JPH02157610A - Packaging state inspecting method - Google Patents
Packaging state inspecting methodInfo
- Publication number
- JPH02157610A JPH02157610A JP63312044A JP31204488A JPH02157610A JP H02157610 A JPH02157610 A JP H02157610A JP 63312044 A JP63312044 A JP 63312044A JP 31204488 A JP31204488 A JP 31204488A JP H02157610 A JPH02157610 A JP H02157610A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- image
- inspected
- light
- board
- density level
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 20
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 title abstract 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims abstract description 26
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 24
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000015654 memory Effects 0.000 abstract description 8
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は基板上に実装された部品の状態を検査する部品
実装状態検査装置に用いられる「斜光陰影法」と呼ばれ
る方法を改良した実装状態検査方法に関する。[Detailed Description of the Invention] [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a method called "oblique light shading method" used in a component mounting state inspection device for inspecting the state of components mounted on a board. This invention relates to an improved mounting state inspection method.
(従来の技術)
従来の基板上に実装された部品の状態を検査する部品実
装状態検査装置に用いられる実装状態検査方法は、「斜
光陰影法jと呼ばれる方法が用いられている。(Prior Art) As a mounting state inspection method used in a conventional component mounting state inspection apparatus for inspecting the state of components mounted on a board, a method called "oblique light shading method" is used.
この「斜光陰影法jは、被検査基板の斜め上方より光を
照射し、被検査基板に実装された部品に影を発生させ、
被検査基板の上方よりこの被検査基板を撮像することに
より部品の影を含んだ画像を得る。この画像から検査に
必要な部分の濃度レベル以外を検査に影響ないように変
調し、第1の画像を得る。This "oblique light shading method" irradiates light from diagonally above the board to be inspected to create a shadow on the components mounted on the board to be inspected.
By taking an image of the board to be inspected from above, an image including shadows of components is obtained. From this image, the first image is obtained by modulating the density level of a portion other than that required for the inspection so as not to affect the inspection.
ここで得た第1の画像とは被検査基板に対して反対方向
から影を発生させるように、すなわち被検査基板に対し
て第1の画像を取り込んだときと相対的な位置から照明
を行ない、被検査基板の上方よりこの被検査基板を撮像
することにより部品の影を含んだ画像を得る。この画像
から第1の画像と同様に変調し、第2の画像を得る。The illumination is performed so that a shadow is generated from the opposite direction to the board to be inspected from the first image obtained here, that is, the board to be inspected is illuminated from a position relative to when the first image is captured. By taking an image of the board to be inspected from above, an image including shadows of components is obtained. This image is modulated in the same way as the first image to obtain a second image.
この第1の画像および第2の画像の濃度差の画像を演算
する。このとき、第1の画像と第2の画像は検査に必要
な部分の濃度レベル以外を検査に影響ないように変調し
であるので、検査対象以外の部分の画像は濃度差の画像
を演算する際に除去されることとなる。An image of the density difference between the first image and the second image is calculated. At this time, since the first image and the second image are modulated so as not to affect the inspection except for the density level of the part necessary for the inspection, the image of the part other than the inspection target is calculated as a density difference image. It will be removed in due course.
こうして検査対象以外の部分の画像を除去した濃度差の
画像より実装された部品の影を検出し、この影の状態か
ら被検査基板の部品の実装状態を検査するものである。In this way, the shadow of the mounted component is detected from the density difference image in which the image of the portion other than the part to be inspected is removed, and the mounting state of the component on the board to be inspected is inspected from the state of this shadow.
(発明が解決しようとする課題)
上述のような「斜光陰影法」では、被検査基板に設けら
れた配線パターン上に検出されるノイズと、実装された
部品の影との分離が困難であった。そのため、この配線
パターンのノイズにより、正常に実装された部品を回転
して実装されていると誤検出したり、逆に異常な状態で
実装されているものを正常と判断したりするなどの不具
合が生じていた。(Problems to be Solved by the Invention) In the above-mentioned "oblique light shadow method", it is difficult to separate the noise detected on the wiring pattern provided on the board to be inspected from the shadow of the mounted component. Ta. Therefore, noise in this wiring pattern can cause problems such as incorrectly detecting normally mounted parts as rotated and mounted, or conversely determining that parts mounted in an abnormal state are normal. was occurring.
本発明の目的は、部品が実装された基板の配線パターン
などに影響されない高精度な部品の実装状態の検査がで
きる検査方法を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an inspection method capable of highly accurate inspection of the mounting state of a component, which is not affected by the wiring pattern of a board on which the component is mounted.
