JPH02152156A - 質量分析用イオン源装置 - Google Patents
質量分析用イオン源装置Info
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- JPH02152156A JPH02152156A JP63306712A JP30671288A JPH02152156A JP H02152156 A JPH02152156 A JP H02152156A JP 63306712 A JP63306712 A JP 63306712A JP 30671288 A JP30671288 A JP 30671288A JP H02152156 A JPH02152156 A JP H02152156A
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- orifice
- mass spectrometer
- plate
- sample gas
- ions
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- Pending
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Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、液体クロマトグラフ・質量分析装置（ＬＣ−
ＭＳ）等のイオン源装置に関する。
ＭＳ）等のイオン源装置に関する。
（従来の技術）
ＬＣカラムから流出してくる溶液はベーパライザプロー
ブで噴霧され、イオン化室に送り込まれる。イオン化室
に入った試料ガスでイオン化された分子は、質量分析装
置の導入口であるオリフィスの前方に設けたりベラ電極
の電場によって、質量分析装置内に押出される。
ブで噴霧され、イオン化室に送り込まれる。イオン化室
に入った試料ガスでイオン化された分子は、質量分析装
置の導入口であるオリフィスの前方に設けたりベラ電極
の電場によって、質量分析装置内に押出される。
質量分析における感度は質量分析器に導入されるイオン
量によって調整される。従来は、質量分析装置内に引き
込むイオン量の調節は、上記リベラ電極の電圧を調整す
ることによって行っていた、しかし、質量分析装置内に
導入するイオンを増すために、リペラ電極に高電圧を印
加した時、イオン同士或はイオンと中性分子との衝突が
発生し、分子イオンが衝突により分裂し、測定されるマ
ススペクトルのパターンが大きく変化すると云うことが
起きる。従って、リベラ電極に高電圧を印加して測定感
度を上げることができないと云う問題があった。
量によって調整される。従来は、質量分析装置内に引き
込むイオン量の調節は、上記リベラ電極の電圧を調整す
ることによって行っていた、しかし、質量分析装置内に
導入するイオンを増すために、リペラ電極に高電圧を印
加した時、イオン同士或はイオンと中性分子との衝突が
発生し、分子イオンが衝突により分裂し、測定されるマ
ススペクトルのパターンが大きく変化すると云うことが
起きる。従って、リベラ電極に高電圧を印加して測定感
度を上げることができないと云う問題があった。
（発明が解決しようとする課題）
本発明は、マススペクトルのパターンを変化させること
なしに、質量分析装置内に押出すイオン量を調整できる
ようにすることを目的とする。
なしに、質量分析装置内に押出すイオン量を調整できる
ようにすることを目的とする。
（課題を解決するための手段）
イオン化室内に、試料ガスの流れに臨み質量分析器のイ
オン導入開口に対向して、回動可能なプレートを設けた
。
オン導入開口に対向して、回動可能なプレートを設けた
。
（作用）
ＬＣ−ＭＳはＬＣで分離された試料溶液をイオン化室で
イオン化し、生成されたイオンを質量分析器で質量分析
するものであり１本発明は、イオン化室で生成されたイ
オンの質量分析器内に押出す量を調整する装置に関する
ものである。
イオン化し、生成されたイオンを質量分析器で質量分析
するものであり１本発明は、イオン化室で生成されたイ
オンの質量分析器内に押出す量を調整する装置に関する
ものである。
ベーパライザ等よりイオン化室に噴射された試料ガスは
、種々なイオン化法の作用を受けて、イオンを含んだガ
スとなって、真空ポンプＲＰに吸引され、ベーパライザ
プローブ１からＲＰの方向に流れている。イオン化室内
は低気圧であり、質量分析器内は高真空であるから、両
者間の圧力差を維持しつ一イオンを質量分析器内に入れ
るため、この流れに近接して質量分析器へのイオン導入
開口部であるオリフィスが設けられている。イオン化さ
れたガスを質量分析器内に導入させるには、イオン化さ
れたガスにリペラ電極の電界を作用させて質量分析器方
向にイオンを加速させているが、オリフィスに向かうイ
オン量を増すためリペラ電圧を上げると、前述したよう
に分子イオンの衝突の問題が起きる。本発明は、上述し
