JPH02173913A - Magnetic head - Google Patents

Magnetic head

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JPH02173913A
JPH02173913A JP32852088A JP32852088A JPH02173913A JP H02173913 A JPH02173913 A JP H02173913A JP 32852088 A JP32852088 A JP 32852088A JP 32852088 A JP32852088 A JP 32852088A JP H02173913 A JPH02173913 A JP H02173913A
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JP
Japan
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flux density
magnetic flux
thin film
saturation magnetic
core
Prior art date
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Application number
JP32852088A
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Japanese (ja)
Inventor
Koji Terasono
晃二 寺園
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TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Publication date
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Publication of JPH02173913A publication Critical patent/JPH02173913A/en
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Abstract

PURPOSE:To satisfy the resolution and the overwrite characteristic by providing a high-saturation magnetic flux density alloy thin film and a low-saturation magnetic flux density amorphous thin film on surfaces facing a gap part of cores. CONSTITUTION:A core 1 whose surface facing the gap part a low-saturation magnetic flux density amorphous thin film 5 is formed on and a core 2 whose surface facing the gap part a high-saturation magnetic flux density alloy thin film 7 is formed on are provided. In this case, the saturation magnetic flux density of the low-saturation magnetic flux density amorphous thin film is 1,500 to 3,000G, and cores 1 and 2 are joined into one body with a silicon oxide nonmagnetic part 6 between them. That is, the low-saturation magnetic flux density amorphous thin film 5 is magnetically saturated to function as a part of the gap at the time of recording and a strong magnetic flux is impressed from the high-saturation magnetic flux density alloy thin film 7 then. At the time of reproducing, the low-saturation magnetic flux density amorphous thin film 5 functions as a part of the core 1 and reproducing with a narrow gap is performed. Since the nonmagnetic part 6 is made of a silicon oxide nonmagnetic material, reaction between the nonmagnetic part and metal is not caused. Thus, the overwrite characteristic and the resolution are satisfactory and free from degradation.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、フロッピーディスク、磁気デーゾ、ハードデ
ィスク等の磁気記録媒体用の磁気ヘッド、特に記録およ
び再生兼用の磁気ヘッドに関し、さらに詳しくは、ギャ
ップ部対向面に、コアより高い飽和磁束密度を有する薄
膜が形成されている第1コアと、ギャップ部対向面に、
コアより低い飽和磁束密度を有する薄膜が形成されてい
る第2コアとを少なくとも有し、両コアが非磁性部を介
して接合一体化されているいわゆるエンハンストデュア
ルギャップレングス(EDG)型の磁気ヘッドに関する
Detailed Description of the Invention <Field of Industrial Application> The present invention relates to a magnetic head for magnetic recording media such as floppy disks, magnetic disks, hard disks, etc., particularly to a magnetic head for both recording and reproduction. a first core on which a thin film having a saturation magnetic flux density higher than that of the core is formed on a surface facing the gap portion;
A so-called enhanced dual gap length (EDG) type magnetic head, which has at least a second core formed with a thin film having a saturation magnetic flux density lower than that of the core, and both cores are joined and integrated via a non-magnetic part. Regarding.

〈従来の技術〉 磁気記録媒体に情報の記録、再生を行う場合、大きな磁
束を与えるために、記録時には広いギャップのコアを有
する磁気ヘッドを用いることが好ましく、また、再生時
には分解能を高めるために、狭いギャップのコアを有す
る磁気ヘッドを用いることが好ましい。
<Prior Art> When recording and reproducing information on a magnetic recording medium, it is preferable to use a magnetic head having a core with a wide gap during recording in order to provide a large magnetic flux, and to increase resolution during reproduction. , it is preferred to use a magnetic head with a narrow gap core.

しかし、記録、再生兼用の一個の磁気ヘッドを用いて記
録および再生を行う場合には、ギャップ長が固定されて
いるため上記の要件を満足することができない。
However, when recording and reproducing are performed using a single magnetic head for both recording and reproducing purposes, the above requirements cannot be met because the gap length is fixed.

このような欠点を解消するために、特開昭60−874
11号公報には、第2図に示すような磁気ヘッドが提案
されている。
In order to eliminate such drawbacks, Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-874
No. 11 proposes a magnetic head as shown in FIG.

第2図に示される磁気ヘッドは、コア1のギャップ部対
向面にコアよりも飽和磁束密度の小さいガーネット等の
酸化物系軟磁性薄膜15を形成し、コア2のギャップ部
対向面にコアよりも飽和磁束密度の大きいパーマロイ等
の高飽和磁束密度磁性層17を有する。 この磁気ヘッ
ドは、いわゆるエンハンストデュアルギャップレングス
(EDG)型の磁気ヘッドである。
The magnetic head shown in FIG. 2 has an oxide-based soft magnetic thin film 15 made of garnet or the like having a lower saturation magnetic flux density than that of the core formed on the surface facing the gap of the core 1, and a thin oxide-based soft magnetic film 15 made of garnet or the like having a lower saturation magnetic flux density than the core. It also has a high saturation magnetic flux density magnetic layer 17 made of permalloy or the like having a high saturation magnetic flux density. This magnetic head is a so-called enhanced dual gap length (EDG) type magnetic head.

この磁気ヘッドでは、記録時には飽和磁束密度の小さい
酸化物系軟磁性薄膜15が磁気飽和する結果、この酸化
物系軟磁性薄膜15が非6競性部16とともにギャップ
としてはだら(ため広ギャップによる記録を行うことが
でき、しかも、高飽和磁束密度磁性層17から強力な磁
束を磁気記録媒体に印加できるため、高い保磁力を有す
る媒体に有効な記録が行なえ、また、再生時には、磁気
記録媒体からの漏洩磁束が微小であるので、酸化物系軟
磁性薄膜15がコア1の一部としてはたらくため狭ギャ
ップによる再生を行うことができ、高い分解能が得られ
るとしている。
In this magnetic head, as a result of the magnetic saturation of the oxide-based soft magnetic thin film 15 with a low saturation magnetic flux density during recording, the oxide-based soft magnetic thin film 15 and the non-6 competitive area 16 form a sloppy gap (because of the wide gap). In addition, since strong magnetic flux can be applied to the magnetic recording medium from the high saturation magnetic flux density magnetic layer 17, effective recording can be performed on a medium with a high coercive force, and during reproduction, the magnetic recording medium Since the leakage magnetic flux from the core 1 is minute, the oxide-based soft magnetic thin film 15 functions as a part of the core 1, making it possible to perform reproduction using a narrow gap and achieving high resolution.

ここで、前記のような性能を満足するためには、ギャッ
プ部対向面に設ける低飽和磁束密度の薄膜は、フェライ
トより小さな飽和磁束密度と大きな初透磁率と小さな保
磁力とを有しなければならない。
In order to satisfy the above-mentioned performance, the thin film with a low saturation magnetic flux density provided on the opposing surface of the gap must have a saturation magnetic flux density lower than that of ferrite, a large initial permeability, and a small coercive force. It won't happen.

〈発明が解決しようとする課題〉 しかし、酸化物系軟磁性材料では低飽和磁束密度で高初
透磁率、低保磁力のものは得られないため、十分な記録
、再生特性が得られず、特性のバラつきも生ずる。 ま
た、酸化物系軟磁性材料では所定の結晶構造をとること
により磁化を発生するため、成膜条件を厳しくしぼりこ
む必要があり、さらに熱処理を施さなければならない場
合が多く、製造上難点がある。
<Problem to be solved by the invention> However, with oxide-based soft magnetic materials, it is not possible to obtain low saturation magnetic flux density, high initial permeability, and low coercive force, so sufficient recording and reproducing characteristics cannot be obtained. Variations in characteristics also occur. In addition, since oxide-based soft magnetic materials generate magnetization by adopting a specific crystal structure, it is necessary to strictly narrow down the film-forming conditions, and further heat treatment is often required, which poses manufacturing difficulties. .

