JP2017083542A - Printing plate material and manufacturing method therefor - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、印刷用版材、及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a printing plate and a method for producing the same.
有機デバイス用の印刷法においては、高解像度での印刷プロセスが求められている。該印刷法としては、サブμmオーダーでの大面積パターニングが可能なマイクロコンタクトプリント（μＣＰ）法が知られている（非特許文献１）。
そして、特許文献１には、支持体上に、少なくとも、インキ受容層、シリコーンゴム層をこの順に積層してなる直描型水なし平版印刷版原版であって、該インキ受容層に対する水の接触角が８５°以下であり、水または水に界面活性剤を添加した水溶液で現像することを特徴とする直描型水なし平版印刷版原版が記載されている。
In the printing method for organic devices, a high resolution printing process is required. As the printing method, a micro contact printing (μCP) method capable of patterning a large area on the order of sub μm is known (Non-Patent Document 1).
しかしながら、特許文献１に開示されている技術は、高解像度かつインクの使用効率において十分な印刷プロセスといえるものではなかった。
そこで、本発明が解決しようとする課題は、高解像度かつインクの使用効率に優れる印刷プロセスを実現可能な印刷用版材、及びその製造方法を提供することである。
However, the technique disclosed in
Therefore, the problem to be solved by the present invention is to provide a printing plate material capable of realizing a printing process with high resolution and excellent use efficiency of ink, and a method for producing the same.
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、印刷面として、凸パターン部と凹パターン部とが特定の膨潤率を有する特定の樹脂からなり、さらに特定の高低差を有する印刷用版材とすることにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成した。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the inventors of the present invention have, as the printing surface, a convex pattern portion and a concave pattern portion made of a specific resin having a specific swelling rate, and further a specific height difference. The present invention has been completed by finding that the above-mentioned problems can be solved by using a printing plate material.
すなわち、本発明は以下の通りである。
［１］
印刷面として、フォトレジストからなる凸パターン部と架橋シリコーンゴムからなる凹パターン部とを含み、
前記凸パターン部の膨潤率が５質量％以下であり、前記凹パターン部の膨潤率が１０質量％以上である、印刷用版材。
［２］
前記凸パターン部の溶媒に対する接触角と、前記凹パターン部の該溶媒に対する接触角との差が２０°以上であり、該溶媒がヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、トリメチルペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、ドデシルベンゼン、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、デカノール、シクロヘキサノール、及びテルピネオールからなる群から選ばれるいずれか１種以上である、［１］に記載の印刷用版材。
［３］
前記差が３０°以上である、［２］に記載の印刷用版材。
［４］
前記架橋シリコーンゴムが、架橋ポリジメチルシロキサンを含む、［１］〜［３］のいずれかに記載の印刷用版材。
［５］
［１］〜［４］のいずれかに記載の印刷用版材に、溶媒を含むインクを塗布する工程を含む、印刷方法。
［６］
前記凸パターン部の溶媒に対する接触角と、前記凹パターン部の該溶媒に対する接触角との差が２０°以上であり、該溶媒がヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、トリメチルペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、ドデシルベンゼン、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、デカノール、シクロヘキサノール、及びテルピネオールからなる群から選ばれるいずれか１種以上であるインクに含まれる溶媒である、［５］に記載の印刷方法。
［７］
印刷面として、フォトレジストからなる凸パターン部と架橋シリコーンゴムからなる凹パターン部とを含む印刷用版材の製造方法であって、
基材に架橋シリコーンゴムからなるゴム層を形成する第一の製膜工程、
該ゴム層にフォトレジストからなるレジスト層を形成する第二の製膜工程、
該レジスト層をパターン露光する露光工程、
未硬化状態のフォトレジストを除去し凹凸構造を形成する現像工程、及び
前記レジスト層と露出した前記ゴム層とをフッ素系ガスプラズマ処理する第一の表面処理工程を含む印刷用版材の製造方法。
［８］
前記第一の製膜工程と前記第二の製膜工程の間に、前記ゴム層を酸素プラズマ処理する第二の表面処理工程を含む、［７］に記載の印刷用版材の製造方法。
That is, the present invention is as follows.
[1]
As a printing surface, including a convex pattern portion made of a photoresist and a concave pattern portion made of a crosslinked silicone rubber,
A printing plate material, wherein the convex pattern portion has a swelling ratio of 5% by mass or less, and the concave pattern part has a swelling rate of 10% by mass or more.
[2]
The difference between the contact angle of the convex pattern portion with respect to the solvent and the contact angle of the concave pattern portion with respect to the solvent is 20 ° or more, and the solvent is hexane, heptane, octane, decane, undecane, dodecane, tridecane, tetradecane, One or more selected from the group consisting of trimethylpentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, benzene, toluene, xylene, trimethylbenzene, dodecylbenzene, hexanol, heptanol, octanol, decanol, cyclohexanol, and terpineol. The printing plate material according to [1].
[3]
The printing plate material according to [2], wherein the difference is 30 ° or more.
[4]
The printing plate material according to any one of [1] to [3], wherein the crosslinked silicone rubber contains a crosslinked polydimethylsiloxane.
[5]
A printing method comprising a step of applying an ink containing a solvent to the printing plate material according to any one of [1] to [4].
[6]
The difference between the contact angle of the convex pattern portion with respect to the solvent and the contact angle of the concave pattern portion with respect to the solvent is 20 ° or more, and the solvent is hexane, heptane, octane, decane, undecane, dodecane, tridecane, tetradecane, One or more inks selected from the group consisting of trimethylpentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, benzene, toluene, xylene, trimethylbenzene, dodecylbenzene, hexanol, heptanol, octanol, decanol, cyclohexanol, and terpineol The printing method according to [5], which is a solvent contained in
[7]
As a printing surface, a printing plate material production method comprising a convex pattern portion made of a photoresist and a concave pattern portion made of a crosslinked silicone rubber,
A first film forming step of forming a rubber layer made of a crosslinked silicone rubber on a substrate;
A second film forming step of forming a resist layer made of a photoresist on the rubber layer;
An exposure step of pattern exposing the resist layer;
A method for producing a printing plate material, comprising: a developing step of removing uncured photoresist to form an uneven structure; and a first surface treatment step of treating the resist layer and the exposed rubber layer with a fluorine-based gas plasma treatment .
[8]
The method for producing a printing plate material according to [7], further including a second surface treatment step of performing oxygen plasma treatment on the rubber layer between the first film formation step and the second film formation step.
本発明によれば、高解像度かつインクの使用効率に優れる印刷プロセスを実現可能な印刷用版材、及びその製造方法を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the printing plate material which can implement | achieve the printing process which is excellent in the use efficiency of the high resolution and ink, and its manufacturing method can be provided.
