JPH0212254A - Developing agent composition - Google Patents

Developing agent composition

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Publication number
JPH0212254A
JPH0212254A JP16348288A JP16348288A JPH0212254A JP H0212254 A JPH0212254 A JP H0212254A JP 16348288 A JP16348288 A JP 16348288A JP 16348288 A JP16348288 A JP 16348288A JP H0212254 A JPH0212254 A JP H0212254A
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JP
Japan
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ink
silicone rubber
ether
photosensitive
ethylene glycol
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Application number
JP16348288A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshihiro Maeda
佳宏 前田
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Mitsubishi Kasei Corp
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
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Publication date
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Publication of JPH0212254A publication Critical patent/JPH0212254A/en
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Abstract

PURPOSE:To improve the ink-forming and the ink-repulsing properties of the title composition by composing the title composition of an alkaline aqueous solution contg. 0.1-10wt.% of one or two or more kinds of an org. solvent selected from benzyl alcohol and ethylene glycol monophenyl ether, etc., and an anionic surfactant, etc. CONSTITUTION:The composition is composed of the alkaline aqueous solution contg. 0.1-10wt.% of one or two or more kinds of the org. solvents selected from benzyl alcohol, ethylene glycol monophenyl ether, ethylene glycol monobenzyl ether, propylene glycol-alpha-monophenyl ether and propylene glycol-alpha- monobenzyl ether, an alkali agent and the anionic surfactant. Thus, a waterless planographic printing plate having the good ink-forming property and the excellent ink-repulsing property is obtd. by developing the composition with a developer composed of the alkaline aqueous solution.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 シリコーンゴム層、及びオルトキノンジアジド化合物を
含む感光層がこの順で設けられたポジ型水なし平版印刷
版において露光部すなわち非画像部の感光層のみを除去
するための現像液組非画線部をインキ反発性とし、イン
キの付着性の差異を利用して、画線部のみにイン中を着
肉させたのち、紙などの被印刷体にインキを転写して印
刷する平版印刷方法において、非画線部がシリコーンゴ
ムなどのインキ反発性を有する物質層からなシ、湿し水
を用いずに印刷可能であることを特命とする印刷方法で
ある。
Detailed Description of the Invention [Industrial Application Field] A photosensitive layer in an exposed area, that is, a non-image area in a positive waterless lithographic printing plate in which a silicone rubber layer and a photosensitive layer containing an orthoquinone diazide compound are provided in this order. After making the non-image area ink-repellent and applying ink only to the image area using the difference in ink adhesion, it is applied to a printing material such as paper. In the lithographic printing method, in which ink is transferred to a surface for printing, the special purpose of printing is that the non-printing area is not made of a layer of material that has ink repellency, such as silicone rubber, and can be printed without using dampening water. It's a method.

この水なし平版印刷に用いる印刷版としては、インキ反
発層としてシリコーンゴム層を有するものが、実用1優
れた性質を有しておシ、基板、シリコーンゴム層、感光
層がこの順に積層されたもの(シリコーンゴム下層型)
及び基板、感光層、シリコーンゴム層がこの順に積層さ
れたもの(シリコーンゴム上層型)が数多く提案されて
いる。
The printing plate used for this waterless planographic printing has a silicone rubber layer as an ink repellent layer, and has excellent properties for practical use.The printing plate has a substrate, a silicone rubber layer, and a photosensitive layer laminated in this order. (Silicone rubber lower layer type)
Many proposals have been made in which a substrate, a photosensitive layer, and a silicone rubber layer are laminated in this order (silicone rubber upper layer type).

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

シリコーンゴム上層型の水なし感光性平版印刷版の現像
処理においては、シリコーンゴム層を膨潤させるために
、ペンタン、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素類を多量含
む現像液を使用する必要があシ、安全性などの点で問題
である。
In the development process of waterless photosensitive lithographic printing plates with a silicone rubber upper layer, it is necessary to use a developer containing a large amount of aliphatic hydrocarbons such as pentane and hexane in order to swell the silicone rubber layer. This is a problem in terms of safety, etc.

シリコーンゴム下層型の水なし感光性平版印刷版の現像
液としては、従来、エタノール。
Traditionally, ethanol has been used as the developer for waterless photosensitive lithographic printing plates with silicone rubber underlayers.

2s−tO%イソプロパツール水溶液、  30’1i
−−ブチロラクトン水溶液、あるいはトルエンなどの有
機溶剤や有機溶剤を多量に含む水溶液、O,コ規定の水
酸化ナトリウム水溶液などの強フルカリ水溶液が用いら
れている。
2s-tO% isopropanol aqueous solution, 30'1i
--A butyrolactone aqueous solution, an organic solvent such as toluene, an aqueous solution containing a large amount of an organic solvent, and a strong fluoric aqueous solution such as an O, C aqueous sodium hydroxide solution are used.

例えば特公昭6/−4/3号公報には、シリコーンゴム
下層型の水なし感光性平版印刷版の現像液として、炭素
数5〜.20の脂肪族炭化水素を主体とするものを用い
ることによシ、地汚れが発生しないことが提案されてい
るが、この方法は、シリコーンゴム層表面を膨潤させ、
非画像部の感光性樹脂層をひきちぎるようにして除去す
るため、均一に現像処理できず、地汚れが発生する。ま
た、炭素数5−20の脂肪族炭化水素を用いているため
、安全性の点でも問題である。
For example, Japanese Patent Publication No. 6/4/3/1989 discloses that a developing solution for a waterless photosensitive lithographic printing plate with a silicone rubber underlayer has a carbon number of 5 to 5. It has been proposed that smearing does not occur by using a silicone rubber containing mainly aliphatic hydrocarbons, but this method involves swelling the surface of the silicone rubber layer,
Since the photosensitive resin layer in the non-image area is removed in a tearing manner, uniform development processing is not possible and background smear occurs. Furthermore, since aliphatic hydrocarbons having 5 to 20 carbon atoms are used, there is also a problem in terms of safety.

〔課題を解決するだめの手段〕[Failure to solve the problem]

本発明者は、シリコーン下層型のオルトキノンジアジド
化合物を含むポジ型水なし感光性平版印刷版に関する課
題につき鋭意検討した結果、特定の有機溶媒を特定量含
有し、且つ界面活性剤を含有するアルカリ水溶液を現像
液として用いた場合、良好なインキ着肉性と優れたイン
キ反発性を示すことを見い出し、本発明に到達した。
As a result of intensive investigation into the problems associated with positive waterless photosensitive lithographic printing plates containing a silicone underlayer type orthoquinonediazide compound, the present inventors discovered that an alkaline aqueous solution containing a specific amount of a specific organic solvent and a surfactant. It has been discovered that when used as a developer, it exhibits good ink receptivity and excellent ink repulsion, and the present invention has been achieved.

すなわち、本発明の要旨は、基板上に、シリコーンゴム
層、及びオルトキノンジアジド化合物を含む感光層がと
の顆に設けられたポジ型水なし感光性平版印刷版用現像
液組成物であって、該組成物が 0)ベンジルアルコール、エチレングリコールモノフェ
ニルエーテル、エチレンクリコールモノベンジルエーテ
ル、プロピレングリコール−α−モノフェニルエーテル
、及ヒフロピレングリコールーα−モノベンジルエーテ
ルから選ばれる1種又は2種以上の有機溶媒0./ −
/ 0重量% (b)  アルカリ剤 及び (c)  アニオン界面活性剤 を含有するアルカリ性水溶液であることを特命とする現
像液組成物に存する。
That is, the gist of the present invention is a developer composition for a positive waterless photosensitive lithographic printing plate, in which a silicone rubber layer and a photosensitive layer containing an orthoquinonediazide compound are provided on a substrate, The composition contains 0) one or more selected from benzyl alcohol, ethylene glycol monophenyl ether, ethylene glycol monobenzyl ether, propylene glycol-α-monophenyl ether, and hyfuropylene glycol-α-monobenzyl ether. organic solvent of 0. / −
/ 0% by weight The developer composition is specially designed to be an alkaline aqueous solution containing (b) an alkaline agent and (c) an anionic surfactant.

以下、本発明の詳細な説明する。The present invention will be explained in detail below.