なお、低飽和磁束密度の軟磁性材料としては、結晶質の
各種金属も知られているが、これらを薄膜として用いて
も前記酸化物系軟磁性材料と同様十分な記録、再生特性
は得られない。
Note that various crystalline metals are also known as soft magnetic materials with low saturation magnetic flux density, but even if these are used in the form of thin films, sufficient recording and reproducing characteristics cannot be obtained as with the oxide-based soft magnetic materials. do not have.

また、従来、非磁性部16には、強度の高いガラスが用
いられているが、ガラスは金属と反応しやすいため、こ
の結果、パーマロイやセンダスト等の合金の磁気特性は
低下し、高飽和磁束密度磁性層17の一部分は再生時に
コアとして機能することができな(なり、再生時のギャ
ップが広がってしまう。 さらに、非磁性部16のガラ
スには、pb等の金属元素が析出するため、ガラスの強
度が低下したり、記録、再生時に磁気記録媒体の損傷を
生ずる。
In addition, conventionally, high-strength glass has been used for the non-magnetic part 16, but since glass easily reacts with metal, the magnetic properties of alloys such as Permalloy and Sendust deteriorate as a result, resulting in high saturation magnetic flux. A portion of the density magnetic layer 17 cannot function as a core during reproduction (and the gap during reproduction widens).Furthermore, since metal elements such as PB are precipitated on the glass of the non-magnetic portion 16, This may reduce the strength of the glass or cause damage to the magnetic recording medium during recording and reproduction.

なお、低飽和磁束密度の軟磁性材料として、金属を用い
る場合も同様である。
Note that the same applies when metal is used as the soft magnetic material with low saturation magnetic flux density.

同公報では非磁性部16に、空気やプラスチックを用い
ているが、空気を用いた場合は、磁気記録媒体の磁性粉
がギャップ部に付着し、媒体が減磁されてしまう。 ま
た、プラスチックはやわらかいため、プラスチックを用
いた場合も空気の場合と同様に磁性粉が付着し、媒体は
減磁されてしまい、強度も不十分である。
In this publication, air or plastic is used for the non-magnetic portion 16, but if air is used, the magnetic powder of the magnetic recording medium will adhere to the gap portion and the medium will be demagnetized. Furthermore, since plastic is soft, even when plastic is used, magnetic powder adheres to it in the same way as when air is used, the medium is demagnetized, and its strength is insufficient.

本発明は、このような事情に鑑みなされたものであり、
強度が高く、磁気記録媒体の損傷を防止でき、正確なギ
ャップ長を確保でき、オーバーライド特性、分解能等の
記録・再生特性が良好で、その劣化がなく、温度特性が
安定であり、特性のバラつきが少な(製造上有利であり
、しかも、高密度記録が可能な記録・再生兼用の磁気ヘ
ッドを提供することを目的とする。
The present invention was made in view of these circumstances,
It has high strength, can prevent damage to the magnetic recording medium, can ensure accurate gap length, has good recording and playback characteristics such as override characteristics and resolution, does not deteriorate, has stable temperature characteristics, and has no variation in characteristics. An object of the present invention is to provide a magnetic head for both recording and reproduction, which is advantageous in terms of manufacturing and is capable of high-density recording.

く課題を解決するだめの手段〉 このような目的は、下記の(1)〜(・1)の本発明に
よって達成される。
Means for Solving the Problems> Such objects are achieved by the following (1) to (.1) of the present invention.

(1)ギャップ部対向面に、コアより低い飽和磁束密度
を有する低飽和磁束密度非晶質薄膜が形成されている第
1コアと、ギャップ部対向面に、コアより高い飽和磁束
密度を有する高飽和磁束密度合金薄膜が形成されている
第2コアとを少なくとも有し、前記低飽和磁束密度非晶
質薄膜の飽和磁束密度が、1500〜3000Gであり
、前記第1コアおよび第2コアが、酸化ケイ素の非磁性
部を介して接合一体化されていることを特徴とする磁気
ヘッド。
(1) A first core having a low saturation magnetic flux density amorphous thin film having a saturation magnetic flux density lower than that of the core formed on the surface facing the gap portion, and a first core having a low saturation magnetic flux density amorphous thin film having a saturation magnetic flux density higher than that of the core formed on the surface facing the gap portion; a second core on which a saturation magnetic flux density alloy thin film is formed, the saturation magnetic flux density of the low saturation magnetic flux density amorphous thin film is 1500 to 3000 G, and the first core and the second core are A magnetic head characterized by being integrally bonded via a non-magnetic part of silicon oxide.

(2)前記高飽和磁束密度合金薄膜の飽和磁束密度が、
9000〜14000Gである上記(1)に記載の磁気
ヘッド (3)保持力9000e以上の磁気記録媒体に対し用い
られる上記(1)または(2)に記載の磁気ヘッド。
(2) The saturation magnetic flux density of the high saturation magnetic flux density alloy thin film is
(3) The magnetic head according to (1) or (2) above, which is used for a magnetic recording medium having a coercive force of 9000e or more.

(4)前記ギャップ部のフロント面反対側に、PbO:
’60−go重量%、B20.:1〜15重潰%、Si
O2:5〜20重量%含有する鉛ホウケイ酸ガラスの補
強材を有する上記(1)ないしく3)のいす相かに記載
の磁気ヘッド。
(4) On the opposite side of the front surface of the gap part, PbO:
'60-go weight %, B20. : 1 to 15 weight%, Si
The magnetic head according to any one of the chair phases (1) to 3) above, which has a reinforcing material of lead borosilicate glass containing 5 to 20% by weight of O2.

〈作用〉 本発明の磁気ヘッドは、記録時には、飽和磁束密度の小
さい低飽和磁束密度非晶質薄膜が磁気飽和する結果、こ
の薄膜がギャップの一部としてはたらくため、広ギャッ
プによる記録を行うことができ、しかも、高飽和磁束密
度合金薄膜から強力な磁束を磁気記録媒体に印加できる
ため、高い保磁力を有する媒体に有効な記録が行なえる
。 そして再生時には、磁気記録媒体からの/Ii洩磁
束が微小でありかつ低飽和磁束密度非晶質薄膜の透磁率
が大きいので低飽和磁束密度非晶質薄膜がコアの一部と
してはたらき、狭ギャップによる再生を行うことができ
る。
<Function> During recording, the magnetic head of the present invention is capable of recording with a wide gap because the amorphous thin film with a low saturation magnetic flux density is magnetically saturated and this thin film acts as part of the gap. Furthermore, since a strong magnetic flux can be applied to the magnetic recording medium from the high saturation magnetic flux density alloy thin film, effective recording can be performed on a medium having a high coercive force. During reproduction, the /Ii leakage magnetic flux from the magnetic recording medium is minute and the permeability of the low saturation magnetic flux density amorphous thin film is high, so the low saturation magnetic flux density amorphous thin film acts as a part of the core, and the narrow gap It is possible to perform playback using

また、本発明の磁気ヘッドでは、非磁性部を酸化ケイ素
の非磁性材で形成するため、非磁性部と金属との反応は
起こらない。
Further, in the magnetic head of the present invention, since the non-magnetic portion is formed of a non-magnetic material such as silicon oxide, no reaction between the non-magnetic portion and metal occurs.

