JPH04172456A - Dampen water-free original plate for lithography - Google Patents

Dampen water-free original plate for lithography

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Publication number
JPH04172456A
JPH04172456A JP30139290A JP30139290A JPH04172456A JP H04172456 A JPH04172456 A JP H04172456A JP 30139290 A JP30139290 A JP 30139290A JP 30139290 A JP30139290 A JP 30139290A JP H04172456 A JPH04172456 A JP H04172456A
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JP
Japan
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group
hydroxyl group
polymer
sensitive layer
photosensitive layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP30139290A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazutaka Tamura
一貴 田村
Yoichi Mori
森 与一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Filing date
Publication date
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Priority to JP30139290A priority Critical patent/JPH04172456A/en
Publication of JPH04172456A publication Critical patent/JPH04172456A/en
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain an original plate for printing which can be easily developed and in which the adhesive strength between a silicon rubber layer and a sensitive layer is strong and whose printing resistance is enhanced by using as components of the sensitive layer a polymer having hydroxyl group in its side chain and an alkanoyl oxyboron compound. CONSTITUTION:In a dampen water-free plate for lithography having a silicon rubber layer and a sensitive layer provided on a base in this sequence, the sensitive layer contains as its components a polymer having hydroxyl group in its side chain, and an alkanoyl oxyboron compound. Any polymer can be used as the one used in the sensitive layer and containing hydroxyl group in its side chain only if it allows transmission of a sufficient amount of light of the same sensitive wave length as a sensitizing group contained in the sensitive layer, and polymers of ethylene unsaturated compounds, polyurethane, polyester, polyamide and the like can be mentioned as examples of the structure of the main chain of the polymer. The side chain of the polymer which has hydroxyl group is normally a hydroxyl group itself or a univalent organic group having at least one hydroxyl group. Additionally, an alkanoyl oxyboron compound is contained as an essential component in the sensitive layer and the amount by which the compound is added is desirably 0.5 to 50 wt% or more desirably 1 to 30 wt% of the total components of the amount of sensitization.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は湿し水不要平版印刷用原版に関するものであり
、さらに詳しくは、基板上にインキを反発しうるシリコ
ーンゴム層とインキを受容しうる感光層とを、この順に
設けてなる湿し水不要平版印刷用原版に関するものであ
る。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a lithographic printing original plate that does not require dampening water. The present invention relates to a lithographic printing original plate that does not require dampening water and is provided with a moisturizing photosensitive layer in this order.

[従来の技術] 従来から、シリコーンゴム層をインキ反発層とする湿し
水不要平版印刷用原版が知られている。
[Prior Art] A lithographic printing original plate that does not require dampening water and uses a silicone rubber layer as an ink repellent layer has been known.

特公昭44−23042、特公昭46−1.、6044
、特公昭51−26923、特公昭61−54222、
特公昭55−22781などには、基板上に感光層、シ
リコーンゴム層を、この順に設ζJた湿し水不要平版印
刷用原版が開示されている。
Special Publication No. 44-23042, Special Publication No. 46-1. ,6044
, Special Publication No. 51-26923, Special Publication No. 61-54222,
Japanese Patent Publication No. 55-22781 discloses a lithographic printing original plate that does not require dampening water and has a photosensitive layer and a silicone rubber layer disposed in this order on a substrate.

これらの平版印刷用原版においては、露光後、現像によ
り、未露光部(画線部)のシリコーンゴム層を除去し、
下層のインキ受容性の感光層を露出させて刷版を作製す
るのもである。この場合、シリコーンゴムには感光性が
なく、現像工程で画線部のシリコーンゴムを物理的な力
で除去する必要があった。したがって、現像工程が複雑
で時間がかかるという欠点を有していた。
In these lithographic printing original plates, after exposure, the silicone rubber layer in the unexposed areas (image areas) is removed by development.
A printing plate is prepared by exposing the underlying ink-receptive photosensitive layer. In this case, silicone rubber has no photosensitivity, and it was necessary to remove the silicone rubber in the image area by physical force during the development process. Therefore, the developing process is complicated and time-consuming.

