JPH021468A - 1,2―ジスルホン化合物の製造方法 - Google Patents
1,2―ジスルホン化合物の製造方法Info
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- JPH021468A JPH021468A JP1030098A JP3009889A JPH021468A JP H021468 A JPH021468 A JP H021468A JP 1030098 A JP1030098 A JP 1030098A JP 3009889 A JP3009889 A JP 3009889A JP H021468 A JPH021468 A JP H021468A
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- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 31
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 22
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims abstract description 14
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- -1 1,2-disulfonylhydrazine compound Chemical class 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 9
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- JUQRWCMITUNYSA-UHFFFAOYSA-N O=S(=O)=NN=S(=O)=O Chemical compound O=S(=O)=NN=S(=O)=O JUQRWCMITUNYSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 abstract description 4
- 230000005484 gravity Effects 0.000 abstract description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 abstract description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract 1
- 238000005580 one pot reaction Methods 0.000 abstract 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 7
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N N-bromosuccinimide Chemical compound BrN1C(=O)CCC1=O PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Natural products CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- LJWKFGGDMBPPAZ-UHFFFAOYSA-N ethoxyethane;toluene Chemical compound CCOCC.CC1=CC=CC=C1 LJWKFGGDMBPPAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 2
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 2
- WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N hypochlorite Chemical compound Cl[O-] WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 2
- 229910000474 mercury oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- UKWHYYKOEPRTIC-UHFFFAOYSA-N mercury(ii) oxide Chemical compound [Hg]=O UKWHYYKOEPRTIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N methanol Natural products OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- ISNKSXRJJVWFIL-UHFFFAOYSA-N (sulfonylamino)amine Chemical class NN=S(=O)=O ISNKSXRJJVWFIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTWMBHJPUJJJME-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethylpyrrole-2,5-dione Chemical group CC1=C(C)C(=O)NC1=O ZTWMBHJPUJJJME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004457 alkyl amino carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005332 alkyl sulfoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- 125000001589 carboacyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- DEZRYPDIMOWBDS-UHFFFAOYSA-N dcm dichloromethane Chemical compound ClCCl.ClCCl DEZRYPDIMOWBDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- FDSGHYHRLSWSLQ-UHFFFAOYSA-N dichloromethane;propan-2-one Chemical compound ClCCl.CC(C)=O FDSGHYHRLSWSLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJVCRVPZGVVAEQ-UHFFFAOYSA-N ethanol;methanol;propan-2-one Chemical compound OC.CCO.CC(C)=O YJVCRVPZGVVAEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019439 ethyl acetate Nutrition 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- WPHGSKGZRAQSGP-UHFFFAOYSA-N methylenecyclohexane Natural products C1CCCC2CC21 WPHGSKGZRAQSGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003541 multi-stage reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N nifuroxazide Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C(=O)N\N=C\C1=CC=C([N+]([O-])=O)O1 YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N 0.000 description 1
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- VKJKEPKFPUWCAS-UHFFFAOYSA-M potassium chlorate Chemical compound [K+].[O-]Cl(=O)=O VKJKEPKFPUWCAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000010517 secondary reaction Methods 0.000 description 1
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical compound ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N thioacetamide Natural products CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C315/00—Preparation of sulfones; Preparation of sulfoxides
- C07C315/06—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C317/00—Sulfones; Sulfoxides
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- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は1.2−ジスルホン化合物の製造方法に関する
。
。
1.2−ジスルホン化合物は種々の潜在的用途を有する
。たとえばジアリールジスルホン化合物が光活性であり
、照射線の作用の下でラジカルに解離することは、たと
えばBull、 Chem。
。たとえばジアリールジスルホン化合物が光活性であり
、照射線の作用の下でラジカルに解離することは、たと
えばBull、 Chem。
により知られている。JP 58−83844 (CA
101 :63684a)によると、これらの化合物
はホトリトグラフィの目的に、感光性組成物中でフリー
ラジカルを生じる反応剤として使用されている。
101 :63684a)によると、これらの化合物
はホトリトグラフィの目的に、感光性組成物中でフリー
ラジカルを生じる反応剤として使用されている。
Makromol、 Chem、、 Rapid C
ommun、 4.539頁(1983年) (C
A 99: 140979v)および JP 59−1
97422(CA 102 : 186029u)によ
ると、ジアリールジスルホン化合物は、エポキシ−官能
性化アクリレート重合体用に照射により交叉結合する反
応剤として使用することができる。1,2−ジスルホン
化合物はさらにまた、たとえば医薬活性化合物の合成な
どにおける、有用な反応剤あるいは、合成中間体である
。
ommun、 4.539頁(1983年) (C
A 99: 140979v)および JP 59−1
97422(CA 102 : 186029u)によ
ると、ジアリールジスルホン化合物は、エポキシ−官能
性化アクリレート重合体用に照射により交叉結合する反
応剤として使用することができる。1,2−ジスルホン
化合物はさらにまた、たとえば医薬活性化合物の合成な
どにおける、有用な反応剤あるいは、合成中間体である
。