従って、高飽和磁束密度合金薄膜や低飽和磁束密度非晶
質薄膜の磁気特性を劣化することはなく、再生ギャップ
が広がることも防止でき、さらに、記録、再生時に磁気
記録媒体を損傷することもない。
Therefore, the magnetic properties of high saturation magnetic flux density alloy thin films and low saturation magnetic flux density amorphous thin films are not degraded, the reproduction gap is prevented from widening, and furthermore, the magnetic recording medium is not damaged during recording and reproduction. do not have.

〈発明の具体的構成〉 本発明の磁気ヘッドの好適実施例を、第1図に示す。<Specific structure of the invention> A preferred embodiment of the magnetic head of the present invention is shown in FIG.

第1図に示す磁気ヘッドは、ギャップ部対向面に、コア
より低い飽和6競束富度を有する低飽和磁束密度非晶質
薄膜5が形成されている第1コア1と、第1コア1側の
ギャップ部対向面に、コアより高い飽和磁束密度を有す
る高飽和磁束密度合金薄膜7が形成されている第2コア
2とが酸化ケイ素の非磁性部6を介して接合一体化され
、リードライトコアが形成される。
The magnetic head shown in FIG. 1 includes a first core 1 on which a low saturation magnetic flux density amorphous thin film 5 having a saturation flux density lower than that of the core is formed on a surface facing the gap part; A second core 2, on which a high saturation magnetic flux density alloy thin film 7 having a saturation magnetic flux density higher than that of the core is formed on the opposite surface of the side gap part, is joined and integrated via a non-magnetic part 6 made of silicon oxide, and the lead A light core is formed.

また、第2コア2は、第3コア3と非磁性部63を介し
て接合一体され、イレーズコアが形成されている。
Further, the second core 2 is integrally joined to the third core 3 via the non-magnetic portion 63 to form an erase core.

ギャップ部のフロン1−面反対側には、磁気ヘッドの強
度を高(するため、補強材8が設りられている。
A reinforcing material 8 is provided on the opposite side of the gap portion from the front surface 1 in order to increase the strength of the magnetic head.

第1コアには、リードライトコイル9が巻回され、第3
コア3には、イレーズコイルlOが巻回されている。
A read/write coil 9 is wound around the first core, and a third
An erase coil lO is wound around the core 3.

本発明において、第1コア1、第2コア2、第3コア3
およびバックコア4はフェライ1−から構成されること
が好ましい。
In the present invention, the first core 1, the second core 2, the third core 3
It is also preferable that the back core 4 is composed of the ferrite 1-.

用いるフェライトに特に制限ばないが、Mn−Znフェ
ライトまたはN 1−Znフェライトを、目的に応じて
用いることが好ましい。
The ferrite used is not particularly limited, but it is preferable to use Mn-Zn ferrite or N1-Zn ferrite depending on the purpose.

Mn−Znフェライトとしては、Fe20350〜60
モル%程度、ZnO3〜 25モル%程度、残部が実質
的にMnOのものが好適である。
As Mn-Zn ferrite, Fe20350-60
It is preferable that the amount of ZnO is about 3 to 25 mol%, with the remainder being substantially MnO.

また、NL−Znフェライトは特に高周波領域において
優れた特性を示すものであり、好ましい組成としては、
Fe1O3が30〜60モル%、NiOが15〜50モ
ル%、ZnOが5〜40モル%程度のものである。
In addition, NL-Zn ferrite exhibits excellent properties especially in the high frequency range, and its preferred composition is as follows:
Fe1O3 is about 30 to 60 mol%, NiO is about 15 to 50 mol%, and ZnO is about 5 to 40 mol%.

第1コア1、第2コア2、第3コア3、およびバックコ
ア4の直流での飽和磁束密度は、好ましくは4,000
〜6,000G、より好ましくは4,500〜5,50
0Gとする。 飽和磁束密度が上記範囲未満であると、
インピーダンスが低くなるため再生感度が低下する他、
キュリー温度が低くなるため熱的安定性が低下してしま
う。 また、上記範囲を超えると、磁歪が増加して磁気
ヘッドとしての特性が悪化し、また、着磁し易(なる。
The DC saturation magnetic flux density of the first core 1, second core 2, third core 3, and back core 4 is preferably 4,000
~6,000G, more preferably 4,500~5,50
It is assumed to be 0G. If the saturation magnetic flux density is less than the above range,
In addition to reducing playback sensitivity due to lower impedance,
Thermal stability decreases because the Curie temperature decreases. Moreover, when the above range is exceeded, magnetostriction increases, the characteristics as a magnetic head deteriorate, and magnetization becomes easy.

第1コア1、第2コア2、第3コア3およびバックコア
4の500 kHzでの初透磁率は3.000〜5,0
00程度、保磁力は0.30e以下であることが好まし
い。
The initial magnetic permeability of the first core 1, second core 2, third core 3, and back core 4 at 500 kHz is 3.000 to 5.0
00, and the coercive force is preferably 0.30e or less.

高飽和磁束密度合金薄膜7は、記録時に密度の高い磁束
を発生させ、高い保磁力を有する曝気記録媒体に有効な
記録を行なうために設けられる。
The high saturation magnetic flux density alloy thin film 7 is provided to generate a high density magnetic flux during recording and to perform effective recording on an aerated recording medium having a high coercive force.

本発明において、高飽和磁束密度合金薄膜7は、Feお
よびSiを含有する合金から形成されることが好ましい
In the present invention, the high saturation magnetic flux density alloy thin film 7 is preferably formed from an alloy containing Fe and Si.

また、磁気ヘッド摺動面の偏摩耗を避けるために、後述
の低飽和磁束密度非晶質薄膜5と同程度の耐摩耗性を有
する合金であることが好ましい。
Further, in order to avoid uneven wear on the sliding surface of the magnetic head, it is preferable to use an alloy having wear resistance comparable to that of the low saturation magnetic flux density amorphous thin film 5 described later.

そして、高飽和磁束密度合金薄膜7の直流での飽和磁束
密度は、好ましくは9,000〜14.0OOG、より
好ましくは9,000〜11.0OOGとする。 飽和
磁束密度が上記範囲未満であると密度の高い磁束を発生
することができず、高保磁力の磁気記録記録媒体への記
録が困難となり、また、高密度記録にも不適当となる。
The DC saturation magnetic flux density of the high saturation magnetic flux density alloy thin film 7 is preferably 9,000 to 14.0OOG, more preferably 9,000 to 11.0OOG. If the saturation magnetic flux density is less than the above range, high-density magnetic flux cannot be generated, making it difficult to record on a high coercive force magnetic recording medium and making it unsuitable for high-density recording.

 上記範囲を超えると、磁歪が大幅に増加して透磁率が
著しく低下し、また、保磁力が数エルステッド以上に達
するため残留磁化が存在するようになり、記録減磁、S
/N劣化、記録電流の増大が生じてしまう。
When the above range is exceeded, magnetostriction increases significantly, magnetic permeability decreases significantly, and coercive force reaches several Oersteds or more, so residual magnetization exists, causing recording demagnetization and S
/N deterioration and increase in recording current occur.

また、500 kHzでの初透磁率は500〜3.00
0、特に1,000〜3,000程度、保磁力は0.2
0e以下であることが好ましい。
In addition, the initial magnetic permeability at 500 kHz is 500 to 3.00.
0, especially about 1,000 to 3,000, coercive force is 0.2
It is preferable that it is 0e or less.

このような高飽和磁束密度合金としては、Fe−Al2
−3i系合金(センダスト)Fe−Ga−Si系合金あ
るいはFe−Si合金が好ましい。
As such a high saturation magnetic flux density alloy, Fe-Al2
-3i alloy (sendust) Fe-Ga-Si alloy or Fe-Si alloy is preferred.