また、特公昭60−42467、特公昭64−613、
特公昭55−47383、特開昭61−193155、
特開平1−173027などには、実質的に、基板上に
シリコーンゴム層、感光層をこの順に設けた構成の湿し
水不要平版印刷用原版が示されている。これらの平版印
刷用原版は、シリコーンゴム上に設けられたインキ受容
性の感光層を、露光後、溶解除去するのみで現像でき、
現像が非常に容易である。しかしながら、表面自由エネ
ルギーの非常に小さなシリコーンゴムの表面に、感光層
を設けているため、シリコーンゴム層と感光層との接着
が非常に悪く、十分な耐刷性が得られないという欠点を
有していた。
In addition, special public service 60-42467, special public service 64-613,
Japanese Patent Publication No. 55-47383, Japanese Patent Publication No. 61-193155,
Japanese Unexamined Patent Publication No. 1-173027 discloses a lithographic printing original plate that does not require dampening water and has a structure in which a silicone rubber layer and a photosensitive layer are substantially provided on a substrate in this order. These lithographic printing original plates can be developed by simply dissolving and removing the ink-receptive photosensitive layer provided on the silicone rubber after exposure.
Very easy to develop. However, since the photosensitive layer is provided on the surface of silicone rubber, which has a very small surface free energy, the adhesion between the silicone rubber layer and the photosensitive layer is very poor, resulting in insufficient printing durability. Was.

[発明が解決しようとする課題] 本発明は、かかる従来技術の現状に鑑み創案されたもの
で、その目的は、現像が容易で、シリコーンゴム層上感
光層との接着力が強く、耐刷性が向上した湿し水不要平
版印刷用原版を提供することにある。
[Problems to be Solved by the Invention] The present invention was devised in view of the current state of the prior art, and its objectives are to provide easy development, strong adhesion to the photosensitive layer on the silicone rubber layer, and long printing life. An object of the present invention is to provide a lithographic printing original plate which does not require dampening water and has improved properties.

[課題を解決するための手段] かかる本発明の目的は、基板上にシリコーンゴム層およ
び感光層をこの順に設けてなる湿し水不要平版印刷用原
版において、該感光層が、水酸基を側鎖に含有する重合
体、および、アルカノイルオキシホウ素化合物を成分と
して含んでいることを特徴とする湿し水不要平版印刷用
原版によって達成される。
[Means for Solving the Problems] An object of the present invention is to provide a lithographic printing original plate that does not require dampening water, which comprises a silicone rubber layer and a photosensitive layer provided in this order on a substrate, in which the photosensitive layer has hydroxyl groups in side chains. This is achieved by a lithographic printing original plate that does not require dampening water and is characterized by containing as components a polymer containing an alkanoyloxyboron compound and an alkanoyloxyboron compound.

本発明において使用されるシリコーンゴム層としては、
公知のインキ反発性を有するシリコーンゴムが使用でき
る。通常、−最大(Dで示される分子量数千〜数十万の
線状ポリシロキサンを架橋によりゴム化したものが使用
される。
The silicone rubber layer used in the present invention includes:
Any known silicone rubber having ink repellency can be used. Usually, a linear polysiloxane with a molecular weight of several thousand to several hundred thousand, represented by -maximum (D), which is made into a rubber by crosslinking, is used.

R工 □ 一←SiO→ゴ         (I)ここで、nは
1以上の整数、R1,R,、は水素原子、ビニル基、炭
素数1〜10のアルキル基、アルコキシ基、アミノアル
キル基、メルカプトアルキル基、ハロアルキル基、ヒド
ロキシアルキル基、炭素数2〜1−0のカルボキシアル
キル基、シアノアルキル基、炭素数6〜20の置換され
ていてもよいアリール基、または、アラルキル基であり
、それぞれ、同一であってもよいし、異なっていてもよ
い。
R Engineering □ 1←SiO→Go (I) Here, n is an integer of 1 or more, R1, R,, are hydrogen atoms, vinyl groups, alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms, alkoxy groups, aminoalkyl groups, mercapto an alkyl group, a haloalkyl group, a hydroxyalkyl group, a carboxyalkyl group having 2 to 1-0 carbon atoms, a cyanoalkyl group, an optionally substituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or an aralkyl group, each of which They may be the same or different.