原則として何らかの所望の有機基を有する1、2−ジス
ルホン化合物を製造する方法で、置換基の選択に関して
最も広い範囲で使用することができ、かつまた容易に行
なうことができるという方法はまだ知られていない。J
P 58−83)344によればアルカリ金属アリー
ルスルフイ化合物とを反応させることによりジアリール
ジ実際に、慣用の酸化剤はいずれも実用上、こスルホン
化合物が得ることができる。この方法は、特に非対称的
に置換されているジスルホン化合物の場合に高価である
。達成できる生成物収率はまた、満足できるものではな
い。
ルホン化合物を製造する方法で、置換基の選択に関して
最も広い範囲で使用することができ、かつまた容易に行
なうことができるという方法はまだ知られていない。J
P 58−83)344によればアルカリ金属アリー
ルスルフイ化合物とを反応させることによりジアリール
ジ実際に、慣用の酸化剤はいずれも実用上、こスルホン
化合物が得ることができる。この方法は、特に非対称的
に置換されているジスルホン化合物の場合に高価である
。達成できる生成物収率はまた、満足できるものではな
い。
原則的に簡単な合成経路はZ、 Naturforsc
h。
h。
21b、 813頁(1966年)に記載されている。
この文献では、対称的フェニル、p−)リルおよびナフ
チル各ジスルホン化合物が相当するジスルホニルヒドラ
ジン化合物の酸化により製造されており、約30〜50
%の収率が達成されている。
チル各ジスルホン化合物が相当するジスルホニルヒドラ
ジン化合物の酸化により製造されており、約30〜50
%の収率が達成されている。
酸化剤としては、酸化水銀およびN−ブロモスクシンイ
ミドだけが使用されている。これらの酸化剤は高価であ
り、また酸化水銀の場合においても問題があり、全体的
に特殊なものとして説明されていることから、これらの
酸化剤の選択は通常のものでなく、またこのことは慣用
されている酸化剤がこの反応において目的を達成するこ
とができなかったという結論を示唆しているものである
。
ミドだけが使用されている。これらの酸化剤は高価であ
り、また酸化水銀の場合においても問題があり、全体的
に特殊なものとして説明されていることから、これらの
酸化剤の選択は通常のものでなく、またこのことは慣用
されている酸化剤がこの反応において目的を達成するこ
とができなかったという結論を示唆しているものである
。
の反応に対して満足すべきものでな(、あるいは完全に
不適であることが見い出された。しかしながら、驚くべ
きことに、本発明者らは、濃硝酸がこの反応の酸化剤と
して格別に適することを見い出した。対称のおよび非対
称のジアリールジスルホン化合物に加え、アリールアル
キルジスルホン化合物、ジアルキルジスルホン化合物お
よび種々に置換されているアリールジスルホン化合物、
さらにまたへテロ芳香族ジスルホン化合物がまた、濃硝
酸を使用することにより、問題なく製造できることは特
に予測し得ないことである。
不適であることが見い出された。しかしながら、驚くべ
きことに、本発明者らは、濃硝酸がこの反応の酸化剤と
して格別に適することを見い出した。対称のおよび非対
称のジアリールジスルホン化合物に加え、アリールアル
キルジスルホン化合物、ジアルキルジスルホン化合物お
よび種々に置換されているアリールジスルホン化合物、
さらにまたへテロ芳香族ジスルホン化合物がまた、濃硝
酸を使用することにより、問題なく製造できることは特
に予測し得ないことである。
かくして、本発明は、相当する1、2−ジスルホニルヒ
ドラジン化合物の酸化により、1.2−ジスルホン化合
物を製造するにあたり、その酸化を酸化剤として濃硝酸
を用いて行なう1.2−ジスルホンの製造方法を罪供す
るものである。
ドラジン化合物の酸化により、1.2−ジスルホン化合
物を製造するにあたり、その酸化を酸化剤として濃硝酸
を用いて行なう1.2−ジスルホンの製造方法を罪供す
るものである。
基本的に何らかの所望の有機基を有する種々の1.2−
ジスルホン化合物が本発明に係る方法によって製造でき
る。特に、これらの化合物としては、次式Iで示される
1、2−ジスルホン化合物があげられる。
ジスルホン化合物が本発明に係る方法によって製造でき
る。特に、これらの化合物としては、次式Iで示される
1、2−ジスルホン化合物があげられる。
R’−So□−5ow−R” (I)〔式中R1お
よびR2は同一であるかまたは異なっていてもよく、1
2個までのC原子を有するアルキル、シクロアルキル、
アリール、アラルキルまたはへテロアリールであり、こ
の基は場合により、置換基として1個または2個以上の
、ハロゲン、シアノ、ニトロ、カルボキシル、アルキル
、アルコキシ、アルキルチオ、ビスアルキルアミノ、ア
ルカノイル、アルカノイルオキシ、アルカノイルアミド
、アルコキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、
アルキルスルホキシ、アルキルスルホニル、アリールオ
キシ、アリールチオ、アリールスルホキシおよびアリー
ルスルホニル(これらの基はそれぞれ6個までのC原子
を有する)を含む群から選ばれた置換基を有することが
できる〕。
よびR2は同一であるかまたは異なっていてもよく、1
2個までのC原子を有するアルキル、シクロアルキル、
アリール、アラルキルまたはへテロアリールであり、こ
の基は場合により、置換基として1個または2個以上の
、ハロゲン、シアノ、ニトロ、カルボキシル、アルキル
、アルコキシ、アルキルチオ、ビスアルキルアミノ、ア
ルカノイル、アルカノイルオキシ、アルカノイルアミド
、アルコキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、
アルキルスルホキシ、アルキルスルホニル、アリールオ
キシ、アリールチオ、アリールスルホキシおよびアリー
ルスルホニル(これらの基はそれぞれ6個までのC原子