Fe−Aj2−3i系合金としては、センダストの他、
AJ22〜6重量%、Si6〜12重量%で残部Feで
あるもの、あるいはこれにCr等の添加元素を3重量%
程度以下含有するもの、Fe−Ga−3i系合金として
は、Ga5〜15重量%、Si7〜20重量%、残部F
eであるものが好ましく、Fe−Si合金としては、S
i0.5〜10重量%で残部Feであるものが好ましく
、特に、Si1〜6重量%で残部Feであるものが好ま
しい。
In addition to Sendust, Fe-Aj2-3i alloys include
22 to 6% by weight of AJ, 6 to 12% by weight of Si, and the balance is Fe, or 3% by weight of additional elements such as Cr
For Fe-Ga-3i alloys containing less than a certain amount, 5 to 15% by weight of Ga, 7 to 20% by weight of Si, and the balance F.
Preferably, the Fe-Si alloy is S
It is preferable that the i is 0.5 to 10% by weight and the balance is Fe, and particularly preferably the Si is 1 to 6% by weight and the balance is Fe.

なお高飽和磁束密度合金薄膜7には、非晶質の磁性材を
用いることもできる。
Note that an amorphous magnetic material can also be used for the high saturation magnetic flux density alloy thin film 7.

高飽和磁束密度合金薄膜7の膜厚は、好ましくは0.2
〜5−1さらに好ましくは0.5〜3−である。
The film thickness of the high saturation magnetic flux density alloy thin film 7 is preferably 0.2
-5-1, more preferably 0.5-3-.

膜厚が上記範囲未満であると、高飽和磁束密度合金薄膜
全体の体積が不足して飽和し易くなり、上記のような作
用を十分に果たすことが困難となる。 また、上記範囲
を超えると、高飽和磁束密度合金薄膜の摩耗が大きくな
る他、渦電流損失が増大してしまう。
If the film thickness is less than the above range, the volume of the high saturation magnetic flux density alloy thin film as a whole becomes insufficient and saturation is likely to occur, making it difficult to sufficiently achieve the above effects. Moreover, when the above range is exceeded, not only the wear of the high saturation magnetic flux density alloy thin film increases, but also the eddy current loss increases.

このような高飽和磁束密度合金薄膜を有することにより
、本発明の磁気ヘッドは保磁力9000e以上、特に9
00〜1.5000eの磁気記録媒体に対し有効な記録
を行なうことができる。
By having such a high saturation magnetic flux density alloy thin film, the magnetic head of the present invention has a coercive force of 9000e or more, especially 9000e or more.
Effective recording can be performed on magnetic recording media of 0.00 to 1.5000 e.

低飽和磁束密度非晶質薄膜5は、記録時に後述する非磁
性部6とともにギャップとしてはたらき、再生時に第1
コア1の一部としてはだら(ものである。
The low saturation magnetic flux density amorphous thin film 5 functions as a gap together with a non-magnetic portion 6 (described later) during recording, and serves as a gap during reproduction.
As a part of core 1, it is a dara.

低飽和磁束密度非晶質薄III 5の直流での飽和磁束
密度は、1,500〜3,0OOG、好ましくけ1,8
00〜2,500Gとする。
Low saturation magnetic flux density The saturation magnetic flux density of amorphous thin III 5 at direct current is 1,500 to 3,0OOG, preferably 1,8
00 to 2,500G.

飽和磁束密度が上記範囲未満である低飽和磁束密度非晶
質薄膜はキュリー点が低いため熱的に不安定であり、温
度特性が不安定となる。
A low saturation magnetic flux density amorphous thin film whose saturation magnetic flux density is less than the above range has a low Curie point and is therefore thermally unstable, resulting in unstable temperature characteristics.

また、この場合、分解能が低下してしまう。Furthermore, in this case, the resolution will decrease.

なお、分解能とは、例えば、1fの出力をVHt、2f
の出力をV 21としたとき、(v zr/ v +r
) X 100 [%]で表わされるものである。
Note that the resolution is, for example, converting the output of 1f to VHt, 2f
When the output of is V21, (v zr/ v +r
) X 100 [%].

さらに、この場合、オーバーライド特性値はきわめて高
い値が得られるが、逆にオーバーライ1〜特性が高過ぎ
るため、この磁気ヘッドにより記録を行なった媒体に対
し、他の磁気ヘッドでオーバーライド記録を行なった場
合、オバーライトによる消去が困難となってしまう。
Furthermore, in this case, an extremely high override characteristic value can be obtained, but conversely, since the override 1~ characteristic is too high, override recording is performed with another magnetic head on the medium recorded with this magnetic head. In this case, erasing by overwriting becomes difficult.

飽和磁束密度が上記範囲を超えるとオーバライド特性が
低下する。
If the saturation magnetic flux density exceeds the above range, the override characteristics will deteriorate.

低飽和磁束密度非晶質薄膜5の500 kHzでの初透
磁率は500〜3,000、特に1.000〜3,00
0程度、保磁力は0. 20e以下であることが好まし
い。 初透磁率が上記範囲未満であると、再生時に低飽
和磁束密度非晶質薄膜5が第2コア2の一部としてはた
らくことが困難となり、狭ギヤツプ磁気ヘッドとしての
性能が期待できないからである。 なお、初透磁率が高
くなるほど再生出力が向上するので、低飽和磁束密度非
晶質薄膜5の初透磁率は高いほど好ましいが、後述する
組成を有する低飽和磁束密度非晶質薄膜5は、初透磁率
として1,000〜3,000程度が得られる。
The initial magnetic permeability of the low saturation magnetic flux density amorphous thin film 5 at 500 kHz is 500 to 3,000, particularly 1.000 to 3,00.
0, coercive force is 0. It is preferable that it is 20e or less. If the initial magnetic permeability is less than the above range, it will be difficult for the low saturation magnetic flux density amorphous thin film 5 to function as a part of the second core 2 during reproduction, and the performance as a narrow gap magnetic head cannot be expected. . Note that the higher the initial magnetic permeability, the higher the reproduction output, so it is preferable that the initial magnetic permeability of the low saturation magnetic flux density amorphous thin film 5 is higher. However, the low saturation magnetic flux density amorphous thin film 5 having the composition described below is An initial permeability of about 1,000 to 3,000 can be obtained.

また、本発明における低飽和磁束密度非晶質薄膜5は、
薄膜化しても0.20e以下の低保磁力が得られる。
Moreover, the low saturation magnetic flux density amorphous thin film 5 in the present invention is
Even if the film is made thinner, a low coercive force of 0.20e or less can be obtained.

本発明において、低飽和磁束密度非晶質薄膜5は、CO
と、Fe、NiおよびCrの1種以上と、Si、B、P
およびCの1種以上とを含有する組成、または、Coと
、Zr、Hf、Ti、Y、SiおよびBの1種以上と、
■、Nb、Ta、Cr、MOおよびWの1種以上とを含
有する組成であることが好ましい。 このにつな組成に
すると、非晶質化および所望の特性を得るのが容易とな
る。
In the present invention, the low saturation magnetic flux density amorphous thin film 5 is CO
, one or more of Fe, Ni and Cr, and Si, B, P
and one or more of C, or Co and one or more of Zr, Hf, Ti, Y, Si and B,
(2) It is preferable that the composition contains one or more of Nb, Ta, Cr, MO, and W. This moderate composition facilitates amorphization and obtaining desired properties.