本発明の現像液組成物に用いるベンジルアルコール、エ
チレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリ
コールモノベンジルエーテル、プロピレングリコール−
α−モノフェニルエーテル、及ヒフロピレングリコール
ーα−モノペン、ジルエーテルから選ばれる1種又は2
種以上の有機溶媒の量は、現像液組成物中o、i〜IO
重量%が好適であり、O,S−を重量%がより好適であ
る。これらの有機溶媒の量が増すにつれ、現像速度は増
大し、現像処理能力も高め、しかもインキ反発性が向上
する傾向にあるが、量が過剰になると画像部の色抜けが
起こシ易く、現像時間が長くなると、画像部がシリコー
ン層から剥がれてしまったり、画像部のインキ着肉性が
低下する。また、少なすぎると、現像速度が非常に遅ぐ
なシ、シかもインキ反発性が低下し、地汚れを引き起こ
す。
Benzyl alcohol, ethylene glycol monophenyl ether, ethylene glycol monobenzyl ether, propylene glycol used in the developer composition of the present invention.
One or two selected from α-monophenyl ether, hyfuropylene glycol-α-monopene, and dyl ether
The amount of the organic solvent or more in the developer composition is determined from o, i to IO.
% by weight is preferred, and % by weight of O,S- is more preferred. As the amount of these organic solvents increases, the development speed increases, development processing ability increases, and ink repulsion tends to improve. If the time is too long, the image area may peel off from the silicone layer or the ink receptivity of the image area may deteriorate. On the other hand, if the amount is too small, the development speed will be very slow, and the ink repellency will be reduced, causing background smearing.

本発明に用いるアルカリ剤としては、ケイ酸ナトリウム
、ケイ酸カリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム
、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第ニリン酸
ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第ニリン酸アン
モニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、
アンモニアなどの無機アルカリ剤、およびモノメチルア
ミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチル
アミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソ
プロピルアミン、ジインプロピルアミン、n−ブチルア
ミン類、モノエタノールアミン、ジェタノールアミン、
トリエタノールアミン、N−ベンジルエタノールアミン
、モノイソプロパツールアミン、ジインプロパツールア
ミン、トリイソプロパツールアミン、エチレンイミン、
エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アミン化合物が
ある。アルカリ剤の現像液組成物中における含有量はO
0θS〜5重量係が好適であシ、0.1〜3重量%がよ
シ好ましい。量が少なすぎると現像は不良となシ好まし
くなく、一方、過剰になると画像部のインキ着肉性が不
良になったり、耐刷性が低下するので好ましくない。
Examples of alkaline agents used in the present invention include sodium silicate, potassium silicate, potassium hydroxide, sodium hydroxide, lithium hydroxide, tribasic sodium phosphate, dibasic sodium phosphate, tribasic ammonium phosphate, and dibasic ammonium phosphate. , sodium metasilicate, sodium bicarbonate,
Inorganic alkaline agents such as ammonia, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diimpropylamine, n-butylamines, monoethanolamine, jetanolamine,
Triethanolamine, N-benzylethanolamine, monoisopropanolamine, diimpropanazine, triisopropanazine, ethyleneimine,
There are organic amine compounds such as ethylenediamine and pyridine. The content of alkaline agent in the developer composition is O
A weight ratio of 0θS to 5% by weight is suitable, and a range of 0.1 to 3% by weight is even more preferable. If the amount is too small, development will be poor, which is undesirable. On the other hand, if it is in excess, ink receptivity in the image area will be poor and printing durability will be reduced, which is not preferable.

これらのアルカリ剤のなかで、有機アミン化合物が耐刷
性の点で特に優れている。有機アミン化合物のなt)で
、ジェタノールアミン、トリエタノールアミン、ジイソ
プロパツールアミン、トリイソプロパツールアミン、N
−ベンジルエタノールアミンが特に好ましい。有機アミ
ン化合物の現像液組成物中における含有量はo、i〜3
重量係が特に好ましい。
Among these alkaline agents, organic amine compounds are particularly excellent in printing durability. Organic amine compounds (t) include jetanolamine, triethanolamine, diisopropanolamine, triisopropanolamine, N
-Benzylethanolamine is particularly preferred. The content of the organic amine compound in the developer composition is o, i~3
Particularly preferred is the weight category.

本発明に用いるアニオン型界面活性剤としては、 (ト) ラウリルアルコール硫酸エステルのナトリウム
塩、オクチルアルコール硫酸エステルのナトリウム塩、
ラウリルアルコール硫酸エステルのアンモニウム塩など
の高級アルコール(炭素数g−22)硫酸エステル塩類
、0 セチルアルコールリン酸エステルのナトリウム塩
などの脂肪族アルコールリン酸エステル塩類、 0 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムなどのアル
キルベンゼンスルホン酸塩類、ロ イソプロピルナフタ
レンスルホン酸ナトリウム、ジブチルナフタレンスルホ
ン酸ナトリウムなどのアルキルナフタレンスルホン酸塩
類、 (Elfフタレンスルホン酸・ホルマリン縮金物のナト
リウム塩、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナ
トリウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナ
トリウムなどのポリオキシエチレンアルキルエーテル硫
酸塩類、 ■ ホリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸
ナトリウム などが挙げられる。
The anionic surfactants used in the present invention include (tri) sodium salt of lauryl alcohol sulfate, sodium salt of octyl alcohol sulfate,
Higher alcohol (carbon number g-22) sulfate ester salts such as the ammonium salt of lauryl alcohol sulfate ester, aliphatic alcohol phosphate ester salts such as the sodium salt of 0 cetyl alcohol phosphate, 0 alkylbenzene such as sodium dodecylbenzene sulfonate. Sulfonic acid salts, alkylnaphthalene sulfonates such as sodium isopropylnaphthalene sulfonate, sodium dibutylnaphthalene sulfonate, sodium salt of phthalene sulfonic acid/formalin condensate, sodium alkyl diphenyl ether disulfonate, polyoxyethylene lauryl ether sulfate Examples include polyoxyethylene alkyl ether sulfates such as sodium, (2) sodium pholyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfate, and the like.

アニオン型界面活性剤の量は、現像液中0./〜io重
量%が好適であり、o、s−s*食チがよシ好適である
。多すぎると画像部の色抜けが起こシ、少なすぎると現
像速度が遅くなシ、しかもインキ反発性が低下し、地汚
れを引き起こし易い。
The amount of anionic surfactant in the developer is 0. /~io weight % is suitable, and o, s-s* food is more suitable. If the amount is too large, color loss will occur in the image area, and if it is too small, the development speed will be slow, and the ink repellency will be reduced, making it easy to cause scumming.

本発明の現像液組成物は、上記有機溶媒、アルカリ剤及
びアニオン型界面活性剤を含有するが、本発明の目的に
適合する限シは、他の添加剤を含有させることも可能で
ある。
The developer composition of the present invention contains the above-mentioned organic solvent, alkaline agent, and anionic surfactant, but it is also possible to contain other additives as long as they meet the purpose of the present invention.

本発明の現像液で処理可能なポジ型水なし感光性平版印
刷版は、基板、シリコーンゴム層、及び感光層がこの順
に設けられたものであシ、該感光層中にオルトキノンジ
アジド化合物を含有するものである。オルトキノンジア
ジド化合物としては例えば、フェノール類及びアルデヒ
ド類又はケトン類の重縮合樹脂と下記一般式(1)又は
一般式(II) (式中Xは一8o、Yまたは−COYで示される基で、
Yは除去し得る基を意味する) で表わされるオルトキノンジアジドスルホン酸又はカル
ボン酸誘導体とを化学的に縮合させることにより得られ
るオルトキノンジアジドスルホン酸エステル又はカルボ
ン酸エステルが挙げられる。
The positive waterless photosensitive lithographic printing plate which can be processed with the developer of the present invention has a substrate, a silicone rubber layer, and a photosensitive layer provided in this order, and the photosensitive layer contains an orthoquinone diazide compound. It is something to do. Examples of orthoquinone diazide compounds include polycondensation resins of phenols and aldehydes or ketones and the following general formula (1) or general formula (II) (wherein X is a group represented by -8o, Y or -COY,
Examples include orthoquinonediazide sulfonic acid esters or carboxylic acid esters obtained by chemically condensing orthoquinonediazide sulfonic acid or carboxylic acid derivatives represented by (Y means a removable group).