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
被検査基板に実装された部品の斜め上方より光を照射し
、この被検査基板の上方から第1の画像を撮像し、撮像
された画像より検査対象部分の濃度レベル以外の濃度レ
ベルを有する部分を変調し記憶する第1の画像記憶工程
と、この第1の画像記憶工程で被検査基板に光を照射し
た位置と被検査基板に対して対称的な位置から被検査基
板に光を照射し、この被検査基板の上方から第2の画像
を撮像し、撮像された画像より検査対象部分の濃度レベ
ル範囲以外の濃度レベルを有する部分を変調し記憶する
第2の画像記憶工程と、上記第1の画像記憶工程と第2
の画像記憶工程とにより記憶された二つの画像の濃度レ
ベルの差を演算し、この差の画像から実装された部品の
影を検出することにより被検査基板の部品の実装状態を
検査する検査工程とを具備する実装状態の検査方法にお
いて、上記第1の画像記憶工程および上記第2の画像記
憶工程との画像撮像時に上記被検査基板上に設けられた
配線パターンを所定の濃度レベル以上に光らせ、かつ主
照明の発した光により生じる影を消さない光を照射する
実装状態検査方法である。[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) Light is irradiated from diagonally above a component mounted on a board to be inspected, a first image is captured from above the board to be inspected, and the captured image is A first image storage step in which a portion having a density level other than that of the portion to be inspected is modulated and stored, and a position where light is irradiated onto the substrate to be inspected in this first image storage step irradiate the board to be inspected with light from a symmetrical position, take a second image from above the board to be inspected, and use the captured image to detect a portion having a density level outside the density level range of the part to be inspected. a second image storage step of modulating and storing; the first image storage step and the second image storage step;
and an inspection step of calculating the difference in density level between the two images stored by the image storage step and detecting the shadow of the mounted component from this difference image to inspect the mounting state of the component on the board to be inspected. In the mounting state inspection method, the wiring pattern provided on the substrate to be inspected is illuminated at a predetermined density level or higher during image capturing in the first image storage step and the second image storage step. , and a mounting state inspection method that irradiates light that does not erase shadows caused by the light emitted by the main illumination.
(作用)
高精度の部品の実装状態検査では基板の配線パターン上
のノイズが問題となる。そこで、配線パターン全体を所
定の濃度以上に光らせるような位置に照明を配置し、ノ
イズの発生を除去したうえで、検査対象部分以外の濃度
レベルを変調する。(Function) Noise on the wiring pattern of the board becomes a problem when inspecting the mounting state of high-precision components. Therefore, a light is placed at a position where the entire wiring pattern is illuminated at a predetermined concentration or higher, noise generation is eliminated, and then the concentration level of the portion other than the portion to be inspected is modulated.
さらに、この変調された第1および第2の画像の濃度差
の画像を演算し、これを二値化するときに配線パターン
をも除去するようにすれば、不具合は解消できる。Further, the problem can be solved by calculating the density difference image between the modulated first and second images and removing the wiring pattern when binarizing the image.
そこで、被検査基板上に設けられた配線パターンを検査
対象部分の濃度レベル以上に光らせ、かつ主照明の発し
た光により生じる影を消さないような光を照射すること
にした。Therefore, we decided to illuminate the wiring pattern provided on the board to be inspected at a level higher than the density level of the part to be inspected, and to irradiate the wiring pattern with light that would not erase the shadows caused by the light emitted by the main illumination.
実際にそのようなことが可能であるのだが、配線パター
ンのノイズについて、その原因を調べると、配線パター
ンに対してハンダの結合部が良好であるように、配線パ
ターン全面が研磨され、微細な凹凸が付けられているて
ことによりノイズが生じやすい状態になっていることが
判った。もし、この微細な凹凸が配線パターンに付けら
れてぃなければ、通常の照明でも配線パターンの濃度は
検査対象部分の濃度レベルより高くなり、濃度差の画像
を演算する時点で除去されているものである。In fact, such a thing is possible, but when we investigate the cause of noise in the wiring pattern, we find that the entire surface of the wiring pattern is polished so that the solder joins well with the wiring pattern, and fine particles are removed. It was found that the irregularities of the lever tended to cause noise. If these fine irregularities are not added to the wiring pattern, the density of the wiring pattern will be higher than the density level of the area to be inspected even under normal lighting, and it will be removed when calculating the density difference image. It is.