Coと、Fe、NiおよびCrの1種以上と、Si、B
、PおよびCの1種以上とを含有する低飽和磁束密度非
晶質薄膜5は、前記の6H気特性を得る点では、特に下
記式で示される原子組成が好ましい。
Co, one or more of Fe, Ni and Cr, Si, B
The low saturation magnetic flux density amorphous thin film 5 containing one or more of , P, and C preferably has an atomic composition represented by the following formula in particular from the viewpoint of obtaining the above-mentioned 6H characteristics.

式  (GO+−p−q−r  Fe、Ntq  Cr
r)l−xL前記式において、MはSi、B、Pおよび
C(7)1種以上を表わし、0.05≦x≦0.3.0
≦p≦0.15、0≦q≦0.55、0≦r≦0.1で
ある。 この場合、0,04≦p+q+r≦0.2であ
ることが好ましい。
Formula (GO+-p-q-r Fe, Ntq Cr
r) l-xL In the above formula, M represents one or more of Si, B, P, and C (7), and 0.05≦x≦0.3.0
≦p≦0.15, 0≦q≦0.55, and 0≦r≦0.1. In this case, it is preferable that 0.04≦p+q+r≦0.2.

また、Mは、Si+B、B+PあるいルJP十Cを含む
2〜4種の組み合わせであることが好ましい。 この場
合、各元素の含有比は、任意である。
Moreover, it is preferable that M is a combination of 2 to 4 types including Si+B, B+P, or JP+C. In this case, the content ratio of each element is arbitrary.

なお、前記の組成中には、さらに、・T i、Mn、R
u、Rh、Pt、Os、Nb、Zr、Hf、Ta、W等
の遷移金属元素の1種以上を、全体の10重量%以下含
有し7てもよい。
In addition, in the above composition, ・Ti, Mn, R
It may contain at least 10% by weight of one or more transition metal elements such as u, Rh, Pt, Os, Nb, Zr, Hf, Ta, and W.

また、Ge、Aβ等のメタロイド元素を、全体の10重
量%以下含有してもよい。
Further, metalloid elements such as Ge and Aβ may be contained in an amount of 10% by weight or less of the total weight.

前記のような組成とすることにより、低飽和磁束密度非
晶質薄膜の耐摩耗性が向上し、また、成膜速度も向上す
る。
By having the composition as described above, the wear resistance of the low saturation magnetic flux density amorphous thin film is improved, and the film formation rate is also improved.

また、Coと、Zr%Hf、Ti%Y、SiおよびBの
1種以上と、■、N b、Ta、Cr、MOおよびWの
1種以上とを含有する低飽和磁束密度非晶質薄膜5の各
元素の割合は、前記の磁気特性を得る点では、特に下記
のようであることが好ましい。
In addition, a low saturation magnetic flux density amorphous thin film containing Co, one or more of Zr%Hf, Ti%Y, Si and B, and one or more of Nb, Ta, Cr, MO and W The ratio of each element in No. 5 is preferably as shown below in order to obtain the above-mentioned magnetic properties.

Coの含有量は、好ましくは70〜80at%、より好
ましくは72〜78at%である。
The Co content is preferably 70 to 80 at%, more preferably 72 to 78 at%.

なお、Coの一部がFe、NiおよびMnによって置換
されていてもよい。 これらの元素のCoに対する置換
量は、合計で30at%以下であることが好ましい。
Note that a part of Co may be replaced with Fe, Ni, and Mn. It is preferable that the amount of these elements substituted for Co is 30 at % or less in total.

Zr、Hf、Ti、Y、Si、Bの群から選ばれる元素
の含有量は、好ましくは30at%以下、特に5〜25
at%である。
The content of the element selected from the group of Zr, Hf, Ti, Y, Si, and B is preferably 30 at% or less, particularly 5 to 25 at%.
It is at%.

また、■、Nb、Ta、Cr、Mo、Wの群から選ばれ
る元素の含有量は、好ましくは30at%以下、特に5
〜25at%である。
Further, the content of an element selected from the group of ■, Nb, Ta, Cr, Mo, and W is preferably 30 at% or less, especially 5
~25at%.

低飽和磁束密度非晶質薄膜5の膜厚は、好ましくは0.
3〜5−1さらに好ましくは0.6〜2鱗である。
The film thickness of the low saturation magnetic flux density amorphous thin film 5 is preferably 0.
3 to 5-1 scales, more preferably 0.6 to 2 scales.

膜厚が0.3−未満であると、記録時と再生時の有効ギ
ャップ長の差が小さ(なり、記録特性および再生特性の
両方を満足することはできない。 また、膜厚が5戸を
超えると、記録時の有効ギャップ長が広くなりすぎ、記
録に必要なパワーが増大してしまう。
If the film thickness is less than 0.3, the difference in effective gap length during recording and playback will be small (and it will not be possible to satisfy both recording and playback characteristics. If it exceeds this, the effective gap length during recording will become too wide, and the power required for recording will increase.

上記のような高飽和磁束密度合金薄膜7および低飽和磁
束密度非晶質薄膜5は、スパッタ法、蒸着法、CVD法
等の公知の各種気相成膜法により形成されることが好ま
しく、特にスパッタ法により形成されることが好ましい
The high saturation magnetic flux density alloy thin film 7 and the low saturation magnetic flux density amorphous thin film 5 described above are preferably formed by various known vapor phase deposition methods such as sputtering, vapor deposition, and CVD. It is preferable to form by sputtering method.

成膜されたこれらの薄膜に誘導磁気異方性が生じた場合
、静磁界または回転磁界中で結晶温度以下の温度にて熱
処理することにより、異方性を除去することができる。
If induced magnetic anisotropy occurs in these deposited thin films, the anisotropy can be removed by heat treatment at a temperature below the crystal temperature in a static magnetic field or a rotating magnetic field.

第1コア1、第2コア2、第3コア3、バックコア4、
高飽和磁束密度合金薄膜7および低飽和磁束密度非晶質
薄膜5の飽和磁束密度が上記範囲内であれば、磁気ヘッ
ドとして高い分解能が得られる。 また、オーバーライ
ド特性も一30dB以下で、−40dB以上の良好な値
が得られるため、本発明の磁気ヘッドは、オーバーライ
ド記録を良好に行なうことができる。
1st core 1, 2nd core 2, 3rd core 3, back core 4,
If the saturation magnetic flux densities of the high saturation magnetic flux density alloy thin film 7 and the low saturation magnetic flux density amorphous thin film 5 are within the above ranges, high resolution can be obtained as a magnetic head. Further, since good values of override characteristics of -30 dB or less and -40 dB or more can be obtained, the magnetic head of the present invention can perform override recording well.

非磁性部6は、再生時にギャップとしてはたらくもので
あり、酸化ケイ素の非磁性材により形成される。
The non-magnetic portion 6 functions as a gap during reproduction, and is made of a non-magnetic material such as silicon oxide.

酸化ケイ素の非磁性材を用いると、金属との発応を防止
でき、良好な記録、再生特性を得ることができる。
When a nonmagnetic material of silicon oxide is used, reaction with metal can be prevented and good recording and reproducing characteristics can be obtained.

また、イレーズギャップとしてはたらく非磁性部63ば
、SiO□、ガラス等の非磁性物質または非磁性空間か
ら形成される。
Further, the non-magnetic portion 63 serving as an erase gap is formed of a non-magnetic material such as SiO□ or glass or a non-magnetic space.

非磁性部6の厚さ、すなわち、再生時のギャップ長は、
好ましくは0.1〜2.0μs、より好ましくは0.1
〜1.O叩、さらに好ましくは0.1〜0.4鱗程度が
好ましい。 この範囲であれば、高密度記録が良好に行
なえる。
The thickness of the non-magnetic part 6, that is, the gap length during reproduction, is
Preferably 0.1 to 2.0 μs, more preferably 0.1
~1. It is preferable to have a roughness of 0.0, more preferably about 0.1 to 0.4 scales. Within this range, high-density recording can be performed satisfactorily.