上記一般式(1)で表゛わされる化合物の具体例として
は、/、コーベンゾ午ノンジアジド(コ)−タースルホ
ニルクロリド、t、S−ベンゾキノンジアジド(J) 
−a−カルボニルクロIJ )”、/、!−ベンゾキノ
ンジアジド(a) −S−スルホニルクロリド、/、!
−ベンゾ印ノンジアジド(コ)−5−カルボニルクロリ
ドなどが挙げられる。上記一般式(n)で表わされる化
合物の具体例としては、ムコ−ナフト中ノンジアジド(
J) −q −スルホニルクロリド、ノーーナツト午ノ
ンジアジド(コ)−ターカルボニルクロリド、へコーナ
7トキノンジアジド(2) −g−スルホニルクロリド
、ムコ−ナフトキノンジアジド(J) −s −カルボ
ニルクロリドなどが挙げられる。
Specific examples of the compound represented by the above general formula (1) include /, cobenzoquinonediazide (co)-tersulfonyl chloride, t,S-benzoquinonediazide (J)
-a-carbonyl chloride IJ)", /,!-benzoquinonediazide (a) -S-sulfonyl chloride, /,!
Examples include -benzo nondiazide (co)-5-carbonyl chloride. Specific examples of the compound represented by the above general formula (n) include nondiazide (
J)-q-sulfonyl chloride, non-naphthoquinonediazide (co)-tercarbonyl chloride, hecona-7-toquinonediazide (2)-g-sulfonyl chloride, muco-naphthoquinonediazide (J)-s-carbonyl chloride, and the like.

フェノール類及びアルデヒド類又はケトン類の重縮合樹
脂としては、例えば、特公昭IIJ−2に4tθJ号公
報に記載されている如く、ピロガロールと7七トンの重
縮合物、特開昭j’、を−76,74IA号公報に記載
されている如く、ピロガロールとレゾルシンの混合物と
ア七トンの重縮金物、特公昭as−’tt、to号公報
に記載されている如く、フェノール・ホルムアルデヒド
ノボラック樹脂あるいは、メタクレゾール・ホルムアル
デヒド・ノボラック樹脂、特公昭SO−!;013号公
報に記載されている如く、パラ置換フェノール・ホルマ
リン樹脂(例えば、バラクレゾール・ホルマリン樹脂、
パラオクチルフェノール・ホルマリン樹脂、パラエチル
フェノール争ホルマリン樹脂、パラプロピルフェ/ −
/I/・ホルマリン樹脂、パラインプロピルフェノール
・ホルマリン樹脂、パラ−n−ブチルフェノール・ホル
マリン樹脂、パラオクチルフェノール・ホルマリン樹脂
など)特公昭6コーboeoり号公報に記載されている
如く、炭素原子数3〜lコのアルキル基又はフェニル基
置換フェノールとフェノール又はそのメチル置換体ある
いはこれらの混合物とをモル比l:デ〜9:lで含むフ
ェノール類混合物とホルムアルデヒドの重縮金物(例え
ば、前記パラ置換フェノールとフェノール・パラクレゾ
ール、メタクレゾール又はオルトクレゾールの重縮金物
など)などが挙げられる。
As the polycondensation resin of phenols and aldehydes or ketones, for example, a polycondensate of pyrogallol and 77 tons, as described in Japanese Patent Publication No. Sho IIJ-2 and 4tθJ, As described in Publication No. 76,74IA, a mixture of pyrogallol and resorcinol and a polycondensate of a7ton, as described in Publication No. , metacresol/formaldehyde/novolac resin, Tokko Sho SO-! ; As described in Publication No. 013, para-substituted phenol/formalin resin (e.g., baracresol/formalin resin,
Paraoctylphenol/formalin resin, paraethylphenol/formalin resin, parapropylphen/-
/I/・Formalin resin, para-n-propylphenol-formalin resin, para-n-butylphenol-formalin resin, para-octylphenol-formalin resin, etc.) As described in the Japanese Patent Publication No. 1986/BOEO, the number of carbon atoms is 3. A phenol mixture containing ~l alkyl or phenyl group-substituted phenol and phenol or its methyl substituted product or a mixture thereof in a molar ratio of l:de~9:l and a polycondensate of formaldehyde (for example, the above-mentioned para-substituted (phenol, phenol para-cresol, meta-cresol, or ortho-cresol, etc.).

フェノール類及びアルデヒド類又はケトン類の重縮合樹
脂の水酸基に対するオルト=?ノンジアジド基のエステ
ル化率は、15〜100モル係が好ましく、20−1!
:0モル俤がより好ましい。
Ortho to the hydroxyl group of the polycondensation resin of phenols and aldehydes or ketones=? The esterification rate of the nondiazide group is preferably 15 to 100 moles, and is 20-1!
:0 mole is more preferable.

更にオルトキノンジアジド化合物として、ポリヒドロキ
シベンゾフェノンのオルトナフトキノンジアジドスルホ
ン酸エステル(側光ばl、コーナフトキノンジアジド(
コ)−5−スルホン酸エステル、へコーナ7トキノンジ
アジド(λ)−q−スルホン酸エステルなど)が挙げら
れる。
Furthermore, as an orthoquinonediazide compound, orthonaphthoquinonediazide sulfonic acid ester of polyhydroxybenzophenone (side light), cornaphthoquinonediazide (
co)-5-sulfonic acid ester, hecona-7toquinonediazide (λ)-q-sulfonic acid ester, etc.).

このポリヒドロキシベンゾフェノンは、ベンゾフェノン
の水素原子2個以上を水酸基に置換してなる化合物、例
えばジヒドロキシベンシフエノン、トリヒドロキシベン
ゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、ペンタ
ヒドロキシベンゾフェノン、オクタヒドロキシベンゾフ
ェノン、又はその誘導体(例えば/Sロゲン原子、アル
キル基、アリール基、アラルキル基、カルボキシル基の
置換体)等が挙げられる。好ましくはトリヒドロキシベ
ンゾフェノン又ハテト2ヒドロキシベンゾフェノンであ
シ、より好ましくハコ*3eq−1”)ヒドロキシベン
ゾフェノン1.2. j、 u、 tI’−テトラヒド
ロキシベンゾフェノンが挙げられる。
This polyhydroxybenzophenone is a compound obtained by substituting two or more hydrogen atoms of benzophenone with hydroxyl groups, such as dihydroxybensiphenone, trihydroxybenzophenone, tetrahydroxybenzophenone, pentahydroxybenzophenone, octahydroxybenzophenone, or a derivative thereof (for example, / S rogen atom, alkyl group, aryl group, aralkyl group, carboxyl group substituents), and the like. Preferred is trihydroxybenzophenone or dihydroxybenzophenone, and more preferred is hydroxybenzophenone 1.2.j, u, tI'-tetrahydroxybenzophenone.

水酸基に対するエステル化率は、30〜100チが好ま
しい。
The esterification rate for hydroxyl groups is preferably 30 to 100.

本発明の現像液で処理可能なポジ型水なし感光性平版印
刷版の感光層中には、オルトキノンジアジド化合物に加
え、通常、結合剤として種々の樹脂を含有させるのが好
ましい。
In addition to the orthoquinonediazide compound, it is usually preferable to contain various resins as a binder in the photosensitive layer of the positive waterless photosensitive lithographic printing plate which can be processed with the developer of the present invention.

結合剤としては、例えば、ノボラック樹脂、エポキシ樹
脂、ポリビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂などが挙
げられるが、シリコーンゴム層との接着性が良好なもの
でなければならない。結合剤としては、下記一般式(1
)で表わされる構造単位を有する高分子化合物あるいは
、下記一般式(IV)で表わされる構造単位を有するに
i高分子化合物が好ましい。
Examples of the binder include novolak resin, epoxy resin, polyvinyl acetal resin, and acrylic resin, but it must have good adhesiveness to the silicone rubber layer. As a binder, the following general formula (1
) or i-polymer compounds having a structural unit represented by the following general formula (IV) are preferred.