しかし、実際にはこの微細な凹凸があるため、照射され
た光が拡散され、濃度レベルを検査対象部分の濃度レベ
ル内まで低下させているわけである。However, in reality, because of these fine irregularities, the irradiated light is diffused and the density level is lowered to within the density level of the area to be inspected.
そこで今度は、この配線パターンの微細な凹凸を逆に利
用し、配線パターンが被検査基板上方に設置された撮像
装置に対して光が反射しやすい方向から、主照明によっ
て生じさせた影を消さない程度の光を入射することにし
た。Therefore, this time, we reversely utilized the fine irregularities of this wiring pattern to eliminate the shadows caused by the main illumination from the direction where the wiring pattern is likely to reflect light toward the imaging device installed above the board to be inspected. I decided to let in a certain amount of light.
まず、照明の方向についてだが、配線パターンの研磨方
向は被検査基板全体に対して一定方向で成されている。First, regarding the direction of illumination, the wiring pattern is polished in a constant direction with respect to the entire board to be inspected.
この研磨方向と直交する方向から被検査基板に対して低
い角度(従来の影を作るための照明の角度は45度程度
であるが、この照明は一般的な基板に対して行われるよ
うな研磨であれば、通常の照明の照明角度の半分以下の
角度になる。)で光を入射してやると、撮像手段が設け
である上方向に向かって光が正反射することになる。こ
のような照明を照射しながら撮像した第1の画像および
第2の画像の濃度差の画像を演算すれば、配線パターン
が容易に除去できるわけである。From a direction perpendicular to this polishing direction to the substrate to be inspected at a low angle (the angle of conventional illumination to create a shadow is about 45 degrees, this illumination If the light is incident at an angle that is less than half the illumination angle of normal illumination, the light will be specularly reflected in the upward direction where the imaging means is provided. The wiring pattern can be easily removed by calculating the difference in density between the first image and the second image captured while irradiating with such illumination.
しかし、実際にこのような方向から照明しても、従来の
方法の照明工程によって部品に発生させた影を消してし
まっては、濃度差の画像を演算して求めても効果がない
。そこでこの方向から照射する光は、従来の照明工程に
よって部品に発生させた影を消さない程度の弱い光でな
ければならない。However, even if the light is actually illuminated from such a direction, if the shadows generated on the part by the conventional illumination process are erased, calculating and calculating the density difference image will have no effect. Therefore, the light emitted from this direction must be weak enough not to erase the shadows created on the parts by the conventional illumination process.
これは従来の照明の波長や被検査基板からの距離によっ
て異なるが、被検査基板上に照射される光の明るさが通
常の照明の10分の1程度であればよい。This varies depending on the wavelength of conventional illumination and the distance from the substrate to be inspected, but it is sufficient if the brightness of the light irradiated onto the substrate to be inspected is about one-tenth that of normal illumination.
(実施例)
以下の本発明の方法を用いた部品実装状態検査装置の一
実施例を用いて説明する。(Example) An example of a component mounting state inspection apparatus using the method of the present invention will be described below.
第1図は本実施例の部品実装状態検査装置の概略構成図
である。被検査基板である回路基板(1)の上方に撮像
装置(2)と第1の照明手段(3a) 、 (3b)と
第2の照明手段(4a) 、 (4b)とが設けられて
いる。FIG. 1 is a schematic diagram of the component mounting state inspection apparatus of this embodiment. An imaging device (2), first illumination means (3a), (3b), and second illumination means (4a), (4b) are provided above a circuit board (1) that is a board to be inspected. .
この第1の照明手段(3a) 、 (3b)は回路基板
(1)の垂直方向に対して第2図に示すようには45度
の角度で、さらに左右は対しては第3図に示すように回
路基板(1)に45度の角度で光が入射するように配置
されている。これに対して第2の照明手段(4a) 、
(4b)は、第2図に示すように回路基板(1)に対
して垂直方向に20度の角度で、さらに左右に対しては
第3図に示すように回路基板(1)の研磨方向である矢
印Aに対して直交する角度で光が入射するように配置さ
れている。The first illumination means (3a), (3b) are arranged at an angle of 45 degrees with respect to the vertical direction of the circuit board (1) as shown in FIG. The circuit board (1) is arranged so that light is incident on the circuit board (1) at an angle of 45 degrees. On the other hand, the second illumination means (4a),
(4b) is at an angle of 20 degrees perpendicular to the circuit board (1) as shown in Figure 2, and further in the polishing direction of the circuit board (1) to the left and right as shown in Figure 3. It is arranged so that light is incident at an angle perpendicular to arrow A.