たイオンを含んだ試料ガスの流れをオリフィスの先端近
くに近接集中させることができると、オリフィス先端付
近の強電界が有効に作用するので、リベラ電極に特に高
電圧を印加しなくても、質量分析器に送り込むイオン黴
を増すことができると云う点に着目し、オリフィスに対
向する位置に回動可能なプレートを設けることによって
、試料ガスの流れを強制的にオリフィス先端部近傍に集
中させるようにしたものであり、上記プレー１〜の傾斜
角を調整すれば、試料ガスの流れがオリフィス先端部近
傍に集中する度合いを調整できるので、リペラ電極の電
圧を変化させなくても、質量分析器内に導入させるイオ
ンの量を調整することが可能である（実施例） 図に本発明の一実施例を示す。図において、■はイオン
化室で、１はＬＣから流出してくる試料溶液を噴霧によ
り気化するベーパライザ１０−ブで、内径を小さくして
、京擦によるイオン１ヒも併せ行うサーモスプレーイオ
ン化用プローブと交換可能である。２はコロナ放電によ
り試料ガスをイオン化させる放電電極、３は電子を試料
ガス分子に衝突させ試料分子をイオン化するフィラメン
トでイオン化室■に対し負電圧が・印加される。４はオ
リフィスでイオン化室Ｉに突出して設けられた質量分析
器（ＭＳ）導入開口部、５はイオン化室ｌでイオン化さ
れイオン化室ｌからオリフィス４を通して押出されたイ
オンを質量分析器ＭＳ内に導入するレンズ電極、６はオ
リフィス４に対向して設けられたプレートで、ＬＣ側端
をビンで回動可能に枢支し、他方の端を４５°程度上方
に回動させた時に、オリフィス４の開口直前に端部が位
置するように設けられている。プレート６には衝突によ
るイオンの分裂等が問題にならない範囲で、適当なイオ
ン反撥電圧が与えられており、リベラ電極を兼ねている
。また、プレート６に電圧を印加する代わりに、イオン
化学■全体にオリフィス４に対し電圧を与えるようにし
てもよい。
、種々なイオン化法の作用を受けて、イオンを含んだガ
スとなって、真空ポンプＲＰに吸引され、ベーパライザ
プローブ１からＲＰの方向に流れている。イオン化室内
は低気圧であり、質量分析器内は高真空であるから、両
者間の圧力差を維持しつ一イオンを質量分析器内に入れ
るため、この流れに近接して質量分析器へのイオン導入
開口部であるオリフィスが設けられている。イオン化さ
れたガスを質量分析器内に導入させるには、イオン化さ
れたガスにリペラ電極の電界を作用させて質量分析器方
向にイオンを加速させているが、オリフィスに向かうイ
オン量を増すためリペラ電圧を上げると、前述したよう
に分子イオンの衝突の問題が起きる。本発明は、上述し
たイオンを含んだ試料ガスの流れをオリフィスの先端近
くに近接集中させることができると、オリフィス先端付
近の強電界が有効に作用するので、リベラ電極に特に高
電圧を印加しなくても、質量分析器に送り込むイオン黴
を増すことができると云う点に着目し、オリフィスに対
向する位置に回動可能なプレートを設けることによって
、試料ガスの流れを強制的にオリフィス先端部近傍に集
中させるようにしたものであり、上記プレー１〜の傾斜
角を調整すれば、試料ガスの流れがオリフィス先端部近
傍に集中する度合いを調整できるので、リペラ電極の電
圧を変化させなくても、質量分析器内に導入させるイオ
ンの量を調整することが可能である（実施例） 図に本発明の一実施例を示す。図において、■はイオン
化室で、１はＬＣから流出してくる試料溶液を噴霧によ
り気化するベーパライザ１０−ブで、内径を小さくして
、京擦によるイオン１ヒも併せ行うサーモスプレーイオ
ン化用プローブと交換可能である。２はコロナ放電によ
り試料ガスをイオン化させる放電電極、３は電子を試料
ガス分子に衝突させ試料分子をイオン化するフィラメン
トでイオン化室■に対し負電圧が・印加される。４はオ
リフィスでイオン化室Ｉに突出して設けられた質量分析
器（ＭＳ）導入開口部、５はイオン化室ｌでイオン化さ
れイオン化室ｌからオリフィス４を通して押出されたイ
オンを質量分析器ＭＳ内に導入するレンズ電極、６はオ
リフィス４に対向して設けられたプレートで、ＬＣ側端
をビンで回動可能に枢支し、他方の端を４５°程度上方
に回動させた時に、オリフィス４の開口直前に端部が位
置するように設けられている。プレート６には衝突によ
るイオンの分裂等が問題にならない範囲で、適当なイオ
ン反撥電圧が与えられており、リベラ電極を兼ねている
。また、プレート６に電圧を印加する代わりに、イオン
化学■全体にオリフィス４に対し電圧を与えるようにし
てもよい。
上記実施例におけるＭＳに導入させるイオンの量の調整
動作について説明する。プレート６はベーパライザプロ
ーブ１から噴射された試料ガスの流れを変化させるもの
であり、その原理はプレート６を水平（傾斜角θ−０）
に配置させると、試料ガスは抵抗もなくそのまま流れて
いくが、プレート６を上方に傾ける（傾斜角θ〉０）と