−一〇R”R” −CR3→− (式中、R1およびR2は水素原子、ハロゲン原子、ア
ルキル基、アリール基又はカルボキシル基であり、R”
は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基
であり、n’は水素原子、アルキル基、アリール基又は
アラルキル基であり、Bは置換基を有してもよい芳香族
基′ctJ、%Aは窒素原子と前記芳香族基の炭素原子
とを連結するコ価の有機基であシ、mは0又はlの数で
ある。) (式中、R′′は水素原子又はメチル基であシ、Xはア
ルキレン基であシ、nは0又は/の数を示し、Yはアル
キル基又はアルコキシ基であシ、mは0−.1の数を示
す。特にXがメチレン基で、Yが炭素数/−&のアルキ
ル基又はアルコキシ基であることが好ましい。) 前記一般式〔■〕で表わされる構造単位は具体的ニハ、
例えば、N−(p−ヒドロキシ7エ二ル)メタクリルア
ミド、N−(p−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド
、N−(,7−メチルーリーヒドロキシフエニル)メタ
クリルアミド、N−(,7,&−ジヒドロキシフェニル
)メタクリルアミ)”、N−(J−ヒドロキシーダーシ
アノフェニル)メタクリルアミド、N−(p−ヒドロキ
シフェニルエチル)メタクリルアミドなどから誘導され
る構造単位であシ、これらの中で特に好ましいのは、N
−(p−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミドである
-10R"R" -CR3→- (In the formula, R1 and R2 are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a carboxyl group, and R"
is a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, or an aryl group, n' is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group, and B is an aromatic group that may have a substituent 'ctJ, %A is a covalent organic group that connects the nitrogen atom and the carbon atom of the aromatic group, and m is the number of 0 or 1. ) (In the formula, R'' is a hydrogen atom or a methyl group, X is an alkylene group, n is 0 or the number of /, Y is an alkyl group or an alkoxy group, m is 0 -.1. In particular, it is preferable that X is a methylene group and Y is an alkyl group or an alkoxy group with carbon number/-&.) The structural unit represented by the above general formula [■] is a specific ,
For example, N-(p-hydroxy7enyl)methacrylamide, N-(p-hydroxyphenyl)acrylamide, N-(,7-methyl-lyhydroxyphenyl)methacrylamide, N-(,7,&-dihydroxy Structural units derived from "phenyl)methacrylamide", N-(J-hydroxycyanophenyl)methacrylamide, N-(p-hydroxyphenylethyl)methacrylamide, etc. are particularly preferred among these. , N
-(p-hydroxyphenyl)methacrylamide.

前記一般式[、IV]で表わされる構造単位は、具体的
には、例えば、N−(、?−メチルフェニル)メタクリ
ルアミド、N−(,7−メチルフェニル)アクリルアミ
ド、N−(3−メトキシフェニル)メタクリルアミド、
N−(,7−メト午ジフエニル)アクリルアミド、N−
(4t−エチルフェニル)メタクリルアミド、N−(e
−エチルフェニル)アクリルアミド、N−(p−エトキ
シフェニル)メタクリルアミド、N−(g−エトキシフ
ェニル)アクリルアミド、N−(p−ブチルフェニル)
メタクリルアミド、N−(l−ブチルフェニル)アクリ
ルアミド、N−ベンジルメタクリルアミド、N−ベンジ
ルアクリルアミド、N−(4I−メチルベンジル)メタ
クリルアミド、N−(tI−メチルベンジル)アクリル
アミド、N−(p−メトキシベンジル)メタクリルアミ
ド、N−(tI−メトキシベンジル)アクリルアミド、
N−(J−エチルベンジル)メタクリルアミド、N−(
3−エチルベンジル)アクリルアミド、N−(3−エト
キシベンジル)メタクリルアミド、N−(,7エトキシ
ペンジル)アクリルアミド、N−(F−ブチルベンジル
)メタクリルアミド、N−(F−ブチルベンジ/I/)
アクリルアミドなどから誘導される構造単位であシ、こ
れらの中で特に好ましいものは、N −フェニルメタク
リルアミド、N−(、y−メトキシフェニル)メタクリ
ルアミド、N−(&−メト午ジフェニル)メタクリルア
ミドである。
Specifically, the structural unit represented by the general formula [, IV] is, for example, N-(,?-methylphenyl)methacrylamide, N-(,7-methylphenyl)acrylamide, N-(3-methoxy phenyl) methacrylamide,
N-(,7-methodiphenyl)acrylamide, N-
(4t-ethylphenyl)methacrylamide, N-(e
-ethylphenyl)acrylamide, N-(p-ethoxyphenyl)methacrylamide, N-(g-ethoxyphenyl)acrylamide, N-(p-butylphenyl)
Methacrylamide, N-(l-butylphenyl)acrylamide, N-benzylmethacrylamide, N-benzylacrylamide, N-(4I-methylbenzyl)methacrylamide, N-(tI-methylbenzyl)acrylamide, N-(p- methoxybenzyl)methacrylamide, N-(tI-methoxybenzyl)acrylamide,
N-(J-ethylbenzyl)methacrylamide, N-(
3-ethylbenzyl)acrylamide, N-(3-ethoxybenzyl)methacrylamide, N-(,7ethoxypenzyl)acrylamide, N-(F-butylbenzyl)methacrylamide, N-(F-butylbenzyl/I/)
Structural units derived from acrylamide and the like, particularly preferred among these are N-phenylmethacrylamide, N-(,y-methoxyphenyl)methacrylamide, and N-(&-methoxyphenyl)methacrylamide. It is.

前記一般式〔■〕または(IT)で表わされる構造単位
を有する高分子化合物は、前記一般式〔履〕または(I
V)で表わされる構造単位を誘導する単量体と共重合可
能な他の単量体との共重合体が好ましく、共重合させる
単量体としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル
などのアクリル酸アルキル類;メタクリル酸メチル、メ
タクリル酸エチル、メタクリル酸−一ヒドロキシエチル
などのメタクリル酸エステル類;N−メチルメタクリル
アミドなどのメタクリルアミド類;メタクリル酸、アク
リル酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどが
好ましく、これらとの多元共重合体が好ましい。更に分
子量としては、約1万〜100万が好ましく、特に約3
万〜30万が好ましい。
The polymer compound having a structural unit represented by the general formula [■] or (IT) is a polymer compound having a structural unit represented by the general formula [■] or (IT).
A copolymer of a monomer inducing the structural unit represented by V) and another copolymerizable monomer is preferable, and examples of the monomer to be copolymerized include acrylics such as methyl acrylate and ethyl acrylate. Acid alkyls; Methacrylic esters such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, and monohydroxyethyl methacrylate; Methacrylamides such as N-methyl methacrylamide; Preferably methacrylic acid, acrylic acid, acrylonitrile, methacrylonitrile, etc. , multi-component copolymers with these are preferred. Furthermore, the molecular weight is preferably about 10,000 to 1,000,000, particularly about 3
300,000 to 300,000 is preferable.

オルトキノンジアジド化合物の感光層中に占める割合は
、S〜60重量係が好ましく、特にコ0−10重量係が
好ましく、結合剤の感光層中に占める割合は、eo〜り
S重量%が好ましく、特にSO〜ざ0重量%が好ましい
The proportion of the orthoquinone diazide compound in the photosensitive layer is preferably from S to 60% by weight, particularly preferably from 0 to 10% by weight, and the proportion of the binder in the photosensitive layer is preferably from eo to 0% by weight. Particularly preferred is SO to 0% by weight.

感光層中には、更に、露光可視画付与剤、色素、塗布性
向上剤、可塑剤、感脂化剤などを添加しても良い。
The photosensitive layer may further contain an exposure-visible image imparting agent, a dye, a coatability improver, a plasticizer, a sensitizing agent, and the like.