を有する)を含む群から選ばれた置換基を有することが
できる〕。
π料物質として使用される1、2−ジスルホニルヒドラ
ジン化合物はヒドラジンと相当するスルホニルクロライ
ドとの反応による既知の方法によって、簡単な方法で入
手することができ、段階的反応によって、非対称1.2
−ジスルホニルヒドラジン化合物を得ることもできる。
ジン化合物はヒドラジンと相当するスルホニルクロライ
ドとの反応による既知の方法によって、簡単な方法で入
手することができ、段階的反応によって、非対称1.2
−ジスルホニルヒドラジン化合物を得ることもできる。
この反応の総合的経路は次式で示すことができる:
1.2−ジスルホン化合物を生成させる酸化反応は、本
発明に従い、約1.4の比重および合成用の慣用の純度
を有する濃硝酸を、相当する1、2−ジスルホニルヒド
ラジン化合物に対し、好ましくは撹拌および冷却しなが
ら、加えることによって行なう。反応相手は相互に直接
に反応させることができることから、溶媒の存在は場合
により不必要である。添加中および反応中の反応混合物
の温度は、たとえば反応容器を氷で冷却することにより
、−5〜+5℃の範囲、好ましくはほぼOoCに維持す
る。反応は通常、窒素の発生を伴ない数分後に始まる。
発明に従い、約1.4の比重および合成用の慣用の純度
を有する濃硝酸を、相当する1、2−ジスルホニルヒド
ラジン化合物に対し、好ましくは撹拌および冷却しなが
ら、加えることによって行なう。反応相手は相互に直接
に反応させることができることから、溶媒の存在は場合
により不必要である。添加中および反応中の反応混合物
の温度は、たとえば反応容器を氷で冷却することにより
、−5〜+5℃の範囲、好ましくはほぼOoCに維持す
る。反応は通常、窒素の発生を伴ない数分後に始まる。
固体沈澱物として沈澱した、または反応の終了後に水を
添加することにより沈澱する生成物は必要に応じて、再
結晶により精製することができる。
添加することにより沈澱する生成物は必要に応じて、再
結晶により精製することができる。
多くの場合に、反応全体を連続して行なうことができる
。すなわち、ヒドラジンと反応させて、l、2−ジスル
ホニルヒドラジンを生成させ、次いでこのジスルホニル
ヒドラジンあるいは所71:、J:す、モノスルホニル
ヒドラジン中間体を単離することなく、引続き酸化を行
なうことにより「1容器反応(ワンボットリアクション
)」によって、1,2−ジスルホンを製造することがで
き、これは本発明の方法を特に間車で経済的なものにす
る。
。すなわち、ヒドラジンと反応させて、l、2−ジスル
ホニルヒドラジンを生成させ、次いでこのジスルホニル
ヒドラジンあるいは所71:、J:す、モノスルホニル
ヒドラジン中間体を単離することなく、引続き酸化を行
なうことにより「1容器反応(ワンボットリアクション
)」によって、1,2−ジスルホンを製造することがで
き、これは本発明の方法を特に間車で経済的なものにす
る。
極めて多くの広く異なった置換基を有する1、2−ジス
ルホン化合物を本発明による酸化剤の使用により容易に
単離できる形で、しかも特に少なくとも顕著に満足し得
る収率で得ることができる。これに対して、たとえば過
酸化水素、過マンガン酸カリウム、塩素酸カリウム、塩
素または臭素のような多くの他の慣用の酸化剤を用いた
場合には、2〜3の代表例だけを選び出しても、反応は
認められないか、または反応したとしてもジスルホンに
至る反応は僅かな程度にとどまるか、全く起らない。極
めてまれなケースとして、特に式Iにおいて R1およ
びR2がフェニルまたはp−トリルである相当するジス
ルホン化合物の場合に次亜塩素酸すl・リウムを使用す
ると中程度の収率でこれらの化合物が得られるだけであ
る。その他の場合には、いずれもこの酸化剤をもってし
ては、成功しない。硝酸酸化の方法はまた、感受性の高
い置換基、すなわち二次反応を受ける傾向を有する置換
基をアリール基上に有するジアリールジスルホン化合物
の製造に特に有利である。その比較的温和な条件によっ
て、本発明の方法は他の酸化剤によっては急速に酸化さ
れるか、または他の方法で変換される多くの置換基に対
しても適合することができる。たとえば、次亜塩素酸ナ
トリウムは芳香族基上のi−プロピル基アセトアミド基
およびジメチルマレイミド基の部分的塩素化を生じさせ
るのに対し、硝酸はこれらの場合に問題なく、相当する
1、2−ジスルホンを導く。
ルホン化合物を本発明による酸化剤の使用により容易に
単離できる形で、しかも特に少なくとも顕著に満足し得
る収率で得ることができる。これに対して、たとえば過
酸化水素、過マンガン酸カリウム、塩素酸カリウム、塩
素または臭素のような多くの他の慣用の酸化剤を用いた
場合には、2〜3の代表例だけを選び出しても、反応は
認められないか、または反応したとしてもジスルホンに
至る反応は僅かな程度にとどまるか、全く起らない。極
めてまれなケースとして、特に式Iにおいて R1およ
びR2がフェニルまたはp−トリルである相当するジス
ルホン化合物の場合に次亜塩素酸すl・リウムを使用す
ると中程度の収率でこれらの化合物が得られるだけであ
る。その他の場合には、いずれもこの酸化剤をもってし
ては、成功しない。硝酸酸化の方法はまた、感受性の高
い置換基、すなわち二次反応を受ける傾向を有する置換
基をアリール基上に有するジアリールジスルホン化合物
の製造に特に有利である。その比較的温和な条件によっ
て、本発明の方法は他の酸化剤によっては急速に酸化さ
れるか、または他の方法で変換される多くの置換基に対
しても適合することができる。たとえば、次亜塩素酸ナ
トリウムは芳香族基上のi−プロピル基アセトアミド基
およびジメチルマレイミド基の部分的塩素化を生じさせ
るのに対し、硝酸はこれらの場合に問題なく、相当する
1、2−ジスルホンを導く。
実施例 1〜51
A6式R’ −502−3O2R2(I )で示される
1、2−ジスルホン化合物を以下に述べる方法により製
造した。