以下、本発明を実施するための形態（以下、「本実施形態」と言う。）について説明する。本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施できる。 Hereinafter, a mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as “the present embodiment”) will be described. The present invention is not limited to the following embodiments, and various modifications can be made within the scope of the gist.
本実施形態の印刷用版材は、印刷面として、フォトレジストからなる凸パターン部と架橋シリコーンゴムからなる凹パターン部とを含み、前記凸パターン部の膨潤率が５質量％以下であり、前記凹パターン部の膨潤率が１０質量％以上である、印刷用版材である。
本実施形態の印刷用版材は、図１に模式的に示した断面構造を有する。本実施形態において、印刷用版材１の印刷面は、凸パターン部３と、凹パターン部２とを有し、凹パターン部２により、印刷パターンが決定される。本実施形態の印刷用版材１を用いた印刷においては、凹パターン部２にインクが添加され、次いで、印刷版に凹パターン部２のインクが移ることにより、印刷される。本実施形態の印刷用版材１は、凹版印刷において用いられる版材である。
The printing plate material of this embodiment includes, as a printing surface, a convex pattern portion made of a photoresist and a concave pattern portion made of a crosslinked silicone rubber, and the swelling ratio of the convex pattern portion is 5% by mass or less, It is a printing plate material in which the swelling ratio of the concave pattern portion is 10% by mass or more.
The printing plate material of this embodiment has a cross-sectional structure schematically shown in FIG. In the present embodiment, the printing surface of the
本実施形態において、凸パターン部がフォトレジストからなることで、凸パターン部がインクに対する撥液性（以下、単に「撥液性」ともいう。）を有し、凹パターン部が架橋シリコーンゴムからなることで、凹パターン部がインクに対する親液性（以下、単に「親液性」ともいう。）を有する。そして、印刷面として、凸パターン部が撥液性であり、凹パターン部が親液性を有することで、凸パターン部と凸パターン部とに撥液性の差が生まれ、かつ、インク転写性に優れることから、高解像度かつインクの使用効率に優れる印刷プロセスが実現可能となる。
また、凸パターン部と凹パターン部との高低差は１μｍ以上であることが好ましく、３μｍ以上であることがより好ましい。該高低差が１μｍ以上であることにより、インクが凹パターン部に入り込むことで高解像度の印刷を行うことができる。
In the present embodiment, the convex pattern portion is made of a photoresist, so that the convex pattern portion has liquid repellency with respect to ink (hereinafter also simply referred to as “liquid repellency”), and the concave pattern portion is made of crosslinked silicone rubber. Thus, the concave pattern portion has lyophilicity with respect to ink (hereinafter, also simply referred to as “lyophilic”). And as a printing surface, a convex pattern part is liquid-repellent, and a concave pattern part has lyophilicity, and a liquid-repellent difference is produced in a convex pattern part and a convex pattern part, and ink transferability Therefore, it is possible to realize a printing process with high resolution and excellent use efficiency of ink.
Further, the height difference between the convex pattern portion and the concave pattern portion is preferably 1 μm or more, and more preferably 3 μm or more. When the height difference is 1 μm or more, high resolution printing can be performed by the ink entering the concave pattern portion.
本実施形態において、凸パターン部の材料としてはフォトレジストが用いられる。
フォトレジストからなる凸パターン部の厚みは、凸パターン部と凹パターン部との高低差として表され、１μｍ以上である。凸パターン部の厚みは、３μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以上１０μｍ以下であることがより好ましい。
In the present embodiment, a photoresist is used as the material of the convex pattern portion.
The thickness of the convex pattern portion made of photoresist is expressed as a height difference between the convex pattern portion and the concave pattern portion, and is 1 μm or more. The thickness of the convex pattern portion is preferably 3 μm or more and 100 μm or less, and more preferably 3 μm or more and 10 μm or less.
本実施形態において、凹パターン部の材料としては架橋シリコーンゴムが用いられる。架橋シリコーンゴムを凹パターン部の材料としていることで、凹パターン部において、架橋シリコーンゴムは、架橋構造を有し、それにより、凹パターン部は、網目構造を有する。
凹パターン部が架橋シリコーンゴムからなる網目構造を有していることにより、凹パターン部は多孔構造となり、多孔中に溶媒が吸収され、凹パターン部は膨潤する性質を有する。
In this embodiment, a crosslinked silicone rubber is used as the material for the concave pattern portion. Since the cross-linked silicone rubber is used as the material of the concave pattern portion, the cross-linked silicone rubber has a cross-linked structure in the concave pattern portion, and thus the concave pattern portion has a network structure.
Since the concave pattern portion has a network structure made of cross-linked silicone rubber, the concave pattern portion has a porous structure, and the solvent is absorbed in the pores, and the concave pattern portion has a property of swelling.
架橋シリコーンゴムは、シロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ）を主骨格としたゴムであり、架橋前の未硬化状態にあるシリコーンゴムを架橋することで得られるゴムである。例えば、付加重合型の架橋シリコーンゴムは、ヒドロキシル基を末端に有するポリマーとビニル基を末端に有するポリマーと重合開始剤（これらの組み合わせが、２液、または３液に分けられた状態で入手可能）を混合して架橋反応を起こさせることで、得ることができる。
架橋前のシリコーンゴムとしては、シリコーンのみを重合させたものであってもよく、シリコーンと有機モノマーとを重合させた変性シリコーンゴムを用いてもよい。例えば、エチレンプロピレンゴムをシリコーン変性したゴムであってもよい。
架橋シリコーンゴムとしては、例えば、架橋オルガノポリシロキサン、架橋オルガノハイドロジェンポリシロキサン等が挙げられ、架橋ポリジメチルシロキサンが好ましい。
架橋シリコーンゴムからなる凹パターン部は、親水性官能基を凹パターン部の表面に設けるような親液性処理を行ってもよい。
The crosslinked silicone rubber is a rubber having a siloxane bond (Si—O—Si) as a main skeleton, and is a rubber obtained by crosslinking a silicone rubber in an uncured state before crosslinking. For example, addition polymerization type cross-linked silicone rubber can be obtained in a state where a polymer having a hydroxyl group at the end, a polymer having a vinyl group at the end and a polymerization initiator (the combination of these is divided into two or three liquids) ) To cause a crosslinking reaction.
As the silicone rubber before crosslinking, only silicone may be polymerized, or modified silicone rubber obtained by polymerizing silicone and an organic monomer may be used. For example, rubber obtained by modifying ethylene propylene rubber with silicone may be used.
Examples of the crosslinked silicone rubber include a crosslinked organopolysiloxane and a crosslinked organohydrogenpolysiloxane, and a crosslinked polydimethylsiloxane is preferred.
