JPH02158146A - Icカード用モジュールの製造方法 - Google Patents
Icカード用モジュールの製造方法Info
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- JPH02158146A JPH02158146A JP63313457A JP31345788A JPH02158146A JP H02158146 A JPH02158146 A JP H02158146A JP 63313457 A JP63313457 A JP 63313457A JP 31345788 A JP31345788 A JP 31345788A JP H02158146 A JPH02158146 A JP H02158146A
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Classifications
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
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- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
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- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
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- H01L2224/4809—Loop shape
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- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
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- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
Landscapes
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- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明はICカードに埋設されるICカード用モジュ
ールの製造法に関するものである。
ールの製造法に関するものである。
従来の技術
従来、ICカード用モジュールは、第13図に見られる
ようなものであった。(例えば、特開昭63−1889
64号公報)以下、第13図により、従来技術の概略を
説明する。
ようなものであった。(例えば、特開昭63−1889
64号公報)以下、第13図により、従来技術の概略を
説明する。
ICカード用モジュール6は、リードフレーム6の裏面
上に接着効果をもった絶縁体3でICチップ2をボンデ
ィングし、そのICチップ2の配線パッドを、リードフ
レーム6の接点51の裏面に金線4により導通接続し、
エポキシ系の熱硬化性樹脂1により樹脂封止するもので
あった。
上に接着効果をもった絶縁体3でICチップ2をボンデ
ィングし、そのICチップ2の配線パッドを、リードフ
レーム6の接点51の裏面に金線4により導通接続し、
エポキシ系の熱硬化性樹脂1により樹脂封止するもので
あった。
一般的に、半導体封止に使用する熱硬化性樹脂1は、モ
ールド時粘性が低く、微細な隙間にも浸入する性質を有
している。これに比べて、熱可塑性樹脂は、粘性が高く
、微細な隙間には浸入しない性質を有している。
ールド時粘性が低く、微細な隙間にも浸入する性質を有
している。これに比べて、熱可塑性樹脂は、粘性が高く
、微細な隙間には浸入しない性質を有している。
発明が解決しようとする課題
したがって、従来このようなリードフレーム5を利用し
、ICチップ2を実装した後、一般的に流動性の良好な
エポキシ系の熱硬化性樹脂1でトランスファーモールド
していたのであるが、この場合熱硬化性樹脂1の流動性
が高いのでこのモールド時に熱硬化性樹脂1が接点6&
の表面へ廻り込み、この表面に薄パリとして残ってしま
い、この結果この薄パリを除去すると言う後処理が必要
になシ、量産性の低いものになるという問題があった。
、ICチップ2を実装した後、一般的に流動性の良好な
エポキシ系の熱硬化性樹脂1でトランスファーモールド
していたのであるが、この場合熱硬化性樹脂1の流動性
が高いのでこのモールド時に熱硬化性樹脂1が接点6&
の表面へ廻り込み、この表面に薄パリとして残ってしま
い、この結果この薄パリを除去すると言う後処理が必要
になシ、量産性の低いものになるという問題があった。
本発明は、このような問題点を解決し、量産性に富むI
Cカード用モジュールの製造方法を提供することを目的
とするものである。
Cカード用モジュールの製造方法を提供することを目的
とするものである。
課題を解決するだめの手段
この目的を達成するために、本発明は、リードフレーム
の裏面上に、ICチップの装着部を熱可塑性樹脂により