架橋の方法としては、ポリシロキサンのアルキル基を過
酸化物を用いて架橋する方法、シラノール末端ポリシロ
キサンを加水分解可能な基(アセトキシ基、アルコキシ
基、ケトオキシム基など)を有する多官能シラン化合物
で架橋する方法、ビニルシリル基へのヒドロシリル基の
付加反応を利用する方法などが一般的である。
Crosslinking methods include crosslinking the alkyl groups of polysiloxane using peroxide, and crosslinking silanol-terminated polysiloxane with polyfunctional silane compounds having hydrolyzable groups (acetoxy groups, alkoxy groups, ketoxime groups, etc.). Common methods include a method of crosslinking and a method of utilizing an addition reaction of a hydrosilyl group to a vinylsilyl group.

本発明の感光層には、水酸基を側鎖に含有する重合体が
成分として含まれている。
The photosensitive layer of the present invention contains as a component a polymer containing a hydroxyl group in its side chain.

本発明の感光層に用いられる水酸基を側鎖に含有する重
合体は、感光層に含まれる感光基の感光波長の光を十分
透過させることができるものであればどのようなもので
もよく、主鎖の構造としては、種々の構造のものを用い
ることができる。主鎖の構造の例としては、エチレン性
不飽和化合物の重合体、ポリウレタン、ポリエステル、
ポリアミドなどが挙げられる。
The polymer containing a hydroxyl group in its side chain used in the photosensitive layer of the present invention may be of any type as long as it can sufficiently transmit light at the wavelength at which the photosensitive group contained in the photosensitive layer is sensitive. As the chain structure, various structures can be used. Examples of main chain structures include polymers of ethylenically unsaturated compounds, polyurethane, polyester,
Examples include polyamide.

本発明の感光層に含まれる重合体における水酸基を有す
る側鎖は水酸基を有するものであればどのようなもので
あってもよいが、通常、水酸基自身または水酸基を少な
くとも1個有する1−価の有機基である。水酸基を少な
くとも1個有する1価の有機基としては次のようなもの
が挙げられる。
The side chain having a hydroxyl group in the polymer contained in the photosensitive layer of the present invention may be any type as long as it has a hydroxyl group, but it is usually a hydroxyl group itself or a monovalent side chain having at least one hydroxyl group. It is an organic group. Examples of the monovalent organic group having at least one hydroxyl group include the following.

R3、R4はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子、水酸
基、アミノ基、アシル基、カルボキシ基、シアノ基、ニ
トロ基、炭素数1〜10のアルキル基、アルコキシ基な
どを表わす。
R3 and R4 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, an amino group, an acyl group, a carboxy group, a cyano group, a nitro group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group, or the like.

Aは側鎖と主鎖をつなぐ基で、酸素原子、硫黄原子、−
NH−1または、炭素数1〜1−5の2価の有機基、R
5、R6はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子、水酸基
、アミノ基、アシル基、カルボキシ基、シアノ基、ニト
ロ基、炭素数1〜10のアルキル基、アルコキシ基など
を表わす。
A is a group that connects the side chain and the main chain, and is an oxygen atom, a sulfur atom, -
NH-1 or a divalent organic group having 1 to 1-5 carbon atoms, R
5 and R6 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, an amino group, an acyl group, a carboxy group, a cyano group, a nitro group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group, or the like.

−A−←CH2−1了OH Aは側鎖と主鎖をつなぐ基で、酸素原子、硫黄原子、−
NH−1または、炭素数1〜15の2価の有機基、nは
1以上の整数を表わす。
-A-←CH2-1了OH A is a group that connects the side chain and the main chain, and is an oxygen atom, a sulfur atom, -
NH-1 or a divalent organic group having 1 to 15 carbon atoms, and n represents an integer of 1 or more.

−A−(−R7−O+−7−RToH Aは側鎖と主鎖をつなぐ基で、酸素原子、硫黄原子、−
N H−1または、炭素数1〜15の2価の有機基、R
9は炭素数1〜5のアルキレン鎖、R8は炭素数1〜1
5の2価の有機基、nは1以上の整数を表わす。
-A-(-R7-O+-7-RToH A is a group that connects the side chain and the main chain; oxygen atom, sulfur atom, -
N H-1 or a divalent organic group having 1 to 15 carbon atoms, R
9 is an alkylene chain having 1 to 5 carbon atoms, R8 is an alkylene chain having 1 to 1 carbon atoms
5, a divalent organic group, and n represents an integer of 1 or more.