The concave pattern portion made of the crosslinked silicone rubber may be subjected to lyophilic treatment such that a hydrophilic functional group is provided on the surface of the concave pattern portion.
本実施形態において、凸パターン部と凹パターン部との高低差は、１μｍ以上である。
凸パターン部と凹パターン部との高低差が１μｍ以上であることにより、インクが凹パターン部に入り込み高解像度の印刷を行うことができる。
凸パターン部と凹パターン部との高低差は、インク転写率の観点で、１００μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましい。
本実施形態において、凸パターン部と凹パターン部との高低差は、実施例に記載の方法により測定することができる。
In the present embodiment, the height difference between the convex pattern portion and the concave pattern portion is 1 μm or more.
When the height difference between the convex pattern portion and the concave pattern portion is 1 μm or more, the ink enters the concave pattern portion and high-resolution printing can be performed.
The height difference between the convex pattern portion and the concave pattern portion is preferably 100 μm or less, and more preferably 10 μm or less, from the viewpoint of the ink transfer rate.
In this embodiment, the height difference between the convex pattern portion and the concave pattern portion can be measured by the method described in the examples.
本実施形態において、印刷用版材の凸パターン部の膨潤率は５質量％以下であり、印刷用版材の凹パターン部の膨潤率は１０質量％以上である。
印刷用版材の凸パターン部の膨潤率は３質量％以下であることが好ましい。また、印刷用版材の凹パターン部の膨潤率は２０質量％以上であることが好ましい。
本実施形態において、膨潤率とは、テトラデカンに各材料からなる試験片を浸漬させた場合の質量の変化量の指標であって、下記式から求められる値である。
膨潤率（％）＝（浸漬後の質量−浸漬前の質量）÷浸漬後の質量×１００
本実施形態において、膨潤率の測定は、実施例に記載の方法により行う。
なお、印刷用版材からそれぞれ分離することで得られる凹パターン部と凸パターン部をそのまま試験片として測定しても、各パターン部の膨潤率を測定することができる。
In this embodiment, the swelling rate of the convex pattern portion of the printing plate material is 5% by mass or less, and the swelling rate of the concave pattern portion of the printing plate material is 10% by mass or more.
The swelling ratio of the convex pattern portion of the printing plate material is preferably 3% by mass or less. The swelling ratio of the concave pattern portion of the printing plate material is preferably 20% by mass or more.
In this embodiment, the swelling rate is an index of the amount of change in mass when a test piece made of each material is immersed in tetradecane, and is a value obtained from the following formula.
Swelling ratio (%) = (mass after immersion−mass before immersion) ÷ mass after immersion × 100
In this embodiment, the swelling rate is measured by the method described in the examples.
In addition, even if the concave pattern part and convex pattern part obtained by isolate | separating from each printing plate material are measured as a test piece as it is, the swelling rate of each pattern part can be measured.
本実施形態において、凸パターン部の溶媒に対する接触角と、凹パターン部の溶媒に対する接触角との差は、大きいほど好ましいが、２０°以上であることが好ましく、３０°以上であることがより好ましく、４０°以上であることがさらに好ましく、５０°以上であることがよりさらに好ましい。
凸パターン部の溶媒に対する接触角と、凹パターン部の溶媒に対する接触角との差は、（凹パターン部の溶媒に対する接触角）−（凸パターン部の溶媒に対する接触角）として求められる。
凹パターン部及び凸パターン部の接触角は、溶媒に対する値として求められるが、溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、トリメチルペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、ドデシルベンゼン、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、デカノール、シクロヘキサノール、及びテルピネオールから選択される１種以上が好適に使用される。すなわち、凸パターン部の溶媒に対する接触角と、凹パターン部の溶媒に対する接触角との差は、前述の溶媒のうち少なくとも１種において、かつ、同一の溶媒において、２０°以上であればよい。
ここで、溶媒とは、インクに含まれる溶媒であることが好ましく、前述の各溶媒の混合溶媒であってもよい。
凸パターン部と凹パターン部との溶媒に対する接触角の差が２０°以上であることにより、凸パターン部と凹パターン部との間に撥液性の差が生じ、インクが凹パターン部に入り込みやすくなり好適である。
In the present embodiment, the difference between the contact angle of the convex pattern portion with respect to the solvent and the contact angle of the concave pattern portion with respect to the solvent is preferably as large as possible, but is preferably 20 ° or more, and more preferably 30 ° or more. Preferably, it is 40 ° or more, more preferably 50 ° or more.
The difference between the contact angle of the convex pattern portion with respect to the solvent and the contact angle of the concave pattern portion with respect to the solvent is obtained as (contact angle of the concave pattern portion with respect to the solvent) − (contact angle with respect to the solvent of the convex pattern portion).
The contact angle of the concave pattern portion and the convex pattern portion is determined as a value with respect to the solvent. Examples of the solvent include hexane, heptane, octane, decane, undecane, dodecane, tridecane, tetradecane, trimethylpentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane. , Benzene, toluene, xylene, trimethylbenzene, dodecylbenzene, hexanol, heptanol, octanol, decanol, cyclohexanol, and terpineol are preferably used. That is, the difference between the contact angle of the convex pattern portion with respect to the solvent and the contact angle of the concave pattern portion with respect to the solvent may be 20 ° or more in at least one of the aforementioned solvents and in the same solvent.
Here, the solvent is preferably a solvent contained in the ink, and may be a mixed solvent of the above-described solvents.
The difference in the contact angle with respect to the solvent between the convex pattern portion and the concave pattern portion is 20 ° or more, thereby causing a difference in liquid repellency between the convex pattern portion and the concave pattern portion, so that the ink enters the concave pattern portion. It becomes easy and is suitable.
本実施形態においては、凹パターン部が、低接触角を有し、凸パターン部が高接触角を有することにより、接触角の差により撥液性の差が生じ、印刷用版材へのインキングの際に、凹パターン部でインクが濡れ広がり、凸パターン部ではインクをはじくことで、凸パターン部から凹パターン部へインクの流動が起こり、インクが凹パターン部に入り込みやすくなる。これにより、解像度の高い凹パターン部のみにインキングが可能となり、高解像度の印刷プロセスが実現可能となる。
凸パターン部は高接触角であって、好ましくは６０°以上であり、凹パターン部は低接触角であって、インク転写性の観点から、好ましくは１０°以上４０°以下である。
なお、接触角の差が大きくなるほど、凸パターン部と凹パターン部との高低差が小さく、パターン線幅が小さくとも、パターンに対するインクの入り込みに優れる。
In the present embodiment, the concave pattern portion has a low contact angle, and the convex pattern portion has a high contact angle, thereby causing a difference in liquid repellency due to the difference in contact angle, so that the indentation on the printing plate material is caused. During king, ink spreads in the concave pattern portion and repels ink in the convex pattern portion, so that ink flows from the convex pattern portion to the concave pattern portion, and the ink easily enters the concave pattern portion. Accordingly, inking can be performed only in the concave pattern portion having a high resolution, and a high resolution printing process can be realized.