1、2−ジスルホン化合物を以下に述べる方法により製
造した。
濃硝酸(比重1.4)を相当する1、2−ジスルホニル
ヒドラジン化合物に対し、撹拌および水冷却しながら、
滴下して加える。数分後に、反応は窒素の発生を伴なっ
て始まる。反応が静まった時点で、混合物をO′Cにお
いて、約1時間撹拌し、分離した沈澱を分離採取し、再
結晶させて精製する。
ヒドラジン化合物に対し、撹拌および水冷却しながら、
滴下して加える。数分後に、反応は窒素の発生を伴なっ
て始まる。反応が静まった時点で、混合物をO′Cにお
いて、約1時間撹拌し、分離した沈澱を分離採取し、再
結晶させて精製する。
B、上記の方法により製造した化合物を式CI)中のR
1、R2を表示して、表1に掲げる。
1、R2を表示して、表1に掲げる。
表
フェニル
4−メチルフェニル
4−メトキシフェニル
2−ナフチル
ベンジル
再結晶に使用する溶剤
エタノール
メタノール
アセトン
メチルt−ブチルエーテル
メチルt−ブチルエーテル/
アセトン
アセトン
2.4.6−ドリメチルフエニル
4−4−プロピルフェニル
4−クロロフェニル
4−ブロモフェニル
4−メチルフェニル
4−クロロフェニル
ベンジル
2−ナフチル
4−メトキシフェニル
トルエン
氷酢酸
トルエン
アセトン
アセトン/エーテル
トルエン
メタノール
メチルt−ブチルエーテル/
メチレンクロライド
アセトン
再結晶に使用する溶剤
アセトン
融点(”C)
1−ナフチル
メチル
1−す7チル
■−す7チル
メチルt−ブチルエーテル
アセトン
2−ナフチル
2−ナフチル
4−メトキシフェニル
4−メトキシフェニル
4−ニトロフェニル
2−メチルフェニル
ベンジル
4−ニトロフェニル
2−メチルフェニル
ベンジル
トルエン
ベンジル
n−プロピル
n−プロピル
n−プロピル
フェニル
n−プロピル
n−プロピル
4−ニトロフェニル
4−メトキシフェニル
n−プロピル
4−t−ブチルフェニル
メチレンクロライド/n−ペンタン
(水)★★
メチルt−ブチルエーテル
石油エーテル
メチルt−ブチルエーテル
(水)★★
化合物
再結晶に使用する溶剤
4−メチルフェニル
4−1−プロピルフェニル
4−t−ブチルフェニル
1−ナフチル
1−ナフチル
2−ナフチル
2−ナフチル
4−アセチルアミドフェニル
4−ブタルイミドフェニル
4−(1,2−ジメチルマレイミ
ド)フェニル
n−プロピル
メチル
n−プロピル
メチル
n−プロピル
メチル
。−プロピル
n−プロピル
フェニル
4−メチルフェニル
4−メトキシフェニル
4−ニトロフェニル
n−プロピル
フェニル
4−メチルフェニル
4−メI・キシフェニル
n−プロピル
(水)★★
エーテル/石油エーテル
トルエン
(水)★★
(水)★★
エーテル/石油エーテル
氷酢酸
/l
メチレンクロライド/シクロヘキサン
氷酢酸
メチルt−ブチルエーテル
(分解)
化合物
ド)フェニル
4−ニトロフェニル
4−メチルフェニル
4−メトキンフェニル
n−プロピル
再結晶に1史用する溶剤
メチレンクロライド
メチ1−ンクロライド/石油エーテル
氷酢酸
エーテル
、碧点(′C)
注に★ NO□基はこの場合に、硝酸酸化反応中に導入
された。
された。
注2:★★ 水の添加により充分な1純度ですでに結晶
化する。
化する。
C0比較酸化実験
各種の1.2−ジスルホン化合物について、この濃硝酸
による酸化方法と比較して他の酸化剤の適合性を試験し
た。他の酸化剤はこれらのそれぞれについて慣用の反応
条件の下で使用された。その結果を表2に示す。
による酸化方法と比較して他の酸化剤の適合性を試験し
た。他の酸化剤はこれらのそれぞれについて慣用の反応
条件の下で使用された。その結果を表2に示す。
次の表2において、記号は次の意味を有するものとする
: “・・・ジスルホンが良好な収率で単離し得る。
: “・・・ジスルホンが良好な収率で単離し得る。
+
+・・・ジスルホンが中程度の収率で単離し得る。
O・・・ジスルホンが少量検出し得るが、単離し得す。
−・・・ジスルホンが検出し得ず;(別の反応生成物)
。
。
=・・・反応起らず。
Claims (2)
- (1)1,2−ジスルホニルヒドラジン化合物の酸化に
より相当する1,2−ジスルホン化合物を製造する方法
であって、この酸化を酸化剤として濃硝酸を用いて行な
うことを特徴とする方法。 - (2)反応相手を相互に直接に、−5〜+5℃の温度で
反応させることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3804316A DE3804316A1 (de) | 1988-02-12 | 1988-02-12 | Verfahren zur herstellung von 1,2-disulfon-verbindungen |
DE3804316.5 | 1988-02-12 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH021468A true JPH021468A (ja) | 1990-01-05 |
JP2549555B2 JP2549555B2 (ja) | 1996-10-30 |
Family
ID=6347230
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1030098A Expired - Lifetime JP2549555B2 (ja) | 1988-02-12 | 1989-02-10 | 1,2ージスルホン化合物の製造方法 |
Country Status (14)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4980508A (ja) |
EP (1) | EP0331905B1 (ja) |
JP (1) | JP2549555B2 (ja) |
KR (1) | KR890012953A (ja) |