この撮像装置(2)の出力は順次A/D変換回路〈5)
、階調変換回路(6)を経て画像メモリ(7a)、(7
b)に記憶されるように接続される。この画像メモリ(
7a) 、 (7b)よりそれぞれデータを呼び出し可
能なように減算回路(8)が接続され、この演算結果を
2値化回路(9)へ送信可能に、2値化回路(9)の演
算結果を演算制御回路(10)へ送信可能に接続されて
いる。演算制御回路(lO)はA/D変換回路(5)、
減算回路(8)および照明切換回路(11)、表示装置
(12)を制御可能に接続されている。なお、照明切換
回路(11)は第1の照明手段(3a) 、 (3b)
と、第2の照明手段(4a) 、 (4b)の点灯を切
換え可能に接続されており、表示装置(12)は演算制
御回路(10)に送信されてくるデータを画像として表
示するように接続が成されている。The output of this imaging device (2) is sequentially converted to an A/D conversion circuit (5)
, image memory (7a), (7) via the gradation conversion circuit (6).
b) connected so as to be stored. This image memory (
A subtraction circuit (8) is connected so that the data can be read from each of 7a) and (7b), and the calculation result of the binarization circuit (9) is connected so that the calculation result can be sent to the binarization circuit (9). is connected to the arithmetic control circuit (10) so that it can be transmitted. The arithmetic control circuit (lO) is an A/D conversion circuit (5),
A subtraction circuit (8), a lighting switching circuit (11), and a display device (12) are connected so as to be controllable. Note that the lighting switching circuit (11) is connected to the first lighting means (3a) and (3b).
and the second illumination means (4a) and (4b) are connected so that lighting can be switched, and the display device (12) displays data sent to the arithmetic control circuit (10) as an image. A connection has been made.
次に本実施例の装置を用いて本発明の詳細な説明する。Next, the present invention will be explained in detail using the apparatus of this embodiment.
回路部品が実装されている回路基板(1)が載置される
と演算制御回路(10)は、照明切換回路(11)を作
動させ、第1および第2の照明手段の(3a)および(
4a)を点灯し、回路基板(1)の画像を撮像するよう
に撮像装置(2)に指令を送る。撮像装置(2)によっ
て撮像された画像はA/D変換回路(5)に送られ、デ
ィジタル化され階調変換回路(6〉に送られる。階調変
換回路(6)では画面上で検査に必要な部分のみを抽出
するため、画像の濃度レベルの上限と下限を設け、この
間にある濃度レベルの画像データのみを抽出する。これ
は第5図のグラフに示したように入力された画像濃度レ
ベルが上限aより濃度の高い部分をすべて濃度aとして
出力し、入力された画像濃度レベルが下限すより濃度の
低い部分をすべて濃度すとして出力する。こうして出力
された画像データは画像メモリ(7a)に記憶する。こ
の画像データの検査対象部品が含まれた画像の一部を第
4図(a>に示す。このとき、配線パターン(13)の
ノイズは、第2の照明手段を点灯することによって発生
を防がれている。When the circuit board (1) on which the circuit components are mounted is placed, the arithmetic control circuit (10) operates the lighting switching circuit (11) to switch the first and second lighting means (3a) and (
4a) and sends a command to the imaging device (2) to take an image of the circuit board (1). The image captured by the imaging device (2) is sent to the A/D conversion circuit (5), digitized, and sent to the tone conversion circuit (6).The tone conversion circuit (6) displays the image on the screen for inspection. In order to extract only the necessary parts, upper and lower limits are set for the density level of the image, and only image data with density levels between these are extracted.This is based on the input image density as shown in the graph of Figure 5. All parts whose density level is higher than the upper limit a are output as density a, and all parts whose density is lower than the lower limit of the input image density level are outputted as density.The thus output image data is stored in the image memory (7a ). A part of the image including the part to be inspected of this image data is shown in FIG. This prevents its occurrence.
続いて、演算制御部(10)は照明切換回路(11)を
作動させ、第1の照明手段のもう片側の(3b) 、
(4b)を点灯し、上述と同様の作用でこの画像データ
を画像メモリ(7b)に記憶する。このときの画像の一
部を第4図(b)に示す。Subsequently, the arithmetic control unit (10) operates the illumination switching circuit (11), and the other side (3b) of the first illumination means,
(4b) is turned on, and this image data is stored in the image memory (7b) in the same manner as described above. A part of the image at this time is shown in FIG. 4(b).