形成した後に前記装着部にICチップを装着し、次にI
Cチップと上記リードフレームとを導通接続させ、次に
熱硬化性樹脂、あるいは熱可塑性樹脂により上記ICチ
ップをリードフレームの裏面上においてモールドしたも
のである0 作用 上記に示したように、熱可塑性樹脂により第1の成形を
行うため、リードフレームの接点の表面への樹脂の廻り
込みがなく、したがってこの廻り込んだ薄パリをとる作
業が不要で量産性の高いものとなる。
の裏面上に、ICチップの装着部を熱可塑性樹脂により
形成した後に前記装着部にICチップを装着し、次にI
Cチップと上記リードフレームとを導通接続させ、次に
熱硬化性樹脂、あるいは熱可塑性樹脂により上記ICチ
ップをリードフレームの裏面上においてモールドしたも
のである0 作用 上記に示したように、熱可塑性樹脂により第1の成形を
行うため、リードフレームの接点の表面への樹脂の廻り
込みがなく、したがってこの廻り込んだ薄パリをとる作
業が不要で量産性の高いものとなる。
実施例
以上本発明の一実施例を図面を参照して説明するO
第1図は成形前のXaカードの接点9ILを形成した金
属板製のリードフレーム9を示す図であシ、第2図はそ
の要部断面図(ムーム′断面図)である。
属板製のリードフレーム9を示す図であシ、第2図はそ
の要部断面図(ムーム′断面図)である。
第3図は第1図に示す、リードフレーム9を第1段階で
、熱可塑性樹脂ICを成形したところを示すものである
。つま)、第3図に示すごとくリードフレーム9の裏面
側において連結部9bに形成された凸部90までが熱可
塑性樹脂ICにより、被覆されているのである。
、熱可塑性樹脂ICを成形したところを示すものである
。つま)、第3図に示すごとくリードフレーム9の裏面
側において連結部9bに形成された凸部90までが熱可
塑性樹脂ICにより、被覆されているのである。
ここで、−船釣に熱硬化性樹脂は、粘性が低いため0,
01 aua程度の成形金型の隙間があれば浸入するた
め、トランスファーモールドにおいて薄パリが生ずる可
能性が高い。それに比べて、本実施例のととく熱可塑性
樹脂ICを用いたものは、粘性が高いため、OO5mm
程度以上の隙間でないと浸入できず、よってこの成形工
程において接点9&間からその表面側に熱可塑性樹脂1
oが浸入して薄パリが生ずることはない。第4図は第3
図のリードフレーム9の裏面側を示す。また第5図は第
4図の要部断面図であり、リードフレーム9に上記熱可
塑性樹脂1oを用いた第1段階の成形にて接点9&間に
絶縁層IC&を設けたことを示すものである。またWJ
4図における1obは、第1段階の成形により形成され
た、ICチップを収納する枠部を示すものである。
01 aua程度の成形金型の隙間があれば浸入するた
め、トランスファーモールドにおいて薄パリが生ずる可
能性が高い。それに比べて、本実施例のととく熱可塑性
樹脂ICを用いたものは、粘性が高いため、OO5mm
程度以上の隙間でないと浸入できず、よってこの成形工
程において接点9&間からその表面側に熱可塑性樹脂1
oが浸入して薄パリが生ずることはない。第4図は第3
図のリードフレーム9の裏面側を示す。また第5図は第
4図の要部断面図であり、リードフレーム9に上記熱可
塑性樹脂1oを用いた第1段階の成形にて接点9&間に
絶縁層IC&を設けたことを示すものである。またWJ
4図における1obは、第1段階の成形により形成され
た、ICチップを収納する枠部を示すものである。
また、この端子間絶縁層1oaは、リードフレーム9の
厚さより薄いか又は同等の厚さとなっており枠部ICb
側へは非突出の構造となっている。
厚さより薄いか又は同等の厚さとなっており枠部ICb
側へは非突出の構造となっている。
第6図は第1段階の成形後、第3図におけるリードフレ
ーム9の連結部9bを切断した図である。
ーム9の連結部9bを切断した図である。
又、第2の実施例として第12図に示すように第1段階
の成形によりリードフレーム9へ成形樹脂によりつなぎ
部96を設け、第6図における連結部9fをも切断する
ことも可能である。
の成形によりリードフレーム9へ成形樹脂によりつなぎ
部96を設け、第6図における連結部9fをも切断する
ことも可能である。
第7図は第1段階の成形により形成したリードフレーム
9の裏面側の枠部ICb内部にICチップ11を第9図
のごとく絶縁性接着剤12により接着実装し、ICチッ
プ11の配線パッドとリードフレーム9に形成された第
4図におけるワイヤーボンディングランド9dとを金線
13により電気的に接続した図である。第8図はその後
、第2段階で熱硬化性樹脂(あるいは熱可塑性樹脂)1
4によりリードフレーム9の裏面側においてICチップ
11.を被覆したものであり、第9図はその要部断面図
である。
9の裏面側の枠部ICb内部にICチップ11を第9図
のごとく絶縁性接着剤12により接着実装し、ICチッ
プ11の配線パッドとリードフレーム9に形成された第
4図におけるワイヤーボンディングランド9dとを金線
13により電気的に接続した図である。第8図はその後
、第2段階で熱硬化性樹脂(あるいは熱可塑性樹脂)1
4によりリードフレーム9の裏面側においてICチップ
11.を被覆したものであり、第9図はその要部断面図