AT (1) | ATE76868T1 (ja) |
AU (1) | AU609246B2 (ja) |
BR (1) | BR8900601A (ja) |
CA (1) | CA1322202C (ja) |
DD (1) | DD279015A5 (ja) |
DE (2) | DE3804316A1 (ja) |
DK (1) | DK65389A (ja) |
ES (1) | ES2051899T3 (ja) |
FI (1) | FI890658A (ja) |
ZA (1) | ZA891077B (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0709410A3 (en) | 1994-10-26 | 1997-03-26 | Ocg Microelectronic Materials | Polymers |
AU2001238706A1 (en) * | 2000-02-27 | 2001-09-03 | Shipley Company, L.L.C. | Photoacid generators and photoresists comprising same |
US7358408B2 (en) * | 2003-05-16 | 2008-04-15 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Photoactive compounds |
-
1988
- 1988-02-12 DE DE3804316A patent/DE3804316A1/de not_active Withdrawn
-
1989
- 1989-02-03 DE DE8989101874T patent/DE58901557D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-02-03 AT AT89101874T patent/ATE76868T1/de not_active IP Right Cessation
- 1989-02-03 ES ES89101874T patent/ES2051899T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1989-02-03 EP EP89101874A patent/EP0331905B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-02-10 KR KR1019890001494A patent/KR890012953A/ko active IP Right Grant
- 1989-02-10 DK DK065389A patent/DK65389A/da not_active Application Discontinuation
- 1989-02-10 FI FI890658A patent/FI890658A/fi not_active Application Discontinuation
- 1989-02-10 JP JP1030098A patent/JP2549555B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1989-02-10 AU AU29819/89A patent/AU609246B2/en not_active Ceased
- 1989-02-10 US US07/308,483 patent/US4980508A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-02-10 ZA ZA891077A patent/ZA891077B/xx unknown
- 1989-02-10 CA CA000590711A patent/CA1322202C/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-02-10 BR BR898900601A patent/BR8900601A/pt not_active Application Discontinuation
- 1989-02-10 DD DD89325687A patent/DD279015A5/de not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BR8900601A (pt) | 1989-10-10 |
ATE76868T1 (de) | 1992-06-15 |
EP0331905B1 (de) | 1992-06-03 |
FI890658A0 (fi) | 1989-02-10 |
AU609246B2 (en) | 1991-04-26 |
EP0331905A1 (de) | 1989-09-13 |
DK65389D0 (da) | 1989-02-10 |
ES2051899T3 (es) | 1994-07-01 |
AU2981989A (en) | 1989-08-17 |
DK65389A (da) | 1989-08-13 |
JP2549555B2 (ja) | 1996-10-30 |
CA1322202C (en) | 1993-09-14 |
FI890658A (fi) | 1989-08-13 |
US4980508A (en) | 1990-12-25 |
DD279015A5 (de) | 1990-05-23 |
DE58901557D1 (de) | 1992-07-09 |
KR890012953A (ko) | 1989-09-20 |
ZA891077B (en) | 1989-10-25 |
DE3804316A1 (de) | 1989-08-24 |
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