The convex pattern portion has a high contact angle, preferably 60 ° or more, and the concave pattern portion has a low contact angle, and preferably 10 ° to 40 ° from the viewpoint of ink transferability.
Note that the greater the difference in the contact angle, the smaller the difference in height between the convex pattern portion and the concave pattern portion, and the better the ink penetration into the pattern even if the pattern line width is small.
本実施形態において、接触角の測定は、凸パターン部と凹パターン部それぞれ同一の溶媒に対する接触角を測定し、その差を計算することにより、凸パターン部と凹パターン部との接触角の差を測定することができる。
具体的には、接触角計を用いることにより、凸パターン部と凹パターン部との溶媒に対する接触角の差を測定することができる。
In this embodiment, the contact angle is measured by measuring the contact angle with respect to the same solvent for each of the convex pattern portion and the concave pattern portion, and calculating the difference between the contact angles to determine the difference in the contact angle between the convex pattern portion and the concave pattern portion. Can be measured.
Specifically, by using a contact angle meter, the difference in contact angle with respect to the solvent between the convex pattern portion and the concave pattern portion can be measured.
印刷用版材における印刷面の形状は、特に限定されるものではないが、平面、円筒面等が挙げられ、印刷効率の観点で、略円筒面であることが好ましい。
本実施形態において、略円筒とは、円筒の一部に対して、印刷用版材を取り付けられた状態であり、形状として円筒状形態を有していることを意味する。すなわち、円筒にほぼ１周分取り付けた円筒版に対し、ほぼ一周分となる円筒版のうち、その一部の形状となる印刷用版材を有している版を意味する。
The shape of the printing surface in the printing plate material is not particularly limited, and examples thereof include a flat surface and a cylindrical surface. From the viewpoint of printing efficiency, a substantially cylindrical surface is preferable.
In the present embodiment, the “substantially cylindrical” means that a printing plate material is attached to a part of the cylinder and has a cylindrical shape as a shape. That is, it means a plate having a printing plate material that is a part of a cylindrical plate that is approximately one round of the cylindrical plate that is attached to the cylinder for approximately one round.
本実施形態の印刷方法は、本実施形態の印刷用版材に、溶媒を含むインクを塗布する工程を含む。
本実施形態の印刷用版材を用いて印刷を行う際の溶媒を含むインクとしては、有機溶媒を含むインクである。
インクに用いられる有機溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、トリメチルペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、ドデシルベンゼン、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、デカノール、シクロヘキサノール、及びテルピネオールから選択される１種以上が好適に使用され、無極性有機溶媒を用いることが好適であり、具体的には、テトラデカンが好適に用いられる。
本実施形態の印刷方法においては、凸パターン部の該有機溶媒に対する接触角と、凹パターン部の該有機溶媒に対する接触角との差が２０°以上である印刷用版材を用いて印刷することが好適である。
The printing method of the present embodiment includes a step of applying an ink containing a solvent to the printing plate material of the present embodiment.
The ink containing a solvent when printing using the printing plate material of the present embodiment is an ink containing an organic solvent.
Examples of the organic solvent used in the ink include hexane, heptane, octane, decane, undecane, dodecane, tridecane, tetradecane, trimethylpentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, benzene, toluene, xylene, trimethylbenzene, dodecylbenzene, hexanol, One or more selected from heptanol, octanol, decanol, cyclohexanol, and terpineol is preferably used, and a nonpolar organic solvent is preferably used. Specifically, tetradecane is preferably used.
In the printing method of the present embodiment, printing is performed using a printing plate material in which the difference between the contact angle of the convex pattern portion with respect to the organic solvent and the contact angle of the concave pattern portion with respect to the organic solvent is 20 ° or more. Is preferred.
本実施形態における印刷面として、フォトレジストからなる凸パターン部と架橋シリコーンゴムからなる凹パターン部とを含む印刷用版材の製造方法は、以下のとおりである。
当該印刷用版材の製造方法は、
１．基材に架橋シリコーンゴムからなるゴム層を形成する第一の製膜工程、
２．該ゴム層にフォトレジストからなるレジスト層を形成する第二の製膜工程、
３．該レジスト層をパターン露光する露光工程、
４．未硬化状態のフォトレジストを除去し凹凸構造を形成する現像工程、及び
５．前記レジスト層と露出した前記ゴム層とをフッ素系ガスプラズマ処理する第一の表面処理工程、を含む印刷用版材の製造方法である。
本実施形態の印刷用版材の製造方法においては、上記工程１と上記工程２の間に、前記ゴム層を酸素プラズマ処理する第二の表面処理工程を有していてもよい。また、第一の表面処理工程として、上記工程５のフッ素系ガスプラズマ処理の前に、酸素プラズマ処理を行ってもよい。
A method for producing a printing plate material including a convex pattern portion made of a photoresist and a concave pattern portion made of a crosslinked silicone rubber as a printing surface in the present embodiment is as follows.
The method for producing the printing plate material is as follows:
1. A first film forming step of forming a rubber layer made of a crosslinked silicone rubber on a substrate;
2. A second film forming step of forming a resist layer made of a photoresist on the rubber layer;
3. An exposure step of pattern exposing the resist layer;
4). 4. a developing step of removing the uncured photoresist to form a concavo-convex structure; A printing plate material manufacturing method comprising: a first surface treatment step of subjecting the resist layer and the exposed rubber layer to a fluorine-based gas plasma treatment.
In the method for producing a printing plate material of this embodiment, a second surface treatment step of performing oxygen plasma treatment on the rubber layer may be provided between the
架橋シリコーンゴムの層（凹パターン部となる）に対して、フォトレジストを架橋シリコーンゴム層全面に積層後、凹パターン部となる部分のフォトレジスト層を除去してパターンを形成することにより本実施形態の印刷用版材とすることができる。
印刷用版材の基材に対して、架橋シリコーンゴムを積層して成形することにより、架橋シリコーンゴムの層を得ることができる。
架橋シリコーンゴムの基材への成形方法は、平板状の層とすることができるのであれば特に限定されるものではないが、スピンコート、射出成形等により行うことができる。
次いで、スピンコート法等により架橋シリコーンゴム層に対して、フォトレジストを積層させる。
ポジ型レジストの場合には、スピンコート後、プリベーク（半硬化）、凹パターン部となる除去部に露光、現像して露光部のフォトレジストを除去、洗浄することにより、印刷パターンとすることができる。また、ネガ型レジストの場合には、スピンコート後、凸パターン部となる非除去部を露光して硬化、現像して凹パターン部となる非露光部を除去、洗浄することにより、印刷パターンとすることができる。
フッ素系ガスプラズマ処理におけるフッ素系ガスとしては、特に限定されるものではないが、例えば、ＣＦ4、Ｃ2Ｆ6、及びＣ3Ｆ8等のフッ化炭化水素ガスを用いることができる。
For the cross-linked silicone rubber layer (becomes a concave pattern), this is done by laminating a photoresist on the entire cross-linked silicone rubber layer and then removing the portion of the photo-resist layer that will be the concave pattern to form a pattern. The printing plate material in the form can be obtained.