感光層を形成させるためには、含有させる各成分を各種
有機溶媒、例えば、コーメトキシエタノール、−一エト
キシエタノール、メチルセロソルブアセテート、エチル
セロソルブアセテート、l−メトキシ−a−プロノくノ
ール、メチルエチルケトンなどの単独あるいは2種以上
の混合溶媒中に溶解あるいは分散して、常法に従い塗布
し、通常tIo’c−7so℃で乾燥させる。
In order to form the photosensitive layer, each component to be contained is mixed with various organic solvents such as comethoxyethanol, -monoethoxyethanol, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, l-methoxy-a-pronoquinol, and methyl ethyl ketone. It is dissolved or dispersed in a solvent alone or in a mixed solvent of two or more kinds, applied according to a conventional method, and usually dried at tIo'c-7so°C.

感光層の好ましい厚さは、0./−100μmであり、
より好ましくはθ、j −g oβm1更に好ましくは
、1〜304mである。
The preferred thickness of the photosensitive layer is 0. /-100μm,
More preferably θ, j −goβm1, still more preferably 1 to 304 m.

本発明の現像液で処理可能なポジ型水なし感光性平版印
刷版のシリコーンゴム層は、例えば、下記一般式で表わ
される繰り返し単位を有するオルガノポリシロキサンを
主成分として架橋し得うれたシリコーンゴムからなるも
のである。
The silicone rubber layer of the positive-working waterless photosensitive lithographic printing plate that can be processed with the developer of the present invention is, for example, a silicone rubber that can be crosslinked and has an organopolysiloxane as a main component having a repeating unit represented by the following general formula. It consists of

ここでnはコ以上の整数。R6、R7は水素原子、非置
換もしくは置換(例えば)・ロゲン原子、シアノ基、ア
ミノ基による)の炭素数/−10のアルキル基、アルケ
ニル基、あるいはフェニル基のうちから任意に選ばれ、
特にR6、R7の60チ以上がメチル基であることが好
ましい。
Here n is an integer greater than or equal to. R6 and R7 are arbitrarily selected from a hydrogen atom, an unsubstituted or substituted (for example, by a rogen atom, a cyano group, an amino group) alkyl group, alkenyl group, or phenyl group having a carbon number of /-10,
In particular, it is preferable that 60 or more of R6 and R7 are methyl groups.

分子量は、任意であるが、コ5℃における粘度力、/−
/ Q (7(7(7ストークスのものが好ましい。
The molecular weight is arbitrary, but the viscosity at 5°C, /-
/ Q (7 (7 (7 Stokes is preferable.

上式の末端のケイ素原子に水酸基、加水分解性基(例え
ば、アシルオキシ基、アルコキシ基、ケトキシメート基
、アミノ基、アミド基など)が結合したオルガノポリシ
ロキサンを用いて縮合反応によって架橋し、シリコーン
ゴムとする。
Organopolysiloxane in which a hydroxyl group or a hydrolyzable group (for example, an acyloxy group, an alkoxy group, a ketoximate group, an amino group, an amide group, etc.) is bonded to the terminal silicon atom of the above formula is used to crosslink by a condensation reaction, and a silicone rubber is produced. shall be.

特に好適に使用されるのは、両末端に水酸基が結合した
オルガノポリシロキサンであシ、具体的には、例えば、
α、ω−ジヒドロキシジメチルポリシロキサンが挙げら
れる。通常、これらのオルガノポリシロキサンに架橋剤
(例えば、γ−(コーアミノエチル)アミノピロピルト
リメトキシシラン、r−グリシドキシプロビルトリメト
キシシラン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリア
セトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、メチルト
リアセトキシシラン、ビニルトリス(メチルエチルケト
オキシム)シラン、メチルトリス(メチルエチルケトオ
キシム)シランなど)を添加する。
Particularly preferably used are organopolysiloxanes having hydroxyl groups bonded to both ends, specifically, for example,
α,ω-dihydroxydimethylpolysiloxane is mentioned. Typically, these organopolysiloxanes are combined with a crosslinking agent (e.g., γ-(co-aminoethyl)aminopropyltrimethoxysilane, r-glycidoxypropyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxysilane). silane, methyltriacetoxysilane, vinyltris(methylethylketoxime)silane, methyltris(methylethylketoxime)silane, etc.).

シリコーンゴム層を得るためには、通常、未硬化状態の
シリコーンゴム層を硬化させる。その硬化の為には、触
媒として、公知の金属触媒、例えばジプチル錫ジアセテ
ート、トリブチル錫アセテート、ジブチル錫ジラウレー
ト、テトラメチルオルソチタネート、テトラメチルオル
ソチタネートなどを添加することが好ましい。これらの
触媒は、シリコーンゴムの総重量に対して、0.0/〜
5重畳チが好ましく、特に0.0−〜a重−1%の範囲
で用いられることが好ましい。
In order to obtain a silicone rubber layer, an uncured silicone rubber layer is usually cured. For the curing, it is preferable to add a known metal catalyst such as diptyltin diacetate, tributyltin acetate, dibutyltin dilaurate, tetramethylorthotitanate, tetramethylorthotitanate, etc. as a catalyst. These catalysts are added in an amount of 0.0/~ to the total weight of silicone rubber.
It is preferable to use 5-fold polyester, especially in the range of 0.0-1% by weight.

また、補強の目的で、シリカ、炭酸カルシウムなどの無
機充填材を加えることも有用である。
It is also useful to add inorganic fillers such as silica and calcium carbonate for reinforcement purposes.

シリコーンゴム層を形成させるためには、上記の各成分
を、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、n−へキ
サン、n−へブタン、コーメチルヘキサンなどの脂肪族
炭化水素類、あるいハ、これラドベンゼン、トルエン、
キシレンなどの芳香族炭化水素類少量との混合溶媒に溶
解して溶液となしたシリコーンゴム溶液を常法に従い塗
布し、例えば、SO℃〜tSO℃の温度の範囲で数分間
以上熱処理して十分に硬化した非粘着性のシリコーンゴ
ム層が形成される。
In order to form a silicone rubber layer, each of the above components is mixed with aliphatic hydrocarbons such as cyclohexane, methylcyclohexane, n-hexane, n-hebutane, co-methylhexane, or ,
A silicone rubber solution prepared by dissolving it in a mixed solvent with a small amount of aromatic hydrocarbons such as xylene to form a solution is applied according to a conventional method, and then heat-treated for several minutes or more at a temperature of, for example, SO℃ to tSO℃. A hardened non-stick silicone rubber layer is formed.

シリコーンゴム層の厚サバ、o、i〜−008mが好ま
しく、特に/〜iooμmが好ましく、更には、2〜5
0μmが好ましい。
The thickness of the silicone rubber layer is preferably o, i to -008 m, particularly preferably / to ioo μm, and more preferably 2 to 5 m.
0 μm is preferable.

本発明の現像液で処理を行なう水なし感光性平版印刷版
の基板は、平版印制機に取り付けることができるたわみ
性や、印刷時にかかる荷重に耐えるものであれば、特に
限定されない。
The substrate of the waterless photosensitive lithographic printing plate treated with the developer of the present invention is not particularly limited as long as it has the flexibility to be attached to a lithographic printing machine and can withstand the load applied during printing.

例えば、コート紙などの紙類、アルミニウム、鉄、亜鉛
などの金属板:ポリオレフィン(例えば、ポリエチレン
、ポリプロピレンなど)、ホリエステル(例えば、ポリ
エチレンテレフタレートなど)、ポリアミドなどの有機
高分子フィルム、あるいは、これらの複合体;更に、上
記金属板以外のものとアルミ箔との複合体などが挙げら
れる。これらの表面上に7ル−シヨン防止などの目的で
更にコーティングを施したシ、あるいは、紫外線吸収剤
を含浸、もしくは内部に分散した紙、有機高分子フィル
ムなどを基板とすることも可能である。
For example, paper such as coated paper, metal plates such as aluminum, iron, and zinc; organic polymer films such as polyolefin (e.g., polyethylene, polypropylene, etc.), polyester (e.g., polyethylene terephthalate, etc.), polyamide; Further examples include a composite of aluminum foil and a material other than the above-mentioned metal plate. It is also possible to use a substrate that is further coated on these surfaces for purposes such as prevention of 7-rusion, or paper, organic polymer film, etc. impregnated with or dispersed with an ultraviolet absorber. .