、イオン化学■内の試料ガスの流路がプレート６によっ
て絞られ、上方に流れが変化させられ、オリフィス４の
先端に近い所を試料ガス流が通るようになる。即ち、プ
レート６を上昇させる（傾斜角θが大きい程）程、流路
が狭くなってオリフィス近傍を通過する試料ガスの密度
が上がり、オリフィスの電界によって質量分析計の方向
に加速されるイオンが増え、オリフィス開口部を通過し
て質量分析計に導入されるイオンが増加することになる
。
動作について説明する。プレート６はベーパライザプロ
ーブ１から噴射された試料ガスの流れを変化させるもの
であり、その原理はプレート６を水平（傾斜角θ−０）
に配置させると、試料ガスは抵抗もなくそのまま流れて
いくが、プレート６を上方に傾ける（傾斜角θ〉０）と
、イオン化学■内の試料ガスの流路がプレート６によっ
て絞られ、上方に流れが変化させられ、オリフィス４の
先端に近い所を試料ガス流が通るようになる。即ち、プ
レート６を上昇させる（傾斜角θが大きい程）程、流路
が狭くなってオリフィス近傍を通過する試料ガスの密度
が上がり、オリフィスの電界によって質量分析計の方向
に加速されるイオンが増え、オリフィス開口部を通過し
て質量分析計に導入されるイオンが増加することになる
。
上記の理由によって、本実施例はりベラ電極の電圧を変
化させずに、プレート６の傾斜角θを制御することによ
り、ＭＳに導入させるイオンの流星を制御する。
化させずに、プレート６の傾斜角θを制御することによ
り、ＭＳに導入させるイオンの流星を制御する。
（発明の効果）
本発明によれば、プレートの傾斜角を機械的楕造で制御
させるだけで、ＭＳに導入させるイオン量を調整するよ
うにしたことにより、リペラ電極に高電圧を印加させて
ＭＳにイオンを導入させる必要がなくなり、マススペク
トルのパターンを変化させることなく、ＭＳに導入させ
るイオン量を調整することが可能になり、測定感度調節
が容易になった。
させるだけで、ＭＳに導入させるイオン量を調整するよ
うにしたことにより、リペラ電極に高電圧を印加させて
ＭＳにイオンを導入させる必要がなくなり、マススペク
トルのパターンを変化させることなく、ＭＳに導入させ
るイオン量を調整することが可能になり、測定感度調節
が容易になった。
図は本発明の一実施例の構成図である。
■・・・イオン化室、１・・・ベーパライザプローブ、
２・・・放電電極、３・・・フィラメント、４・・オリ
フィス５・・・レンズ電極、６・・・プレート。
２・・・放電電極、３・・・フィラメント、４・・オリ
フィス５・・・レンズ電極、６・・・プレート。
Claims (1)
- イオン化室内に、試料ガスの流れに臨み質量分析器のイ
オン導入開口に対向して、回動可能なプレートを設けた
ことを特徴とする質量分析用イオン源装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63306712A JPH02152156A (ja) | 1988-12-03 | 1988-12-03 | 質量分析用イオン源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63306712A JPH02152156A (ja) | 1988-12-03 | 1988-12-03 | 質量分析用イオン源装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02152156A true JPH02152156A (ja) | 1990-06-12 |
Family
ID=17960397
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63306712A Pending JPH02152156A (ja) | 1988-12-03 | 1988-12-03 | 質量分析用イオン源装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02152156A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013008606A (ja) * | 2011-06-27 | 2013-01-10 | Hitachi High-Technologies Corp | 質量分析装置及び質量分析方法 |
-
1988
- 1988-12-03 JP JP63306712A patent/JPH02152156A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013008606A (ja) * | 2011-06-27 | 2013-01-10 | Hitachi High-Technologies Corp | 質量分析装置及び質量分析方法 |
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