A layer of crosslinked silicone rubber can be obtained by laminating and molding a crosslinked silicone rubber on the base material of the printing plate material.
The method of forming the crosslinked silicone rubber on the substrate is not particularly limited as long as it can be a flat layer, but can be performed by spin coating, injection molding, or the like.
Next, a photoresist is laminated on the crosslinked silicone rubber layer by spin coating or the like.
In the case of a positive resist, after spin coating, pre-baking (semi-curing), exposing and developing the removed portion that becomes the concave pattern portion to remove and wash the photoresist in the exposed portion, thereby forming a printed pattern. it can. Also, in the case of a negative resist, after spin coating, the non-removed portion that becomes the convex pattern portion is exposed to cure and developed, and the non-exposed portion that becomes the concave pattern portion is removed and washed, so that the print pattern and can do.
The fluorine-based gas in the fluorine-based gas plasma treatment is not particularly limited, and for example, fluorinated hydrocarbon gases such as CF 4 , C 2 F 6 , and C 3 F 8 can be used.
具体的には、以下の方法により本実施形態の印刷用版材を得ることができる。
１．印刷用版材の基材となるアルミ板等の金属板やＰＥＴ板等のプラスチック板に対して、架橋シリコーンゴムをスピンコート法によって製膜する。
２．基材上の架橋シリコーンゴム層に対して、フォトレジストを積層するための前処理として、酸素プラズマ処理を施す。架橋シリコーンゴム層に対して、酸素プラズマ処理を施すことにより、凹パターン部としての架橋シリコーンゴム層に対して、親液性を付与すると共に、フォトレジストを均一に積層することができる。酸素プラズマ処理は、酸素流量、高周波出力、処理時間を適宜制御することにより行うことができる。例えば、酸素流量１００ｍｌ／ｍｉｎ、高周波出力２００Ｗ、処理時間４ｍｉｎの条件で行うことができる。
３．架橋シリコーンゴム層の上にフォトレジストをスピンコート法によって製膜する。
４．フォトレジストを、例えば、プリベーク温度範囲を１００℃以上１２０℃以下、ベーク時間を２ｍｉｎ以上３ｍｉｎの条件で、プリベークする。
５．印刷パターン部に対して、３６５ｎｍを含む波長帯のＵＶ光を用いて、ＵＶ照射する。
６．現像・リンスすることで露光部のフォトレジストを除去し、凹凸パターン構造を形成する。現像液としては、例えば、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）水溶液等を用いることができ、現像時間は、例えば、１ｍｉｎ以上２ｍｉｎ以下で好適に行うことができる。リンス液としては、純水等を用いることができ、リンス時間は、例えば、０．５ｍｉｎ以上１ｍｉｎ以下で好適に行うことができる。
７．フォトレジストを、例えば、２００℃、ベーク時間を２ｍｉｎの条件で、ポストベークする。
８．ポストベーク後に、フッ素系ガスプラズマ処理として、ＣＦ4プラズマ処理を施す。ＣＦ4プラズマ処理を行うことで、架橋シリコーンゴムからなる凹パターン部を親液化し、同時に、フォトレジストからなる凸パターン部がさらに撥液化する。ＣＦ4プラズマ処理によって、凹パターン部の親液性と凸パターン部の撥液性が得られ、凸パターン部と凹パターン部との接触角の差が２０°以上であることにより、凸パターン部と凹パターン部との間に撥液性の差を生み出すことができる。ＣＦ4プラズマ処理は、ＣＦ4流量、高周波出力、処理時間を適宜制御することにより行うことができる。例えば、ＣＦ4流量１００ｍｌ／ｍｉｎ、高周波出力２００Ｗ、処理時間１ｍｉｎの条件で行うことができる。ＣＦ4プラズマ処理の前に、上記工程２と同様の酸素プラズマ処理を行ってもよい。
Specifically, the printing plate material of this embodiment can be obtained by the following method.
1. A cross-linked silicone rubber is formed by spin coating on a metal plate such as an aluminum plate or a plastic plate such as a PET plate, which is a base material for a printing plate.
2. As a pretreatment for laminating a photoresist, an oxygen plasma treatment is applied to the crosslinked silicone rubber layer on the substrate. By performing oxygen plasma treatment on the crosslinked silicone rubber layer, it is possible to impart lyophilicity to the crosslinked silicone rubber layer as the concave pattern portion and to uniformly laminate the photoresist. The oxygen plasma treatment can be performed by appropriately controlling the oxygen flow rate, the high frequency output, and the treatment time. For example, it can be performed under conditions of an oxygen flow rate of 100 ml / min, a high frequency output of 200 W, and a processing time of 4 min.
3. A photoresist is formed on the crosslinked silicone rubber layer by spin coating.
4). For example, the photoresist is pre-baked under the conditions of a pre-bake temperature range of 100 ° C. or higher and 120 ° C. or lower and a baking time of 2 min or longer and 3 min.
5. The printed pattern portion is irradiated with UV light using UV light in a wavelength band including 365 nm.
6). By developing and rinsing, the photoresist in the exposed area is removed to form a concavo-convex pattern structure. As the developer, for example, a tetramethylammonium hydroxide (TMAH) aqueous solution or the like can be used, and the development time can be suitably performed, for example, from 1 min to 2 min. As the rinsing liquid, pure water or the like can be used, and the rinsing time can be suitably performed, for example, at 0.5 min or more and 1 min or less.
7). For example, the photoresist is post-baked under the conditions of 200 ° C. and baking time of 2 minutes.
8). After post-baking, CF 4 plasma treatment is performed as fluorine-based gas plasma treatment. By performing the CF 4 plasma treatment, the concave pattern portion made of the crosslinked silicone rubber is made lyophilic, and at the same time, the convex pattern portion made of the photoresist is further lyophobic. Due to the CF 4 plasma treatment, the lyophilicity of the concave pattern portion and the liquid repellency of the convex pattern portion are obtained, and the difference in contact angle between the convex pattern portion and the concave pattern portion is 20 ° or more. A difference in liquid repellency can be created between the concave pattern portion and the concave pattern portion. The CF 4 plasma treatment can be performed by appropriately controlling the CF 4 flow rate, the high frequency output, and the treatment time. For example, it can be performed under the conditions of a CF 4 flow rate of 100 ml / min, a high frequency output of 200 W, and a processing time of 1 min. Before the CF 4 plasma treatment, the same oxygen plasma treatment as in step 2 may be performed.