本発明の水なし平版印刷用原版の製造方法は、表面張力
の非常に小さいシリコーンゴム層上に、公知の塗布方法
で感光層を塗設することは困難であるために、通常、次
のような方法に従い製造される。
Since it is difficult to coat a photosensitive layer on a silicone rubber layer with a very low surface tension using a known coating method, the method for producing the waterless lithographic printing original plate of the present invention is usually carried out as follows. Manufactured according to a method.

(1)重合体フィルム上に感光層とシリコーンゴム層と
を、この順序で塗設し、基体とシリコーンゴム層とが密
着するように圧着する方法。
(1) A method in which a photosensitive layer and a silicone rubber layer are coated in this order on a polymer film, and the substrate and silicone rubber layer are pressed together so that they are in close contact with each other.

(2)基体上に設けたシリコーンゴム層と、重合体フィ
ルム上に設けた感光層とを、シリコーンゴム層と感光層
とが密着するように圧着する方法。
(2) A method of press-bonding a silicone rubber layer provided on a substrate and a photosensitive layer provided on a polymer film so that the silicone rubber layer and the photosensitive layer are in close contact with each other.

重合体フィルムとしては、厚さが0./ −!;00μ
mのポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、
ポリエチレンテレフタレートフィルム等が挙げられ、表
面に放電処理、粗面化処理などを施して、ぬれ性を改良
したフィルムであってもよい。
The polymer film has a thickness of 0. / -! ;00μ
m polyethylene film, polypropylene film,
Examples include polyethylene terephthalate films, and films whose surfaces have been subjected to discharge treatment, roughening treatment, etc. to improve wettability may also be used.

また、感光層とシリコーンゴム層との接着性を向上させ
る目的で、感光層又はシリコーンゴム層中にシランカッ
プリング剤或いはシリコーンプライマー等を添加しても
よい。またシリコーンゴム層と基板との接着性を向上さ
せる目的で、基板上にシランカップリング剤或いはシリ
コーンプライマー等を塗布したシ、あるいは、シリコー
ンゴム層中にシランカップリング剤或いはシリコーンプ
ライマー等を添加してもよい。
Further, for the purpose of improving the adhesion between the photosensitive layer and the silicone rubber layer, a silane coupling agent, a silicone primer, or the like may be added to the photosensitive layer or the silicone rubber layer. In addition, in order to improve the adhesion between the silicone rubber layer and the substrate, a silane coupling agent or silicone primer, etc. is applied to the substrate, or a silane coupling agent, silicone primer, etc. is added to the silicone rubber layer. You can.

以上の水なし感光性平版印刷版を、高圧水銀灯、午セノ
ンランプ、メタルハライドランプなどの光源を用いて画
像露光を行なった後、本発明の現像液組成物を用いて現
像処理を施す。現像処理によシ露光部の感光層は、溶解
あるいは剥離除去され、インキ反発性のシリコーンゴム
層表面が露呈し、非画像部となり、一方、未露光部の感
光層は、現像処理により除去されることなく、インキ受
容性の画像部となシ、水なし平版印刷版を得ることがで
きる。
The above-described waterless photosensitive lithographic printing plate is subjected to image exposure using a light source such as a high-pressure mercury lamp, a mercury lamp, a metal halide lamp, etc., and then developed using the developer composition of the present invention. The photosensitive layer in the exposed areas is dissolved or peeled off during the development process, and the surface of the ink-repellent silicone rubber layer is exposed, forming a non-image area.On the other hand, the photosensitive layer in the unexposed areas is removed by the development process. It is possible to obtain an ink-receptive image area and a waterless lithographic printing plate without any problems.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明は、これら実施例に限定されない。なお、実施例
中に用いられる部は、いずれも重量部を示す。
Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.
The invention is not limited to these examples. Note that all parts used in the examples indicate parts by weight.

(実施例/−j及び比較例1〜3) N−7エニルメタクリルアミドu、oy、アクリロニト
リル3.2 fi 、アクリル酸メチル3.コl。
(Example/-j and Comparative Examples 1 to 3) N-7 enyl methacrylamide u, oy, acrylonitrile 3.2 fi, methyl acrylate 3. Col.

アクリル酸エチルl/、ji、メタクリル酸へll、α
、α′−アゾビスイソブチロニトリル0.II/11及
びメタノール30−の混合物を、窒素雰囲気下、還流温
度でS時間重合反応を行なった。
Ethyl acrylate l/, ji, methacrylic acid l/, α
, α'-azobisisobutyronitrile 0. A mixture of II/11 and methanol 30 was subjected to a polymerization reaction at reflux temperature for S hours under a nitrogen atmosphere.

−一メトキシエタノールを’l0txtt加えた後、油
浴の温度を130℃にして、メタノール、未反応モノマ
ーを留去した。放冷後、コーメトキシエタノールを更に
加え、固形分35重量%にし、高分子化合物−7の35
重量係ココ−トキシエタノール溶液を得た。分子量は、
ゲルバーミエーションクロマトグラフィによシ標準ポリ
スチレン換算で重量平均分子量!。り万であった。
After adding -10txtt of methoxyethanol, the temperature of the oil bath was raised to 130°C, and methanol and unreacted monomers were distilled off. After cooling, comethoxyethanol was further added to make the solid content 35% by weight, and 35% of polymer compound-7 was added.
A weight-based cocoatoxyethanol solution was obtained. The molecular weight is
Weight average molecular weight calculated by gel permeation chromatography in terms of standard polystyrene! . It was 10,000.

厚さ約50μmの本州製紙■製ポリプロピレンフィルム
5O−aO7φ20の内面(濡れ張力3gdyne /
 cm )に、下記感光液(A)をR,D、 5pec
ialtiesInc製パ一コーター/16gを用いて
塗布し、60℃で6分間乾燥させ、厚さコ、Sμmの感
光層を設けた。
The inner surface of a polypropylene film 5O-aO7φ20 made by Honshu Paper ■ with a thickness of about 50 μm (wet tension 3 gdyne /
cm), add the following photosensitive solution (A) to R, D, 5 pec
It was coated using a 16 g Pacoater manufactured by Ialties Inc. and dried at 60° C. for 6 minutes to form a photosensitive layer having a thickness of S μm.

感光液(A) (a)  高分子化合物−1の35重量%コーメトキシ
エタノール溶液 ・旧・・200部ラ)  コツ3.q
−トリヒドロキシベンゾフエノンの八−一ナフトキノン
ジアジド(J) −s−スルホン酸エステル(エステル
化率95%)・・・・・・30部 (c)  −一トリクロロメチルーS−(β−(2′−
ベンゾフリル)ビニル]  ’、3s’l−オキサジア
ゾール             ・・・・・・ 1部
(d)  住人3M株製フロラードFC−II30(フ
ッ素系界面活性剤)   ・・・・・・0.07部(e
)  採土ケ谷化学■製ビクトリアピュアーブルーBO
H・・・・・・7部 (f)  −一エトキシエタノール   ・・・・・・
tiso部次に該感光層上に、下記シリコーン溶液を回
転塗布機を用いて室温、/ 00 rpmで塗布し、室
温でS分間風乾した後、60℃、72分間熱処理を行な
った。
Photosensitive solution (A) (a) 35% by weight comethoxy ethanol solution of polymer compound-1 - Old... 200 parts A) Tip 3. q
-8-1 naphthoquinonediazide (J) of trihydroxybenzophenone -s-sulfonic acid ester (esterification rate 95%) 30 parts (c) -1-trichloromethyl-S-(β-( 2'-
benzofuryl) vinyl]', 3s'l-oxadiazole... 1 part (d) Resident 3M Co., Ltd. Florard FC-II30 (fluorosurfactant)...0.07 part ( e
) Victoria Pure Blue BO manufactured by Odugaya Chemical ■
H...7 parts (f) -monoethoxyethanol...
Next, the following silicone solution was applied onto the photosensitive layer using a spin coater at room temperature and /00 rpm, air-dried at room temperature for S minutes, and then heat-treated at 60° C. for 72 minutes.