こうして画像メモリ(7a) 、 (7b)に記憶され
た二つの画像データを減算回路(8)が呼出し、この二
つの画像データの濃度差の画像データを算出する。The subtraction circuit (8) calls the two image data stored in the image memories (7a) and (7b) in this way, and calculates image data of the density difference between the two image data.
このときの濃度差の画像は、第1および第2の画像が第
2の照明手段(4a) 、 (4b)からの光が配線パ
ターンに照射されると、上で撮像装置の方向に正反射す
ることによって、配線パターン(13)の濃度がbより
高くなる。そこで変調回路(6)を介し、この二つの画
像の差を演算する。このときの画像データを第4図(c
)に示す。At this time, the density difference image is such that when the first and second images are irradiated with light from the second illumination means (4a) and (4b) onto the wiring pattern, it is specularly reflected in the direction of the imaging device. By doing so, the concentration of the wiring pattern (13) becomes higher than b. Therefore, the difference between these two images is calculated via a modulation circuit (6). The image data at this time is shown in Figure 4 (c
).
このように減算回路(8)の演算結果が2値化回路(9
)に送信され、この2値化回路(9うにより影と回路基
板との濃度I/ベベル中間レベルで2値化する。こうし
て影より明るい配線パターン(13)は2値化レベルの
設定により容易に除去でき、回路基板(1)より実装さ
れた部品の影のみを認識することができるようになる。In this way, the calculation result of the subtraction circuit (8) is transferred to the binarization circuit (9).
), and this binarization circuit (9) binarizes the density between the shadow and the circuit board at an intermediate level of I/bevel.In this way, the wiring pattern (13) that is brighter than the shadow is easily created by setting the binarization level. This allows only the shadows of the components mounted on the circuit board (1) to be recognized.
この2値化された濃度差の画像データを受信した演算制
御回路(io)は、この受信した画像データから実装さ
れた部品の有無、位置ずれ、傾き、部品の誤実装などを
検査認識する。この認識結果を表示装置(12)に表示
するわけである。The arithmetic and control circuit (io) which has received the binarized density difference image data inspects and recognizes the presence or absence of mounted components, positional deviations, inclinations, incorrect mounting of components, etc. from the received image data. This recognition result is displayed on the display device (12).
なお、本実施例では、第2の照明を基板の研磨方向と直
交する方向としたが、これは研磨方向が二定であったか
らであり、基板の研磨方向が不定であった場合も、主照
明が被検査基板上の実装部品に生じさせた影を消さない
程度の光で、配線パターンが撮像装置に向かって所定濃
度以上で反射をする位置から照明するようにすればよい
ものである。Note that in this example, the second illumination was set in a direction perpendicular to the polishing direction of the substrate, but this is because the polishing direction was two-dimensional, and even if the polishing direction of the substrate was undefined, the main It is only necessary to illuminate the wiring pattern from a position where the wiring pattern is reflected toward the imaging device at a predetermined concentration or higher, with light that does not erase the shadows caused by the illumination on the mounted components on the board to be inspected.
[発明の効果]
上述のように本発明を用いて、被検査基板上こ実装され
た部品の実装状態を検査すると、従来検査の障害となっ
ていた配線パターン上のノイズを除去でき、安定した検
査が可能となる。[Effects of the Invention] As described above, when the present invention is used to inspect the mounting state of components mounted on a board to be inspected, it is possible to remove noise on the wiring pattern, which has been an obstacle to conventional inspections, and to perform stable inspection. Inspection becomes possible.