以下、本発明を、実施例と比較例を挙げて説明するが、本実施形態は、以下の実施例に限定されるものではない。実施例及び比較例における印刷版材の評価方法は以下のとおりである。 Hereinafter, although an example and a comparative example are given and the present invention is explained, this embodiment is not limited to the following examples. The evaluation method of the printing plate material in Examples and Comparative Examples is as follows.
＜凸パターン部と凹パターン部との高低差の測定＞
接触式段差計として、微細形状測定機（サーフコーダ ＥＴ４０００Ｌ、小坂研究所製）を用いて測定を行った。
<Measurement of height difference between convex pattern part and concave pattern part>
Measurement was performed using a fine shape measuring machine (Surfcoder ET4000L, manufactured by Kosaka Laboratories) as a contact level difference meter.
＜膨潤率の測定＞
凹部材料、凸部材料をそれぞれ成型して、２０ｍｍ×２０ｍｍ×３ｍｍの形状を有する試験片とした。テトラデカンの２４℃の液槽に試験片を１０分間浸漬し、浸漬前後での質量変化から下記式に基づいて膨潤率10を測定した。
次いで、５分ずつ延長した浸漬時間における膨潤率浸漬時間として測定した。
例えば、１５分間浸漬して膨潤率15を測定し、２０分間浸漬して膨潤率20を測定した。
膨潤率浸漬時間と膨潤率(浸漬時間-5)との差が０．５未満となった際に測定を終了し、膨潤率浸漬時間を各パターン部の膨潤率とした。
膨潤率＝（浸漬後の質量−浸漬前の質量）／浸漬前の質量×１００
<Measurement of swelling rate>
A concave material and a convex material were respectively molded to obtain a test piece having a shape of 20 mm × 20 mm × 3 mm. The test piece was immersed in a tetradecane liquid bath at 24 ° C. for 10 minutes, and the swelling ratio 10 was measured based on the following formula from the mass change before and after the immersion.
Subsequently, it measured as swelling rate immersion time in the immersion time extended every 5 minutes.
For example, it was immersed for 15 minutes to measure a swelling ratio of 15, and immersed for 20 minutes to measure a swelling ratio of 20 .
The measurement was terminated when the difference between the swelling rate immersion time and the swelling rate (immersion time -5) was less than 0.5, and the swelling rate immersion time was defined as the swelling rate of each pattern portion.
Swelling ratio = (mass after immersion−mass before immersion) / mass before immersion × 100
＜接触角の測定＞
接触角計（共和界面科学製 ＤＭ−７０１）を用いて、後述するインク溶媒であるテトラデカンに対する接触角測定を行った。
<Measurement of contact angle>
Using a contact angle meter (DM-701, manufactured by Kyowa Interface Science), a contact angle measurement with respect to tetradecane, which is an ink solvent described later, was performed.
＜転写率の測定＞
転写前後の版とフィルムのインクの付着面積から、以下の計算式に基づいて転写率を算出した。
（Ｃ−Ｂ）／Ａ×１００
（Ａ：印刷前の印刷用版材にインキングした面積、Ｂ：転写後印刷用版材に残った面積、Ｃ：フィルムの転写された面積）
印刷用版材にインクが残ることなくフィルムにインクが全て転写されると１００％となる。
<Measurement of transfer rate>
The transfer rate was calculated from the ink adhesion area of the plate and film before and after transfer based on the following calculation formula.
(C−B) / A × 100
(A: Area inked in printing plate before printing, B: Area remaining in printing plate after transfer, C: Area transferred film)
If all the ink is transferred to the film without ink remaining on the printing plate material, it becomes 100%.
＜インク入り込みの測定＞
以下の各工程を行って、インク入り込みを評価した。
１．インクジェットプリンター（富士フイルムグローバルグラフィックシステムズ社製ＤＭＰ３０００）を用いて、印刷用版材の凹パターン部周辺にインク（アルバック社製Ｌ−Ａｇ１ＴｅＨ、インク溶媒はテトラデカン）を１滴を１０ｐＬとして打滴した。
２．打滴後の版をカメラで観察した。
３．凸パターン部にインクの打滴痕（円形）が観察される場合には、入り込みが不十分であるとして×とし、凹パターン部のみにインクが入り込み、凸パターン部にインクの打滴痕（円形）が全く観察されない場合を○とした。
<Measurement of ink penetration>
The following steps were performed to evaluate ink penetration.
1. Using an inkjet printer (DMP3000 manufactured by FUJIFILM Global Graphics Systems), ink (L-Ag1TeH manufactured by ULVAC, Inc., the ink solvent is tetradecane) was applied to the periphery of the concave pattern portion of the printing plate material so that one drop was 10 pL.
2. The plate after droplet ejection was observed with a camera.
3. When an ink droplet trace (circular) is observed in the convex pattern portion, X is assumed to be insufficient, and ink enters only the concave pattern portion, and ink droplet trace (circular shape) enters the convex pattern portion. ) Is not observed at all.
［実施例１〜３］
＜印刷用版材の製造＞
以下の各工程を行って、印刷用版材を製造した。
１．印刷用版材の基材として０．３ｍｍ厚のアルミ板に対して、ポリジメチルシロキサン（信越化学社製Ｘ−３２−３２７９Ａ／Ｂ、液混合により架橋反応して架橋ポリジメチルシロキサンとなる。以下、実施例の項において、該架橋ポリジメチルシロキサンを「ＰＤＭＳ」と記載する。）をスピンコータ（ミカサ社製ＭＳ−Ａ１５０）を用いたスピンコート法によって製膜した。
２．製膜後のＰＤＭＳに対してヤマト科学社製ＭＰＣ−５０００Ｓを用い、酸素ガス流量１００ｍＬ／分、高周波出力２００Ｗ、４分間処理して、酸素プラズマ処理を行った。
３．酸素プラズマ後のＰＤＭＳ上にフォトレジスト（ＡＺエレクトロニクス社製ＡＺ５２１４）を、スピンコータ（ミカサ社製ＭＳ−Ａ１５０）を用いたスピンコート法によって製膜した。フォトレジストの膜厚は、スピンコータの回転数を変化させることにより調整した。
４．フォトレジストをアズワン社製ＨＨＰ−４１１Ｖを用いて、１２０℃で６分間プリベークした。
５．印刷パターン部に対してＵＶ光（日立ハイテク社製ＭＥ１０００−ＲＤ１Ｅ、波長３６５ｎｍのＵＶを２５０ｍＪ／ｃｍ2）を照射した。
６．０．４％水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）水溶液を現像液として用いて、１分間浸漬搖動することにより現像処理を行い、次いで、純水をリンス液として用いて、３０秒間浸漬搖動することによりリンス処理を行って、露光部のレジストを除去し、凹凸構造を形成した。
７．フォトレジストをアズワン社製ＨＨＰ−４１１Ｖを用いて、２００℃で２分間ポストベークした。
８．版に対して、ヤマト科学社製ＭＰＣ−５０００Ｓを用い、酸素ガス流量１００ｍＬ／分、電力２００Ｗ、４分間処理して、酸素プラズマ処理を行い、次いで、ＣＦ4ガス流量１００ｍＬ／分、高周波出力２００Ｗ、１分間ＣＦ4プラズマ処理を行って、印刷用版材を得た。
ここで、ＣＦ4プラズマ処理により、凹パターン部のテトラデカンに対する接触角は、６０°から４０°に減少し、凸パターン部のテトラデカンに対する接触角は５０°から７０°に増加した。
得られた印刷用版材を用いて、インクの入り込みを評価した。実施例１の印刷用版材を用いた場合、凹パターン部の線幅が２０μｍの場合も、凹パターン部のみにインクが入り込み、凸パターン部にインクの打滴痕（円形）が全く観察されなかった。
[Examples 1 to 3]
<Manufacture of printing plate>
A printing plate was manufactured by performing the following steps.
