた
め第１図と同一作用効果の部材は同一符号を記
す。
て具体的に説明する。なお、説明を容易にするた
め第１図と同一作用効果の部材は同一符号を記
す。
蒸発速度を一定に保持するための第一の操作は
浴面レベル９を一定に保持することである。この
操作は、例えば次のようにして行われる。先端を
メツキ金属浴３中に浸漬した電極１５と、先端を
浴面レベル９の上部に設置した電極１６を装着
し、該電極１６の先端が浴面レベル９に接触すれ
ば電極１６の先端から浴面９を通過して電極１５
の先端に電流が流れる電源１７を取付け、該電源
１７と上記の電極１５，１６とで構成される電気
信号回路を設け、この信号をリレー回路１８が受
けて電源１９から油圧ポンプの駆動モータ２０を
作動させ、油圧式昇降装置２１を駆動させる構成
を利用し、電極１５と１６の間に浴表面レベル９
を通じて電流が流れた場合、油圧式昇降装置２１
の上部先端２２は下部方向に移動させ、電極１６
の先端が浴面レベル９の上部にあつて電流が浴表
面レベル９に流れない場合は、油圧式昇降装置２
１の上部先端２２は上部方向に移動させることに
より、浴面レベル９は常時一定に制御される。
浴面レベル９を一定に保持することである。この
操作は、例えば次のようにして行われる。先端を
メツキ金属浴３中に浸漬した電極１５と、先端を
浴面レベル９の上部に設置した電極１６を装着
し、該電極１６の先端が浴面レベル９に接触すれ
ば電極１６の先端から浴面９を通過して電極１５
の先端に電流が流れる電源１７を取付け、該電源
１７と上記の電極１５，１６とで構成される電気
信号回路を設け、この信号をリレー回路１８が受
けて電源１９から油圧ポンプの駆動モータ２０を
作動させ、油圧式昇降装置２１を駆動させる構成
を利用し、電極１５と１６の間に浴表面レベル９
を通じて電流が流れた場合、油圧式昇降装置２１
の上部先端２２は下部方向に移動させ、電極１６
の先端が浴面レベル９の上部にあつて電流が浴表
面レベル９に流れない場合は、油圧式昇降装置２
１の上部先端２２は上部方向に移動させることに
より、浴面レベル９は常時一定に制御される。
また、蒸発速度を一定に保持するための第２の
操作は、浴面レベル９（浴表面）の温度を検知
し、一定温度に制御することである。この操作
は、電極１６の先端（信号発信部）と熱電対１１
の先端（測温部）が同レベルになるよう設置し、
常に浴表面の温度を検出して、温度調節器１２
と、電源１３によつてヒーター１４の出力を調節
し、浴面９の温度を一定に制御する。
操作は、浴面レベル９（浴表面）の温度を検知
し、一定温度に制御することである。この操作
は、電極１６の先端（信号発信部）と熱電対１１
の先端（測温部）が同レベルになるよう設置し、
常に浴表面の温度を検出して、温度調節器１２
と、電源１３によつてヒーター１４の出力を調節
し、浴面９の温度を一定に制御する。
本発明方法は、以上のように浴面レベルを検出
して一定に保持し、これに伴つて浴表面温度を検
出して一定温度に保持することによつて、浴表面
からの蒸発速度を制御するため、均一なメツキ厚
を常時得ることができるのである。
して一定に保持し、これに伴つて浴表面温度を検
出して一定温度に保持することによつて、浴表面
からの蒸発速度を制御するため、均一なメツキ厚
を常時得ることができるのである。
実施例
第３図に示す態様で、鋼帯２へ亜鉛の連続蒸着
を行ない、亜鉛の浴面温度と蒸発速度との関係を
調べた。この結果、第４図に示す各温度での蒸発
速度を検出した。第４図中、直線１００は理論計
算値を、○ぐ
を行ない、亜鉛の浴面温度と蒸発速度との関係を
調べた。この結果、第４図に示す各温度での蒸発
速度を検出した。第４図中、直線１００は理論計
算値を、○ぐ
Claims (1)
- １ 真空蒸着法の蒸発源容器に収容したメツキ金
属浴の浴表面レベルを検知器にて検知し、該検知
器の信号を浴表面レベル保持用装置に与えて前記
浴表面レベルを一定に保持し、さらに前記検知器
の信号発信部と同レベル高さに測温部がある温度
検知器を設置し、該温度検知器の信号を温度調節
器に与えて前記メツキ金属浴を加熱するヒータの
出力を調整することを特徴とする蒸発速度制御方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21707182A JPS59107075A (ja) | 1982-12-13 | 1982-12-13 | 蒸発速度制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21707182A JPS59107075A (ja) | 1982-12-13 | 1982-12-13 | 蒸発速度制御方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59107075A JPS59107075A (ja) | 1984-06-21 |
| JPH0217628B2 true JPH0217628B2 (ja) | 1990-04-23 |
Family
ID=16698374
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21707182A Granted JPS59107075A (ja) | 1982-12-13 | 1982-12-13 | 蒸発速度制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59107075A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE60305246T2 (de) * | 2002-07-19 | 2006-09-14 | Lg Electronics Inc. | Quelle zur thermischen PVD-Beschichtung für organische elektrolumineszente Schichten |
-
1982
- 1982-12-13 JP JP21707182A patent/JPS59107075A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59107075A (ja) | 1984-06-21 |
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