である。
さらに第11図にはその要部の拡大図を示す。
第11図においてICチップ11はICチップ11を収
納する枠部ICb内に実装され、IOf、グ11と、リ
ードフレーム9は絶縁性接着剤12により固定されてい
る。また、各接点9Nは、熱可塑性樹脂からなる絶縁層
IC1Lと、絶縁性接着剤12により固定されることに
なる。従来例でみるように、絶縁体3の厚みは、補強体
としての働らきもさせる場合はO,OS〜0.21tl
ln程度必要である。
納する枠部ICb内に実装され、IOf、グ11と、リ
ードフレーム9は絶縁性接着剤12により固定されてい
る。また、各接点9Nは、熱可塑性樹脂からなる絶縁層
IC1Lと、絶縁性接着剤12により固定されることに
なる。従来例でみるように、絶縁体3の厚みは、補強体
としての働らきもさせる場合はO,OS〜0.21tl
ln程度必要である。
しかし本発明実施例によれば、熱可塑性樹脂1゜からな
る絶縁層ICaと絶縁性接着剤12で各接点9aを接続
しているため、絶縁性接着剤12の厚さを考える上で補
強体としての働らきは不要であり、単に絶縁性だけが満
足されればよい。
る絶縁層ICaと絶縁性接着剤12で各接点9aを接続
しているため、絶縁性接着剤12の厚さを考える上で補
強体としての働らきは不要であり、単に絶縁性だけが満
足されればよい。
従ってその厚さは、0.01〜0.05mm程度で良く
、ICカードとしての総厚を少なくすることができる。
、ICカードとしての総厚を少なくすることができる。
第IC図は第2段階の成形後リードフレーム9の残部を
切断除去し最終のICカード用モジュールの形状にした
ものを示す。また、第2の実施例のように第12図に示
すものについても同様の手順で行うことができる。また
、本実施例ではリードの切断部分を第2段階の成形で全
て被覆している。
切断除去し最終のICカード用モジュールの形状にした
ものを示す。また、第2の実施例のように第12図に示
すものについても同様の手順で行うことができる。また
、本実施例ではリードの切断部分を第2段階の成形で全
て被覆している。
当実施例では第1段階のモールド成形で使用する熱可塑
性樹脂ICをpps樹脂(ポリフェニレ/サルファイド
樹脂)としたが、pps樹脂と同様に高耐熱特性をもつ
PBT樹脂(ポリブチレンテレフタレート樹脂)、PE
T樹脂(ポリエチレンテレフタレート樹脂)等のガラス
繊維入りの材料を使用してもよい。
性樹脂ICをpps樹脂(ポリフェニレ/サルファイド
樹脂)としたが、pps樹脂と同様に高耐熱特性をもつ
PBT樹脂(ポリブチレンテレフタレート樹脂)、PE
T樹脂(ポリエチレンテレフタレート樹脂)等のガラス
繊維入りの材料を使用してもよい。
また第2段階でのモールド成形で使用する熱硬化性樹脂
14として主成分をオルソクレゾール(ボラック系エポ
キシ樹脂)としたが、近年、熱可塑性樹脂の前記pps
樹脂の高純度品が開発され、半導体素子の直接封止への
使用検討がなされており、このような熱可塑性樹脂を第
2段階のモールド成形使用することも可能である。
14として主成分をオルソクレゾール(ボラック系エポ
キシ樹脂)としたが、近年、熱可塑性樹脂の前記pps
樹脂の高純度品が開発され、半導体素子の直接封止への
使用検討がなされており、このような熱可塑性樹脂を第
2段階のモールド成形使用することも可能である。
発明の効果
本発明によれば従来例のような製造法を行わずプレス加
工により形成されたリードフレームを使用し、第1段階
の熱可塑性樹脂によりリードフレームを基板状としIC
チップを装着した後、第2段階のモールド成形によりI
CtC−カードジュールの形状とするため、ICカード
の接点面に樹脂のパリが生ぜず、よって量産性にも優れ
たXCカード用モジュールを供給することができるもの
である。
工により形成されたリードフレームを使用し、第1段階
の熱可塑性樹脂によりリードフレームを基板状としIC
チップを装着した後、第2段階のモールド成形によりI
CtC−カードジュールの形状とするため、ICカード
の接点面に樹脂のパリが生ぜず、よって量産性にも優れ
たXCカード用モジュールを供給することができるもの
である。
第1図は本発明の一実施例のリードフレームの平面図、
第2図は同断面図、第3図は第1段階のモールド成形を
行ったリードフレームの表面側の平面図、第4図はその
裏面側のICチップ実装面の平面図、第6図は同断面図
、第6図は第1段階のモールド成形を行った後接点の連
結部の一部を切断した表面側の平面図、第7図はICチ
ップを実装しICチップの配線パッドとリードフレーム
の接点にワイヤーボンディングした裏面側の平面図、第
8図は第2段階のモールド成形を行った表面側の平面図
、第9図は同断面図、第IC図はICカード用モジュー
ルとして完成された表面側の平面図、第11図は要部断
面の拡大図、第12図は、本発明の第2の実施例におい
て第1段階のモールド成形を行った後接点の連結部を切
断した表面側の平面図である。第13図は従来例のXa
カード用モモジュール一部切欠斜視図である。 9・・・・・・リードフレーム、IC・・・・・・熱可
塑性樹脂、11・・・・・・ICチップ、12・・・・