シリコーン溶液 (a)  両末端水酸基のポリジメチルシロキサン(粘
度13,000ストークス、トーン・シリコーン■製B
Y/4−10/)    ・・・・・・100部ら) 
メチルトリス(メチルエチルケトオキシム)シラン  
           ・隼・・・・10部(C)  
ジプチル錫ジアセテート    ・・・・・・002部
(d)  メチルシクロヘキサン    ・・・・・・
300部一方、厚さ0.2 (I■のアルミニウム板上
に、回転塗布機を用いて、室温/ 00 rpmで、ト
ーン・シリコーン■製5H−2260プライマーを塗布
し、室温で5分間、風乾した。この上に、前記感光層及
びシリコーンゴム層が積層されたポリプロピレンフィル
ムをプライマー層とシリコーンゴム層とが接するように
、ラミネーターを用いて、tro℃、t oka/cr
i、t o oon1分で圧着した。これを、t、o℃
で5分間熱処理した。
Silicone solution (a) Polydimethylsiloxane with hydroxyl groups at both ends (viscosity 13,000 stokes, manufactured by Tone Silicone B)
Y/4-10/) ...100 copies etc.)
Methyltris(methylethylketoxime)silane
・Hayabusa... Part 10 (C)
Diptyltin diacetate...002 parts (d) Methylcyclohexane...
300 copies On the other hand, on an aluminum plate with a thickness of 0.2 (I), apply 5H-2260 primer manufactured by Tone Silicone ■ at room temperature / 00 rpm using a spin coater, and air dry for 5 minutes at room temperature. A polypropylene film on which the photosensitive layer and the silicone rubber layer were laminated was placed on top of the photosensitive layer and the silicone rubber layer using a laminator at a temperature of 20° C. and 20° C.
It was crimped for 1 minute. This is t, o℃
was heat-treated for 5 minutes.

ポリプロピレンフィルムを剥離した後、60℃、go分
間、更に熱処理を施すことにより、シリコーンゴム層を
十分に硬化させ、水なし感光性平版印刷版を得た。なお
、完全に硬化したシリコーンゴム層の膜厚は、約10t
1mであった。この版を常法に従い、ポジの原画フィル
ムを通し、ウシオ電機株製、7KW高圧水銀灯UM)I
−3000で/rnの距離から2分間画像露光したO これを表1及び表2に示した現像液を用いて2!j;℃
、30秒間浸漬後、軽くこすることにより現像処理を施
し、表1及び表−に示す結果を得た。
After peeling off the polypropylene film, the silicone rubber layer was sufficiently cured by further heat treatment at 60° C. for 1 minute to obtain a waterless photosensitive lithographic printing plate. The thickness of the completely cured silicone rubber layer is approximately 10 tons.
It was 1m. This plate was passed through a positive original film according to the usual method, using a 7KW high-pressure mercury lamp manufactured by Ushio Inc. (UM)I.
Image exposure was carried out at -3000 for 2 minutes from a distance of /rn. j;℃
After dipping for 30 seconds, development was performed by rubbing lightly, and the results shown in Tables 1 and 2 were obtained.

インキ反発性については、現像処理後、水洗し、乾燥し
た後、東洋インキ製造■製 東洋キングウルトラTKU
アクワレスG墨インキを付けたローラを版面上にころが
すことによシ、非画線部にインキがほとんど付着しなか
ったものを「良好」とし、付着したものを「不良」とし
た。また、現像処理により、非画像部の感光層が明らか
に除去されなかった場合、「現像不可」とした。
Regarding ink repulsion, after development, washing with water, and drying, use Toyo King Ultra TKU manufactured by Toyo Ink Manufacturing ■.
By rolling a roller coated with Aquares G black ink onto the plate surface, those with almost no ink adhering to the non-image areas were rated as "good", and those with adhesion were rated as "bad". In addition, when the photosensitive layer in the non-image area was not clearly removed by the development process, it was judged as "unable to be developed."

(実施例6〜t) N−(<c−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミドp
、IIy、アクリロニトリル3.コl、アクリル酸メチ
ル3.コl、メタクリル酸メチル八311アクリル酸エ
チル/ 0.3 g、メタクリル酸1.1g、α、α′
−アゾビスインブチロニトリル0.6コJ、メタノール
/1ast及びアセトンig−の混合物を窒素気流下、
還流温度で約6時間重合反応を行ない、固形分濃度4c
O重量%の高分子化合物−コのメタノール・アセトン溶
液を得た。
(Example 6-t) N-(<c-hydroxyphenyl)methacrylamide p
, IIy, acrylonitrile 3. Coll, methyl acrylate 3. Col, methyl methacrylate 8311 ethyl acrylate/0.3 g, methacrylic acid 1.1 g, α, α'
-A mixture of 0.6 J of azobisin butyronitrile, methanol/1ast and acetone ig- under a nitrogen stream,
The polymerization reaction was carried out at reflux temperature for about 6 hours, and the solid content concentration was 4c.
A methanol/acetone solution of a polymer compound containing 0% by weight was obtained.

重量平均分子量はj、/万であった。The weight average molecular weight was j,/10,000.

実施例!−5における感光液(A)の代わシに下記感光
液(B)にする以外は、実施例/−j−と同様にして、
水なし感光性平版印刷版を得た。
Example! In the same manner as in Example /-j-, except that the following photosensitive liquid (B) was used instead of the photosensitive liquid (A) in -5,
A waterless photosensitive lithographic printing plate was obtained.

感光液CB) (a)  高分子化合物−2のeo重量係メタノール・
アセトン溶液  ・・・・・・/り5部(b)  a、
s、q−) リヒドロキシベンゾフェノンの7、コーナ
7トキノンジアジド(J) −3−スルホン酸エステル
(エステル化率デ5チ)・・・・・・lS部 (C)メタクレゾールΦホルムアルデヒド・ノボラック
樹脂のムコ−ナフトキノンジアジド(コ)−5−スルホ
ン酸エステル(エステル化率23係、重量平均分子量s
、ooo)・・・75部(d)  へコーナ7トキノン
ジアジド(λ)−5−スルホニルクロリド      
   ・・・・・・7部(e)  住人JMVm製フロ
ラードFC−1130・・・・・・0.07部 (f)  採土ケ谷化学■製ビクトリアビニアープルー
BOH・・・・・・八一部 @コーエトキシエタノール   ・・・・・・aso部
これを、画像露光後、下記現像液−1〜3を用いてそれ
ぞれ現像処理を施し、表3に示す結果を得た。
Photosensitive liquid CB) (a) eo weight ratio methanol of polymer compound-2
Acetone solution.../5 parts (b) a,
s, q-) 7, corner 7 quinone diazide of hydroxybenzophenone (J) -3-sulfonic acid ester (esterification rate: 5%)...lS part (C) metacresol Φ formaldehyde novolak resin Muco-naphthoquinonediazide (co)-5-sulfonic acid ester (esterification rate: 23, weight average molecular weight s
, ooo)...75 parts (d) Hecona 7-toquinone diazide (λ)-5-sulfonyl chloride
...7 parts (e) Florado FC-1130 made by JMVm...0.07 parts (f) Victoria vinyl blue BOH made by Osugaya Kagaku ■...8 parts @Co-ethoxyethanol...Aso portion After image exposure, this was subjected to development treatment using the following developers 1 to 3, respectively, and the results shown in Table 3 were obtained.