1. Polydimethylsiloxane (X-32-3279A / B manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., a cross-linking reaction by liquid mixing with an aluminum plate having a thickness of 0.3 mm as the base material of the printing plate material is converted to cross-linked polydimethylsiloxane. In the section of Examples, the crosslinked polydimethylsiloxane is described as “PDMS”.) Was formed by a spin coat method using a spin coater (MS-A150 manufactured by Mikasa).
2. Oxygen plasma treatment was performed on the PDMS after film formation by using MPC-5000S manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd., using an oxygen gas flow rate of 100 mL / min and a high-frequency output of 200 W for 4 minutes.
3. A photoresist (AZ5214 manufactured by AZ Electronics Co., Ltd.) was formed on PDMS after the oxygen plasma by spin coating using a spin coater (MS-A150 manufactured by Mikasa Co.). The film thickness of the photoresist was adjusted by changing the rotation speed of the spin coater.
4). The photoresist was pre-baked for 6 minutes at 120 ° C. using HHP-411V manufactured by ASONE.
5. UV light (ME1000-RD1E manufactured by Hitachi High-Tech Co., Ltd., UV having a wavelength of 365 nm was 250 mJ / cm 2 ) was applied to the printed pattern portion.
6. Using a 0.4% aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide (TMAH) as a developer, developing is performed by immersing and immersing for 1 minute, and then immersing and oscillating for 30 seconds using pure water as a rinsing solution. Thus, a rinsing process was performed to remove the resist in the exposed portion, thereby forming a concavo-convex structure.
7). The photoresist was post-baked at 200 ° C. for 2 minutes using HHP-411V manufactured by ASONE.
8). The plate is treated with MPC-5000S manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd., oxygen gas flow rate 100 mL / min, power 200 W, 4 minutes treatment, oxygen plasma treatment, then CF 4 gas flow rate 100 mL / min, high frequency output 200 W A CF 4 plasma treatment was performed for 1 minute to obtain a printing plate material.
Here, the contact angle with respect to tetradecane of the concave pattern portion decreased from 60 ° to 40 ° by the CF 4 plasma treatment, and the contact angle with respect to tetradecane of the convex pattern portion increased from 50 ° to 70 °.
Ink penetration was evaluated using the obtained printing plate material. When the printing plate material of Example 1 is used, even when the line width of the concave pattern portion is 20 μm, ink enters only the concave pattern portion, and ink droplet marks (circular) are completely observed in the convex pattern portion. There wasn't.
［比較例１］
＜印刷用版材の製造＞
以下の各工程を行って、印刷用版材を製造した。
１．印刷用版材の基材として０．３ｍｍ厚のアルミ板に対して、実施例１記載のＰＤＭＳを滴下した。
２．シムプレート（ミスミ社製ＣＩＲＡＳ０．２−１００−２０（定尺タイプ））アルミ板の四隅に固定した。
３．凹凸パターンの付いたガラスモールド（トピック社製）をＰＤＭＳの上から重ねた。
４．ガラスモールドのうち、シムプレートに載った箇所を押込み、ＰＤＭＳをシムプレートと同じ厚さになるように流動させた。
５．流動が完了するまで静置した
６．オーブン（エスペック社製クリーンオーブンＰＶＣ−２１１Ｍ）を用いて、１５０℃、３０分間加熱しＰＤＭＳを硬化させた。
７．ガラスモールドからアルミ板上に形成されたＰＤＭＳを剥離して、印刷用版材を得た。
[Comparative Example 1]
<Manufacture of printing plate>
A printing plate was manufactured by performing the following steps.
1. PDMS described in Example 1 was dropped on a 0.3 mm thick aluminum plate as a base material for a printing plate.
2. Shim plates (CIRAS 0.2-100-20 (fixed type) manufactured by MISUMI) were fixed to the four corners of the aluminum plate.
3. A glass mold with a concavo-convex pattern (manufactured by Topic) was stacked on top of PDMS.
4). A portion of the glass mold placed on the shim plate was pushed in, and the PDMS was flowed to the same thickness as the shim plate.
5. 5. Let stand until flow is complete. PDMS was cured by heating at 150 ° C. for 30 minutes using an oven (clean oven PVC-211M manufactured by Espec).
7). The PDMS formed on the aluminum plate was peeled off from the glass mold to obtain a printing plate material.