本発明においては、磁気ヘッドの強度を高くするため、
補強材8を用いる。
In the present invention, in order to increase the strength of the magnetic head,
A reinforcing material 8 is used.

補強材8には、pboを60〜80重量%、B20.を
1〜15重量%、S i Ozを5〜20重量%含有す
る鉛ホウケイ酸ガラスを用いることが好ましい。
The reinforcing material 8 contains 60 to 80% by weight of PBO and B20. It is preferable to use lead borosilicate glass containing 1 to 15% by weight of SiOz and 5 to 20% by weight of SiOz.

特に、pboを65〜75重量%、B20゜を4〜13
重量%、SiO□を6〜15重量%含有することが好ま
しい。
In particular, pbo is 65-75% by weight and B20° is 4-13% by weight.
It is preferable to contain 6 to 15% by weight of SiO□.

前記範囲以外では、ガラスの作業点Tw(作業点Twと
はガラスの粘度が10’ポアズとなる温度をいう。)が
高くなり、溶着の際、非晶質薄膜を結晶化してしまう。
Outside the above range, the working point Tw of the glass (working point Tw refers to the temperature at which the viscosity of the glass becomes 10' poise) becomes high, and the amorphous thin film is crystallized during welding.

また、鉛ホウケイ酸ガラスの補強材8は、前記組成に加
えて、Aρiox、ZnoおよびB i z Osのう
ち少な(とも1種以上を含有することが好ましい。 こ
の場合、各物質の割合は、AQ−Osは、5重量%以下
、好ましくは3重量%以下、特に好ましくは0.5〜3
重量%、ZnOは、12重量%以下、好ましくは、8重
量%以下、特に好ましくは2〜8重量%、BizOiは
15重量%以下、好ましくは10重量%以下、特に好ま
しくは3〜10重電%とすることが好ましい。
In addition to the above composition, the reinforcing material 8 of lead borosilicate glass preferably contains at least one of Aρiox, Zno, and B i z Os. In this case, the proportion of each substance is as follows: AQ-Os is 5% by weight or less, preferably 3% by weight or less, particularly preferably 0.5 to 3% by weight.
% by weight, ZnO is 12% by weight or less, preferably 8% by weight or less, particularly preferably 2 to 8% by weight, BizOi is 15% by weight or less, preferably 10% by weight or less, particularly preferably 3 to 10% by weight. % is preferable.

前記の組成を有する鉛ホウケイ酸ガラスの作業点T w
は450〜580℃となる。 従って、溶着の際、非晶
質薄膜の結晶化は、はとんど生じることはな(、このよ
うな鉛ホウケイ酸ガラスを用いることにより、非晶質薄
膜の6競気特性を害することなく溶着を行うことができ
る。
Working point T w of lead borosilicate glass having the above composition
is 450 to 580°C. Therefore, crystallization of the amorphous thin film rarely occurs during welding (by using such lead borosilicate glass, it is possible to reduce the crystallization of the amorphous thin film without impairing the 6 competitive properties of the amorphous thin film. Welding can be performed.

さらに、前記鉛ホウケイ酸ガラスには、Na2Oが6重
量%以下、)く20が3重量%以下、NiOが2重量%
以下、CrOが2重里%以下、Cooが2重量%以下、
Fez Osが2重量%以下含有さねていてもよい。
Furthermore, the lead borosilicate glass contains 6% by weight or less of Na2O, 3% by weight or less of 20, and 2% by weight of NiO.
Below, CrO is 2 weight% or less, Coo is 2 weight% or less,
Fez Os may be contained in an amount of 2% by weight or less.

前記の鉛ボウケイ酸ガラスは常法により製造し、溶着は
、溶着温度を作業点近辺とし、通富の方法により行う。
The lead borosilicate glass described above is manufactured by a conventional method, and the welding is carried out by the method of Tsutomi at a welding temperature near the working point.

なお、鉛ホウケイ酸ガラスも金属と反応するが、補強材
の溶着部分は、ギャップ部のフロント面と反対側である
からほとんど影響はない。
Note that lead borosilicate glass also reacts with metal, but since the welded portion of the reinforcing material is on the opposite side of the front surface of the gap, there is almost no effect.

第1コア1に巻回されるリートライトコ・イル9や、第
3コア3に巻回されるイ1ノーズコイル10は、第1図
ではボビンの装着により設置されているが、コアに直接
巻回してもよい。
The reit light coil 9 wound around the first core 1 and the nose coil 10 wound around the third core 3 are installed by attaching a bobbin in Fig. 1, but they are directly attached to the core. It may be rolled.

本発明の磁気ヘッドは、必要に応じスライダーと一体化
され、組立てられヘッドアセンブリーとされる。
The magnetic head of the present invention is integrated with a slider as necessary and assembled into a head assembly.

そして、いわゆるラミネートタイプやバルクタイプ等の
トンネルイレーズ型あるいはイレーズヘッドを有しない
リードライト型などのオバーライト記録を行なうフロッ
ピーヘッド、モノリシック型やコンポジット型の浮上型
の81儲機用ヘッドなどの各種磁気ヘッドとして用いら
れる。
We also use various magnetic heads such as floppy heads that perform overwrite recording such as tunnel erase types such as so-called laminate types and bulk types, or read/write types that do not have an erase head, and heads for 81 recording machines such as monolithic types and composite floating types. Used as a head.

また上記の本発明の磁気ヘッドを用いて、公知の種々の
方式のオーバーライド記録を行なうことができる。
Further, by using the magnetic head of the present invention described above, override recording of various known methods can be performed.

〈実施例〉 以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明をさらに詳
細に説明する。
<Example> Hereinafter, the present invention will be explained in further detail by giving specific examples of the present invention.

実施例1 第1図に示すように、ギャツ・ブ部対向面に低飽和磁束
畜度非晶質薄11115が形成されている第1コア1と
、第1コア1側のギャップ部対向面に高飽和磁束密度合
金薄膜7が形成されている第2コア2とをS i O2
からなる非磁性部6を介して接合一体化し、第2コア2
は、第3コア3どもS i O2からなる非1n−i部
63を介して接合一体化し、コアブロックの下方側部に
バックコア4を接合し、ギャップ部のフロント面反対側
には、鉛ボウケイ酸ガラスの補強材8を有する磁気ヘッ
ドサンプルを製造した。 また比較のため非磁性部6お
よび63をガラスにより形成したものや、補強材を有し
ていないものも製造した。 なお、比較用磁気へッドザ
ンブルの非磁性部に用いたガラスの組成は、補強材8と
同一とした。
Example 1 As shown in FIG. 1, the first core 1 has a low saturation magnetic flux density amorphous thin film 11115 formed on the surface facing the gap portion, and the surface facing the gap portion on the first core 1 side. The second core 2 on which the high saturation magnetic flux density alloy thin film 7 is formed is S i O2
The second core 2
The third core 3 is joined and integrated through a non-1n-i part 63 made of S i O2, and the back core 4 is joined to the lower side of the core block, and on the opposite side of the front surface of the gap part, lead is A magnetic head sample having a reinforcing material 8 of borosilicate glass was manufactured. For comparison, we also manufactured one in which the non-magnetic parts 6 and 63 were made of glass, and one without a reinforcing material. The composition of the glass used for the non-magnetic part of the comparative magnetic head assembly was the same as that of the reinforcing material 8.