・・絶縁性接着剤、14・・・・・・熱硬化性樹脂。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか1名II
I 図 第2図 % 第 図 ぐト 第 図 第 図 第 図 第11図 ヂ巴つな5部
第2図は同断面図、第3図は第1段階のモールド成形を
行ったリードフレームの表面側の平面図、第4図はその
裏面側のICチップ実装面の平面図、第6図は同断面図
、第6図は第1段階のモールド成形を行った後接点の連
結部の一部を切断した表面側の平面図、第7図はICチ
ップを実装しICチップの配線パッドとリードフレーム
の接点にワイヤーボンディングした裏面側の平面図、第
8図は第2段階のモールド成形を行った表面側の平面図
、第9図は同断面図、第IC図はICカード用モジュー
ルとして完成された表面側の平面図、第11図は要部断
面の拡大図、第12図は、本発明の第2の実施例におい
て第1段階のモールド成形を行った後接点の連結部を切
断した表面側の平面図である。第13図は従来例のXa
カード用モモジュール一部切欠斜視図である。 9・・・・・・リードフレーム、IC・・・・・・熱可
塑性樹脂、11・・・・・・ICチップ、12・・・・
・・絶縁性接着剤、14・・・・・・熱硬化性樹脂。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか1名II
I 図 第2図 % 第 図 ぐト 第 図 第 図 第 図 第11図 ヂ巴つな5部
Claims (1)
- リードフレームの裏面上に、ICチップの装着部を熱可
塑性樹脂により形成した後に前記装着部にICチップを
装着し、次にICチップと上記リードフレームとを導通
接続させ、次に熱硬化性樹脂、あるいは熱可塑性樹脂に
より上記ICチップをリードフレームの裏面上において
モールドするICカード用モジュールの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63313457A JPH0719859B2 (ja) | 1988-12-12 | 1988-12-12 | Icカード用モジュールの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63313457A JPH0719859B2 (ja) | 1988-12-12 | 1988-12-12 | Icカード用モジュールの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02158146A true JPH02158146A (ja) | 1990-06-18 |
JPH0719859B2 JPH0719859B2 (ja) | 1995-03-06 |
Family
ID=18041534
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63313457A Expired - Fee Related JPH0719859B2 (ja) | 1988-12-12 | 1988-12-12 | Icカード用モジュールの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0719859B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2673041A1 (fr) * | 1991-02-19 | 1992-08-21 | Gemplus Card Int | Procede de fabrication de micromodules de circuit integre et micromodule correspondant. |
EP0798780A3 (en) * | 1996-03-27 | 2000-09-13 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Semiconductor device, manufacturing method thereof and aggregate type semiconductor device |
US6858925B2 (en) | 2001-04-02 | 2005-02-22 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor device and a method of manufacturing the same |
JP2007141238A (ja) * | 2005-11-14 | 2007-06-07 | Tyco Electronics France Sas | スマートカード本体、スマートカード及びその製造方法 |
KR100743488B1 (ko) * | 2001-04-02 | 2007-07-30 | 가부시끼가이샤 르네사스 테크놀로지 | 반도체 장치 및 그 제조 방법 |
-
1988
- 1988-12-12 JP JP63313457A patent/JPH0719859B2/ja not_active Expired - Fee Related
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