［比較例２］
以下の各工程を行って、印刷用版材を製造した。
１．印刷用版材の基材として０．３ｍｍ厚のアルミ板に対して、ポリジメチルシロキサン（シグマアルドリッチ社製型番４８１９３９）をメタノールで希釈し、チタンテトラブトキシド（和光純薬工業社製）と１１−フェニル−１，３−ブタンジオン（東京化成工業社製）を混合・撹拌したもの（以下、本段落において、「未架橋ＰＤＭＳ」と記載する。）をスピンコータ（ミカサ社製ＭＳ−Ａ１５０）を用いたスピンコート法によって製膜し、ＵＶ照射後、オーブンで加熱した。
２．製膜後の未架橋ＰＤＭＳに対してヤマト科学社製ＭＰＣ−５０００Ｓを用い、酸素ガス流量１００ｍＬ／分、電力２００Ｗ、４分間処理して、酸素プラズマ処理を行った。
３．酸素プラズマ後の未架橋ＰＤＭＳ上にフォトレジスト（ＡＺエレクトロニクス社製ＡＺ５２１４）を、スピンコータ（ミカサ社製ＭＳ−Ａ１５０）を用いたスピンコート法によって製膜した。
４．フォトレジストをアズワン社製ＨＨＰ−４１１Ｖを用いて、１２０℃で６分間プリベークした。
５．印刷パターン部に対してＵＶ光（日立ハイテク社製ＭＥ１０００−ＲＤ１Ｅ、波長３６５ｎｍのＵＶを２５０ｍＪ／ｃｍ2）を照射した。
６．０．４％水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）水溶液を現像液として用いて、１分間浸漬搖動することにより現像処理を行い、次いで、純水をリンス液として用いて、３０秒間浸漬搖動することによりリンス処理を行って、露光部のレジストを除去し、凹凸構造を形成した。
７．フォトレジストをアズワン社製ＨＨＰ−４１１Ｖを用いて、２００℃で２分間ポストベークした。
８．版に対して、ヤマト科学社製ＭＰＣ−５０００Ｓを用い、酸素ガス流量１００ｍＬ／分、高周波出力２００Ｗ、４分間処理して、酸素プラズマ処理を行い、次いで、ＣＦ4ガス流量１００ｍＬ／分、電力２００Ｗ、１分間ＣＦ4プラズマ処理を行って、印刷用版材を得た。
[Comparative Example 2]
A printing plate was manufactured by performing the following steps.
1. Polydimethylsiloxane (Sigma Aldrich model number 481939) was diluted with methanol on a 0.3 mm thick aluminum plate as a base material for printing plate material, and titanium tetrabutoxide (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 11- A spin coater (MS-A150 manufactured by Mikasa Co., Ltd.) prepared by mixing and stirring phenyl-1,3-butanedione (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) (hereinafter referred to as “uncrosslinked PDMS” in this paragraph) was used. A film was formed by a spin coating method, and heated in an oven after UV irradiation.
2. Oxygen plasma treatment was performed on the uncrosslinked PDMS after film formation using MPC-5000S manufactured by Yamato Kagaku Co., Ltd., using an oxygen gas flow rate of 100 mL / min, power of 200 W for 4 minutes.
3. A photoresist (AZ5214 manufactured by AZ Electronics Co., Ltd.) was formed on the uncrosslinked PDMS after oxygen plasma by spin coating using a spin coater (MS-A150 manufactured by Mikasa Co.).
4). The photoresist was pre-baked for 6 minutes at 120 ° C. using HHP-411V manufactured by ASONE.
5. UV light (ME1000-RD1E manufactured by Hitachi High-Tech Co., Ltd., UV having a wavelength of 365 nm was 250 mJ / cm 2 ) was applied to the printed pattern portion.
6. Using a 0.4% aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide (TMAH) as a developer, developing is performed by immersing and immersing for 1 minute, and then immersing and oscillating for 30 seconds using pure water as a rinsing solution. Thus, a rinsing process was performed to remove the resist in the exposed portion, thereby forming a concavo-convex structure.
7). The photoresist was post-baked at 200 ° C. for 2 minutes using HHP-411V manufactured by ASONE.
8). The plate was treated with MPC-5000S manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd., oxygen gas flow rate 100 mL / min, high frequency output 200 W, treated for 4 minutes, oxygen plasma treatment, then CF 4 gas flow rate 100 mL / min, power 200 W A CF 4 plasma treatment was performed for 1 minute to obtain a printing plate material.
＜印刷用版材を用いた印刷方法＞
以下の各工程を行って、印刷を行った。
１．実施例及び比較例にて作製した印刷用版材に対して、インクとして、ＵＬＶＡＣ社製Ｌ−Ａｇ１ＴｅＨを用い、１滴１０ｐＬ（液滴径約２７μｍ）のインクジェットを用いてインキングした。
２、インキング後、版上で数分インクを乾燥させた。ここで、インクの入り込みを評価した。
３、版に対してＰＥＮフィルム（帝人社製Ｑ６５ＨＡ）を、ローラを用いて押付けた。押しつけの線圧は９８Ｎ／ｍ、押しつけ時間は３秒であった。
４、版からフィルムを離すことで、インクが転写された。
印刷に使用した印刷用版材を用いて、転写率を測定した。
<Printing method using printing plate>
Printing was performed by performing the following steps.
1. The printing plate materials produced in the examples and comparative examples were ink-inked using L-Ag1TeH manufactured by ULVAC and using an ink jet of 10 pL per droplet (droplet diameter of about 27 μm).
2. After inking, the ink was dried on the plate for several minutes. Here, the ink penetration was evaluated.
3. A PEN film (Q65HA manufactured by Teijin Ltd.) was pressed against the plate using a roller. The pressing linear pressure was 98 N / m, and the pressing time was 3 seconds.
4. The ink was transferred by releasing the film from the plate.
The transfer rate was measured using the printing plate material used for printing.
本発明は、高解像度かつインクの使用効率に優れる印刷プロセスを実現可能であるため、印刷分野において産業上の利用可能性を有する。 The present invention can realize a printing process with high resolution and excellent ink use efficiency, and thus has industrial applicability in the printing field.
１ 印刷用版材
２ 凹パターン部
３ 凸パターン部
1 Printing Plate 2 Concave Pattern 3 Convex Pattern
Claims (8)
前記凸パターン部の膨潤率が５質量％以下であり、前記凹パターン部の膨潤率が１０質量％以上である、印刷用版材。 As a printing surface, including a convex pattern portion made of a photoresist and a concave pattern portion made of a crosslinked silicone rubber,
A printing plate material, wherein the convex pattern portion has a swelling ratio of 5% by mass or less, and the concave pattern part has a swelling rate of 10% by mass or more.
基材に架橋シリコーンゴムからなるゴム層を形成する第一の製膜工程、
該ゴム層にフォトレジストからなるレジスト層を形成する第二の製膜工程、
該レジスト層をパターン露光する露光工程、
未硬化状態のフォトレジストを除去し凹凸構造を形成する現像工程、及び
前記レジスト層と露出した前記ゴム層とをフッ素系ガスプラズマ処理する第一の表面処理工程を含む印刷用版材の製造方法。 As a printing surface, a printing plate material production method comprising a convex pattern portion made of a photoresist and a concave pattern portion made of a crosslinked silicone rubber,
A first film forming step of forming a rubber layer made of a crosslinked silicone rubber on a substrate;
A second film forming step of forming a resist layer made of a photoresist on the rubber layer;
An exposure step of pattern exposing the resist layer;
A method for producing a printing plate material, comprising: a developing step of removing uncured photoresist to form an uneven structure; and a first surface treatment step of treating the resist layer and the exposed rubber layer with a fluorine-based gas plasma treatment .
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