現像液−l エチレングリコールモノフェニルエーテル炭酸ナトリウ
ム・lO水塩 デモールN 水 現像液−2 エチレンクリコールモノフェニルエーテ、レジエタノー
ルアミン バイオニンAすlB 水 現像液−3 ペンジルアルコール トリエタノールアミン デモールN 水 /G1部 /j部 70部 9A/部 15部 70部 lS部 qbs部 15部 lS部 10部 ?6.5一部 評価は、現像処理後、水洗し、乾燥した後、湿し水を用
いずにダヴイッドソンデュアリス’yoo型オフセット
印刷機で、東洋インキ製造■製東洋キングウルトラTK
OアクワレスGMインキによって印刷をすることによシ
、インキ着肉性、インキ反発性及び耐刷性について行な
った。インキ着肉性については、インキローラー上のイ
ンキ膜厚が3.3 amの時の印刷物のペタ部の反射濃
度がへS以上の時、「良好」とし、/、5未満を「不良
」とした。インキ反発性は、印刷物の非画像部の反射濃
度が印刷前の反射濃度十0.02以下を「良好」とし、
それよシ大きい場合「不良」とした。耐刷物は、ペタ部
も含め画像部が損傷したシ、インキ着肉性の低下した部
分が観察された時点での印刷枚数で判断した。
Developer-l Ethylene glycol monophenyl ether sodium carbonate/IO hydrate Demol N Water developer-2 Ethylene glycol monophenyl ether, diethanolamine bionin AlB Water developer-3 Penzyl alcohol triethanolamine Demol N Water/G1 part/j part 70 parts 9A/part 15 parts 70 parts lS part qbs part 15 parts lS part 10 parts? 6.5 Partial evaluation was carried out using a Davidson Dualis 'yoo type offset printing machine after development, washing with water, drying, and without using dampening water. Toyo King Ultra TK manufactured by Toyo Ink Manufacturing ■
The ink receptivity, ink repulsion, and printing durability were examined by printing with O Aqualess GM ink. Regarding ink adhesion, when the ink film thickness on the ink roller is 3.3 am, when the reflection density of the flat part of the printed matter is equal to or higher than 5S, it is considered "good", and when it is less than 5, it is considered "poor". did. Ink repulsion is considered "good" when the reflection density of the non-image area of the printed material is 10.02 or less before printing.
If it is larger than that, it is marked as "defective". The printing life was determined by the number of sheets printed at the time when damage to the image area, including the petal area, and areas where the ink receptivity was deteriorated were observed.

表−3(実施例6〜g) 本発明の現像液組成物を用いれば、インキ着肉性・イン
キ反発性が優れた水なし平版印刷版を得ることができる
。また、アルカリ剤として有機アミン化合物を用いれば
、優れた耐刷性を有する水なし平版印刷版を得ることが
できる。
Table 3 (Examples 6 to g) By using the developer composition of the present invention, a waterless lithographic printing plate with excellent ink receptivity and ink repulsion properties can be obtained. Furthermore, if an organic amine compound is used as the alkali agent, a waterless lithographic printing plate having excellent printing durability can be obtained.

(参考例) 実施例/−,1における感光液(A)の代わシに下記感
光液(C)に対する以外は、実施例/−&と同様にして
、ネガを水なし感光性平版印刷版を得た。
(Reference Example) The negative was processed into a waterless photosensitive lithographic printing plate in the same manner as in Example /-&, except that the following photosensitive liquid (C) was used instead of the photosensitive liquid (A) in Example /-, 1. Obtained.

感光液(C) (a)  特願昭62−33グ956号の合成例中に記
載の高分子化合物−/(N−(p−ヒドロキシフェニル
メタクリルアミド/アクリロニトリル/アクリル酸メチ
ル/アクリル酸エチル/メタクリル酸= / 0/ 2
 ’I/ / !r /ダ3 / gモルチ、重量平均
分子量/ /、、1万)の20重量%2−、%)−キシ
エタノール捲り虻 ・・・・・・ダ00部 記載のジアゾ樹脂−7(バラジアゾジ7工二ルアミンφ
ホルムアルデヒド重縮合物のへキサフルオロリン酸塩、
重量平均分子量2 goo )・・・・・・20部 (C)  ジェリマーAC−10L(商品名・日本紬薬
■製ポリアクリル酸す0チ水浴液) ・・・・・・6部 (d)  住人3M銖製フロラードFC−グ3Q・・・
・・・o、o o s部 (e)  採土ケ谷化学■製ビクトリアピュアーブルー
BOH・・・・・・へコ部 (f)  2−メトキシエタノール   ・・・・・−
100部(ロ) コーエトキシエタノール   ・・・
・・・700部これを画像露光後、下記現像液−qを用
いて現像処理を施し、実施例6〜gと同様な条件で印刷
したところ、優れたインキ反発性であった。
Photosensitive liquid (C) (a) Polymer compound described in the synthesis example of Japanese Patent Application No. 1986-33-956 -/(N-(p-hydroxyphenylmethacrylamide/acrylonitrile/methyl acrylate/ethyl acrylate/ Methacrylic acid = / 0/2
'I//! r / da 3 / g molti, weight average molecular weight / /, 10,000) 20% by weight of 2-, %) -xyethanol filtrate... 00 parts of diazo resin-7 (bala diazodi 7) Engineering amine φ
Hexafluorophosphate of formaldehyde polycondensate,
Weight average molecular weight 2 goo)...20 parts (C) Jerimer AC-10L (trade name: Polyacrylic acid bath liquid made by Nippon Tsumugiku ■)...6 parts (d) Resident 3M made Florado FC-G3Q...
... o, o o s part (e) Victoria Pure Blue BOH manufactured by Udougaya Chemical ■ ... Heko part (f) 2-methoxyethanol ... -
100 parts (b) Co-ethoxyethanol...
... 700 copies After imagewise exposure, this was developed using the following developer -q and printed under the same conditions as Examples 6 to g, and it showed excellent ink repulsion.

また、インキ着肉性も問題なかりた。また耐刷性も1万
枚以上であった。
Further, there was no problem in ink receptivity. Moreover, the printing durability was 10,000 sheets or more.

(b)  特願昭42−33グ956号の合成例中に現
像液−グ エチレングリコールモノフェニルエーテル  ・・・・
・・3g部ジェタノールアミン       ・・・・
・・13部パイオニンAII!B        ・・
・・・・15部水                 
    ・・・・・・9jF部〔発明の効果〕 本発明の現像液組成物を用いると、良好なインキ着肉性
と優れたインキ反発性を有する水なし平版印刷版を得る
ことができる。
(b) In the synthesis example of Japanese Patent Application No. 1982-33G 956, developer - ethylene glycol monophenyl ether...
・・3g part jetanolamine ・・・・
... Part 13 Pionin AII! B...
...15 parts water
9jF Part [Effect of the Invention] By using the developer composition of the present invention, a waterless lithographic printing plate having good ink receptivity and excellent ink repulsion can be obtained.

また、通常のポジ壓感光性平版印刷版用の現像液組成物
は、ネガ型に用いることが不可能又は困難であるのに対
し、本発明の現像液組成物は、ネガ型水なし感光性平版
印刷版の現像処理にも適用することができる。
In addition, while it is impossible or difficult to use ordinary positive photosensitive lithographic printing plate developer compositions for negative tone printing plates, the developer composition of the present invention can be used for negative tone waterless photosensitive printing plates. It can also be applied to the development treatment of lithographic printing plates.

従って、本発明は工業的に極めて有用である。Therefore, the present invention is extremely useful industrially.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)基板上に、シリコーンゴム層、及びオルトキノン
ジアジド化合物を含む感光層がこの順に設けられたポジ
型水なし感光性平版印刷版用現像液組成物であって、該
組成物が (a)ベンジルアルコール、エチレングリコールモノフ
ェニルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエー
テル、プロピレングリコール−α−モノフェニルエーテ
ル、及び プロピレングリコール−α−モノベンジルエーテルから
選ばれる1種又は2種以上の有機溶媒0.1〜10重量
% (b)アルカリ剤 及び (c)アニオン型界面活性剤 を含有するアルカリ性水溶液であることを特徴とする現
像液組成物。
(1) A developer composition for a positive waterless photosensitive lithographic printing plate, comprising a silicone rubber layer and a photosensitive layer containing an orthoquinone diazide compound provided in this order on a substrate, the composition comprising (a) One or more organic solvents selected from benzyl alcohol, ethylene glycol monophenyl ether, ethylene glycol monobenzyl ether, propylene glycol-α-monophenyl ether, and propylene glycol-α-monobenzyl ether, 0.1 to 10 Weight % A developer composition characterized in that it is an alkaline aqueous solution containing (b) an alkaline agent and (c) an anionic surfactant.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03213862A (en) * 1990-01-18 1991-09-19 Konica Corp Developing solution for original plate for waterless planographic printing plate
JP2017083542A (en) * 2015-10-23 2017-05-18 旭化成株式会社 Printing plate material and manufacturing method therefor
JP2018041033A (en) * 2016-09-09 2018-03-15 花王株式会社 Detergent composition for peeling resin mask

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