第1図は本発明の方法を用いた部品実装状態検査装置の
一実施例の概略構成図、第2図および第3図は同じく一
実施例の照明手段の配置位置を示すための説明図、第4
図および第5図は同じく作用を示すための説明図である
。
9・・2値化回路、
11・・・照明切換回路、
13・・・配線パターン。
10・・・演算制御回路、。
12・・・表示装置、FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an embodiment of a component mounting state inspection apparatus using the method of the present invention, FIGS. Fourth
FIG. 5 and FIG. 5 are explanatory diagrams for showing the same effect. 9...Binarization circuit, 11...Lighting switching circuit, 13...Wiring pattern. 10... Arithmetic control circuit. 12...Display device,
Claims (1)
、この被検査基板の上方から第1の画像を撮像し、撮像
された画像より検査対象部分の濃度レベル以外の濃度レ
ベルを有する部分を変調し記憶する第1の画像記憶工程
と、この第1の画像記憶工程で被検査基板に光を照射し
た位置と被検査基板に対して対称的な位置から被検査基
板に光を照射し、この被検査基板の上方から第2の画像
を撮像し、撮像された画像より検査対象部分の濃度レベ
ル範囲以外の濃度レベルを有する部分を変調し記憶する
第2の画像記憶工程と、上記第1の画像記憶工程と第2
の画像記憶工程とにより記憶された二つの画像の濃度レ
ベルの差を演算し、この差の画像から実装された部品の
影を検出することにより被検査基板の部品の実装状態を
検査する検査工程とを具備する実装状態の検査方法にお
いて、上記第1の画像記憶工程および上記第2の画像記
憶工程との画像撮像時に上記被検査基板上に設けられた
配線パターンを所定の濃度レベル以上に光らせ、かつ主
照明の発した光により生じる影を消さない光を照射する
ことを特徴とする実装状態検査方法。Light is irradiated from diagonally above a component mounted on a board to be inspected, a first image is taken from above the board to be inspected, and the part that has a density level other than the density level of the part to be inspected is determined from the taken image. a first image storage step of modulating and storing the image; and a first image storage step of irradiating light onto the substrate to be inspected from a position symmetrical to the position where the substrate to be inspected was irradiated with light in this first image storage step. a second image storage step of capturing a second image from above the substrate to be inspected, modulating and storing a portion having a density level outside the density level range of the inspection target portion from the captured image; 1 image storage process and 2nd image storage process
and an inspection step of calculating the difference in density level between the two images stored by the image storage step and detecting the shadow of the mounted component from this difference image to inspect the mounting state of the component on the board to be inspected. In the mounting state inspection method, the wiring pattern provided on the substrate to be inspected is illuminated at a predetermined density level or higher during image capturing in the first image storage step and the second image storage step. , and a method for inspecting a mounting state, characterized by irradiating light that does not erase shadows caused by light emitted by main illumination.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63312044A JPH02157610A (en) | 1988-12-12 | 1988-12-12 | Packaging state inspecting method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63312044A JPH02157610A (en) | 1988-12-12 | 1988-12-12 | Packaging state inspecting method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02157610A true JPH02157610A (en) | 1990-06-18 |
Family
ID=18024541
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63312044A Pending JPH02157610A (en) | 1988-12-12 | 1988-12-12 | Packaging state inspecting method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02157610A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006300711A (en) * | 2005-04-20 | 2006-11-02 | Omron Corp | Defect inspection method for metallic cap, regulation method for inspection thereof, and defect inspection method for metallic cap |
-
1988
- 1988-12-12 JP JP63312044A patent/JPH02157610A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006300711A (en) * | 2005-04-20 | 2006-11-02 | Omron Corp | Defect inspection method for metallic cap, regulation method for inspection thereof, and defect inspection method for metallic cap |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0572961B2 (en) | ||
JP2953736B2 (en) | Solder shape inspection method | |
JP2005127989A (en) | Flaw detector and flaw detecting program | |
KR101129349B1 (en) | Parts mount board inspection apparatus | |
US6872949B2 (en) | Connection inspecting apparatus, connection inspecting method, and recording medium for recording programs executing the method | |
JPH02157610A (en) | Packaging state inspecting method | |
JPH05280946A (en) | Observing apparatus of board | |
JP3260425B2 (en) | Pattern edge line estimation method and pattern inspection device | |
JP2596158B2 (en) | Component recognition device | |
JP2570508B2 (en) | Soldering inspection equipment | |
JP2556180B2 (en) | Solder bridge inspection device | |
JP3100448B2 (en) | Surface condition inspection device | |
JP2629798B2 (en) | Board inspection equipment | |
JPH01155248A (en) | Inspecting apparatus of soldering | |
JP2803427B2 (en) | Surface mount IC lead displacement inspection equipment | |
JP2819696B2 (en) | Soldering inspection equipment | |
JPH02219183A (en) | Recognizing device for position of object | |
JPH02278105A (en) | Inspecting apparatus for soldering | |
JPH0656292B2 (en) | Soldering inspection device | |
JPS63241344A (en) | Method and apparatus for inspecting through hole filling state | |
JPH0720065A (en) | Device for inspecting foreign matter on color filter for appearance | |
JPH0619252B2 (en) | Soldering inspection device for printed wiring boards | |
JPS6341488B2 (en) | ||
JPH04310812A (en) | Inspecting apparatus for packaging of chip component | |
JPS63106508A (en) | Method and apparatus for inspecting mounting state |