補強材8として用いた鉛ホウケイ酸ガラスの組成は、重
量百分率で、70Pb011Ba Os−Losing
−3Aff、0゜−6ZnOであり、ガラスの作業点T
wば、530℃であった。
The composition of the lead borosilicate glass used as the reinforcing material 8 is 70Pb011Ba Os-Losing in weight percentage.
−3Aff, 0°−6ZnO, and the working point T of the glass
The temperature was 530°C.

高飽和磁束密度合金薄膜7の組成、直流での飽和磁束密
度、初透磁率および保磁力を表1に示す。 なお、成膜
はスパッタ法により行ない、膜厚は2.opmとした。
Table 1 shows the composition, DC saturation magnetic flux density, initial magnetic permeability, and coercive force of the high saturation magnetic flux density alloy thin film 7. The film was formed by sputtering, and the film thickness was 2. It was set as opm.

また、低飽和磁束密度非晶質薄膜5の組成、直流での飽
和磁束密度、明透li鼓率、IRla力およびキュリー
点を表1に示す。 なお、成膜はスパッタ法により行な
い、膜厚は1.0戸とした。
Further, Table 1 shows the composition of the low saturation magnetic flux density amorphous thin film 5, the saturation magnetic flux density at direct current, the clear li-temperature, the IRla force, and the Curie point. Note that the film was formed by sputtering, and the film thickness was 1.0 mm.

第1コア1、第2コア2、第3コア3およびバックコア
4の材質はMn−Znフェライトとじ、直流での飽和磁
束密度+:J: 4500 G 、初透磁率は3000
、保磁力[:J:0.10eであった。
The material of the first core 1, second core 2, third core 3, and back core 4 is Mn-Zn ferrite binding, DC saturation magnetic flux density +: J: 4500 G, and initial magnetic permeability is 3000.
, coercive force [:J:0.10e].

本発明および比較用の磁気ヘッドの非磁性部の厚さは、
非磁性部6は0.4鱗、非磁性部63は2.5μsとし
た。 また、リードライトコイル9のコイルターン数は
100X2ターン、イレーズコイル10のコイルターン
数は100ターンとした。
The thickness of the non-magnetic portion of the magnetic heads of the present invention and comparison is as follows:
The non-magnetic part 6 was set to 0.4 scale, and the non-magnetic part 63 was set to 2.5 μs. Further, the number of coil turns of the read/write coil 9 was 100×2 turns, and the number of coil turns of the erase coil 10 was 100 turns.

この磁気ヘッドと、保磁力が9000eのフロッピーデ
ィスクとを用いて、トラック幅1201JJ11にて下
記の特性を測定した。
Using this magnetic head and a floppy disk with a coercive force of 9000e, the following characteristics were measured at a track width of 1201JJ11.

なお、測定に際しては、低飽和磁束密度非晶質薄膜を、
フロッピーディスク進行側とした。
In addition, during the measurement, a low saturation magnetic flux density amorphous thin film was used.
The floppy disk was used as a progress side.

(オーバーライド特性) 1.25MHzの1f信号を記録し、次いでこの上から
2.5MHzの2f信号を重ね書きした。
(Override characteristics) A 1.25 MHz 1f signal was recorded, and then a 2.5 MHz 2f signal was overwritten thereon.

2f信号の出力に対するif倍信号出力を算出し、オー
バーライド特性を評価した。
The signal output multiplied by if with respect to the output of the 2f signal was calculated, and the override characteristics were evaluated.

なお、この値が一30dBを超える場合、オーバーライ
ド特性としては不十分である。
Note that if this value exceeds 130 dB, it is insufficient as an override characteristic.

また、この値が一40dB未満である場合、他の磁気ヘ
ッドを用いたときとの互換性がとれない。
Further, if this value is less than 140 dB, compatibility with other magnetic heads cannot be achieved.

(分解能) 1.25MHzの1f信号を記録し、この信号の出力を
vlfとした。 また、別に、2.5MHzの2f信号
を記録し、この出力をV 2fとした。 これらから、
下記の式により分解能を算出した。
(Resolution) A 1f signal of 1.25 MHz was recorded, and the output of this signal was defined as vlf. Separately, a 2.5 MHz 2f signal was recorded, and this output was designated as V 2f. From these,
The resolution was calculated using the following formula.

式    CVxt/ V re)  X  1 00
  [%]なお、分解能が70%未満では、実用に耐え
ない。
Formula CVxt/Vre) X 1 00
[%] Note that a resolution of less than 70% is not practical.

表1に、結果を示す。Table 1 shows the results.

表1より、非磁性部をガラスで形成した比較用の磁気へ
ッドザンブルNo、7およびN c)、8ば、薄膜の磁
気特性が劣化していることが明らかであり、再生時のギ
ャップが広くなった結果、記録、再生特性が低減してい
ることが分る。 さらに、No、7およびNo、8を用
いて記録、再生を行った磁気記録媒体は、走査型電子顕
微鏡により観察した結果、表面に損傷を受けていること
が分った。 なお、本発明を用いた磁気記録媒体の表面
は、使用前後で変化はみられなかった。
From Table 1, it is clear that the magnetic properties of the thin films of comparative magnetic head samples No. 7 and Nc) and No. 8, whose non-magnetic parts were made of glass, have deteriorated, and the gap during playback is wide. As a result, it can be seen that the recording and reproducing characteristics are reduced. Further, as a result of observing the magnetic recording media on which recording and reproduction were performed using No. 7 and No. 8 using a scanning electron microscope, it was found that the surfaces of the magnetic recording media were damaged. Note that no change was observed in the surface of the magnetic recording medium using the present invention before and after use.

また、補強材を有していない比較用の磁気ヘッドサンプ
ルNo、7はその製造工程に於いて半数量子がギャップ
部より壊れてしまい、特性を評価できるヘッドとなるの
はごくわずかであった。
Furthermore, in the comparative magnetic head sample No. 7, which did not have a reinforcing material, half of the quanta were broken at the gap portion during the manufacturing process, and only a small number of the heads were able to be evaluated for their characteristics.

〈発明の効果〉 本発明の磁気ヘッドは、コアのギャップ部対向面に高飽
和磁束密度合金薄膜と、低飽和磁束密度非晶質薄膜とを
有し、分解能およびオーバーライド特性の両者を満足で
きるものである。
<Effects of the Invention> The magnetic head of the present invention has a high saturation magnetic flux density alloy thin film and a low saturation magnetic flux density amorphous thin film on the opposing surfaces of the gap portion of the core, and can satisfy both resolution and override characteristics. It is.

まl゛二、本発明では非磁性部を酸化ケイ素の非磁性+
Aにより形成するため、金属との反応を防止することが
できる。
Second, in the present invention, the non-magnetic part is made of silicon oxide, which is non-magnetic.
Since it is formed from A, reaction with metal can be prevented.

従って、高飽和磁束密度合金薄膜や低飽和磁束密度非晶
質薄膜の磁気特性を劣化することはなく、再生ギャップ
が広がることも防止できる。 この結果、正確なギャッ
プ長が確保さね、良好な記録、再生特性を得ることがで
きる。
Therefore, the magnetic properties of the high saturation magnetic flux density alloy thin film and the low saturation magnetic flux density amorphous thin film are not deteriorated, and the reproduction gap can be prevented from widening. As a result, an accurate gap length can be ensured and good recording and reproduction characteristics can be obtained.

さらに、記録、再生の際、磁気記録媒体の損傷や減磁も
防止することができる。
Furthermore, damage and demagnetization of the magnetic recording medium can be prevented during recording and reproduction.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明の磁気ヘッドの1実施例を示す側面図
である。 第2図は、従来の磁気ヘッドを示す部分側面図である。 符号の説明 1・・・第1コア 2・・・第2コア 3・・・第3コア 4・・・バックコア 5・・・低飽和磁束密度非晶質薄膜 6・・・酸化ケイ素の非磁性部 63・・・非磁性部 7・・・高飽和磁束密度合金薄膜 8・・・補強材 9・・・リードライトコイル 10・・・イレーズコイル 15・・・酸化物系軟磁性薄膜 16・・・非磁性部 17・・・高飽和磁束密度磁性層 F[0,1 特許出願人 ティーデイ−ケイ株式会社代  理  人
  弁理士   石  井  陽  −k′Q′h・−
1ゆミニ 手続補正書 (自発) 1、事件の表示 昭和63年特許願第328520号 2、発明の名称 磁気ヘッド 3、補正をする者 事件との関係   特許出願人 名  称  ティーデイ−ケイ株式会社4、代理人 住  所  〒113 東京都文京区湯島3丁目23番1号 天神弥栄興産ビル3階 2S839−0367  Fax、839−0327氏
  名  (8286)弁理士 石 井 陽 −1′、
I−j 5、補正の対象                  
 ・ソーニ明細書の「特許請求の範囲」および 「発明の詳細な説明」の各欄 6、補正の内容 (1)明細書の「特許請求の範囲」を別紙のとおり訂正
する。 (2)明細書の第8頁第5行の「保持力」を「保磁力」
に訂正する。 (3)同第17頁第9行のrMOJを「MO」に訂正す
る。 (4)同第18頁下から第2行のrMOJを「MO」に
訂正する。 2、特許請求の範囲 (1)ギャップ部対向面にコアより低い飽和磁束密度を
有する低飽和磁束密度非晶質薄膜が形成されている第1
コアと、ギャップ部対向面に、コアより高い飽和磁束密
度を有する高飽和磁束密度合金薄膜が形成されている第
2コアとを少なくとも有し、前記低飽和磁束密度非晶質
薄膜の飽和磁束密度が、1500〜3000Gであり、
前記第1コアおよび第2コアが、酸化ケイ素の非磁性部
を介して接合一体化されていることを特徴とする磁気ヘ
ッド。 (2)前記高飽和磁束密度合金薄膜の飽和磁束密度が、
9000〜14000Gである請求項1に記載の磁気ヘ
ッド (3) LL229000e以上の磁気記録媒体に対し
用いられる請求項1または2に記載の磁気ヘッド。 (4)前記ギャップ部のフロント面反対側に、PbO:
 60〜80重量%、13zOs:1〜15重量%、S
iO2:5〜20重量%含有する鉛ホウケイ酸ガラスの
補強材を有する請求項1ないし3のいずれかに記載の磁
気ヘッド。
FIG. 1 is a side view showing one embodiment of the magnetic head of the present invention. FIG. 2 is a partial side view showing a conventional magnetic head. Explanation of symbols 1...First core 2...Second core 3...Third core 4...Back core 5...Low saturation magnetic flux density amorphous thin film 6...Non-silicon oxide Magnetic part 63...Nonmagnetic part 7...High saturation magnetic flux density alloy thin film 8...Reinforcement material 9...Read/write coil 10...Erase coil 15...Oxide-based soft magnetic thin film 16... ...Nonmagnetic portion 17...High saturation magnetic flux density magnetic layer F[0,1 Patent applicant: TDC Co., Ltd. Agent Patent attorney: Yo Ishii -k'Q'h-
1 Yumini procedural amendment (voluntary) 1. Indication of the case Patent Application No. 328520 of 1988 2. Name of the invention Magnetic head 3. Relationship with the case of the person making the amendment Name of the patent applicant Title TDC Co., Ltd. 4. Agent address 2S, 3rd floor, Tenjin Yasakakosan Building, 3-23-1 Yushima, Bunkyo-ku, Tokyo 113 839-0367 Fax, 839-0327 Name (8286) Patent attorney Yo Ishii -1';
I-j 5. Subject of correction
・Contents of amendments to columns 6 of "Claims" and "Detailed Description of the Invention" of the Sohni Specification (1) The "Claims" of the specification will be corrected as shown in the attached sheet. (2) “Holding force” on page 8, line 5 of the specification is “coercive force”
Correct. (3) Correct rMOJ on page 17, line 9 to "MO". (4) Correct rMOJ in the second line from the bottom of page 18 to "MO". 2. Scope of Claims (1) A first device in which a low saturation magnetic flux density amorphous thin film having a saturation magnetic flux density lower than that of the core is formed on the opposing surface of the gap portion.
a core, and at least a second core having a high saturation magnetic flux density alloy thin film having a higher saturation magnetic flux density than the core formed on a surface facing the gap portion, and the saturation magnetic flux density of the low saturation magnetic flux density amorphous thin film. is 1500-3000G,
A magnetic head characterized in that the first core and the second core are joined and integrated via a non-magnetic portion of silicon oxide. (2) The saturation magnetic flux density of the high saturation magnetic flux density alloy thin film is
3. The magnetic head according to claim 1, which has a power of 9,000 to 14,000 G. (3) The magnetic head according to claim 1, which is used for a magnetic recording medium of LL229,000e or higher. (4) On the opposite side of the front surface of the gap part, PbO:
60-80% by weight, 13zOs: 1-15% by weight, S
4. The magnetic head according to claim 1, further comprising a lead borosilicate glass reinforcing material containing 5 to 20% by weight of iO2.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)ギャップ部対向面に、コアより低い飽和磁束密度
を有する低飽和磁束密度非晶質薄膜が形成されている第
1コアと、ギャップ部対向面に、コアより高い飽和磁束
密度を有する高飽和磁束密度合金薄膜が形成されている
第2コアとを少なくとも有し、前記低飽和磁束密度非晶
質薄膜の飽和磁束密度が、1500〜3000Gであり
、前記第1コアおよび第2コアが、酸化ケイ素の非磁性
部を介して接合一体化されていることを特徴とする磁気
ヘッド。
(1) A first core having a low saturation magnetic flux density amorphous thin film having a saturation magnetic flux density lower than that of the core formed on the surface facing the gap portion, and a first core having a low saturation magnetic flux density amorphous thin film having a saturation magnetic flux density higher than that of the core formed on the surface facing the gap portion; a second core on which a saturation magnetic flux density alloy thin film is formed, the saturation magnetic flux density of the low saturation magnetic flux density amorphous thin film is 1500 to 3000 G, and the first core and the second core are A magnetic head characterized by being integrally bonded via a non-magnetic part of silicon oxide.
(2)前記高飽和磁束密度合金薄膜の飽和磁束密度が、
9000〜14000Gである請求項1に記載の磁気ヘ
ッド
(2) The saturation magnetic flux density of the high saturation magnetic flux density alloy thin film is
The magnetic head according to claim 1, which has a power of 9000 to 14000G.
(3)保持力9000e以上の磁気記録媒体に対し用い
られる請求項1または2に記載の磁気ヘッド。
(3) The magnetic head according to claim 1 or 2, which is used for a magnetic recording medium having a coercive force of 9000e or more.
(4)前記ギャップ部のフロント面反対側に、PbO:
60〜80重量%、B_2O_3:1〜15重量%、S
iO_2:5〜20重量%含有する鉛ホウケイ酸ガラス
の補強材を有する請求項1ないし3のいずれかに記載の
磁気ヘッド。
(4) On the opposite side of the front surface of the gap part, PbO:
60-80% by weight, B_2O_3:1-15% by weight, S
4. The magnetic head according to claim 1, further comprising a lead borosilicate glass reinforcing material containing 5 to 20% by weight of iO_2.
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