− D−(7S i O+−=RπOH□ R1゜ Dは側鎖と主鎖をつなぐ基で、酸素原子、または、炭素
数1〜15の2価の有機基、R1、R1゜は水素原子、
ビニル基、炭素数1〜1oのアルキル基、アルコキシ基
、アミノアルキル基、メルカプトアルキル基、ハロアル
キル基、ヒドロキシアルキル基、炭素数2〜1oのカル
ボキシアルキル基、シアノアルキル基、炭素数6〜2o
の置換されていてもよいアリール基、または、アラルキ
ル基であり、それぞれ、同一であってもよいし、異なっ
ていてもよい。R31はジメチルシリレン基、または、
炭素数1〜15の2価の有機基、nは1以上の整数を表
わす。
- D-(7S i O+-=RπOH□ R1゜D is a group connecting the side chain and the main chain, and is an oxygen atom or a divalent organic group having 1 to 15 carbon atoms, R1 and R1゜ are hydrogen atoms,
Vinyl group, alkyl group having 1 to 1 o carbon atoms, alkoxy group, aminoalkyl group, mercaptoalkyl group, haloalkyl group, hydroxyalkyl group, carboxyalkyl group having 2 to 1 o carbon atoms, cyanoalkyl group, 6 to 2 o carbon atoms
are optionally substituted aryl groups or aralkyl groups, which may be the same or different. R31 is a dimethylsilylene group, or
A divalent organic group having 1 to 15 carbon atoms, and n represents an integer of 1 or more.

水酸基を側鎖に含有する重合体の具体例としては、次の
ようなものか挙げられる。
Specific examples of polymers containing hydroxyl groups in their side chains include the following.

−+CH−CH,←+ CH−CH7士7COCH3C
O−f−CH”ヲーーーー)−一一一う−−01((m
、nは1以上の整数) (−CH−CH2←「→CH−CJ12モτCH3CH
3 (1,m、nは1−以上の整数) 本発明の感光層には上記の水酸基を側鎖に含有する重合
体の他に、アルカノイルオキシホウ素化合物が必須成分
として含まれている。アルカノイルオキシホウ素化合物
は次の一般式(■)、または(III)で示される化合
物である。
-+CH-CH,←+ CH-CH7士7COCH3C
Of
, n is an integer greater than or equal to 1) (-CH-CH2←"→CH-CJ12moτCH3CH
3 (1, m, n are integers of 1 or more) The photosensitive layer of the present invention contains an alkanoyloxyboron compound as an essential component in addition to the above-mentioned polymer containing a hydroxyl group in its side chain. The alkanoyloxyboron compound is a compound represented by the following general formula (■) or (III).

(R+2+−?−B−(−OCR+、i)!−,(n)
ここで、aはO〜2の整数、R1゜は水酸基、炭素数1
〜10のアルキル基、アルコキシ基、または、炭素数6
〜20の置換されていてもよいアリール基、アリーロキ
シ基、アラルキル基、R13は炭素数1〜1.0のアル
キル基である。
(R+2+-?-B-(-OCR+,i)!-,(n)
Here, a is an integer from O to 2, R1゜ is a hydroxyl group, and has 1 carbon number.
~10 alkyl group, alkoxy group, or 6 carbon atoms
~20 optionally substituted aryl groups, aryloxy groups, aralkyl groups, and R13 are alkyl groups having 1 to 1.0 carbon atoms.

\、−。ン     。\, -. hmm .

ここで、R04は炭素数2〜20の2価のアルキレン基
、R15は炭素数1〜1oのアルキル基である。
Here, R04 is a divalent alkylene group having 2 to 20 carbon atoms, and R15 is an alkyl group having 1 to 1 o carbon atoms.

アルカノイルオキシホウ素化合物の例としては、トリア
セトキシホウ素、トリプロピオノイルオキシホウ素、ヒ
ドロキシジアセトキシホウ素、ヒドロキシジプロピオノ
イルオキシホウ素、メトキシジアセトキシホウ素、メト
キシジプロピオノイルオキシホウ素、エトキシジアセト
キシホウ素、エトキシジプロピオノイルオキシホウ素、
n−プロポキシジアセトキシホウ素、n−プロポキシジ
プロピオノイルオキシホウ素、イソプロポキシジアセト
キシホウ素、イソプロボキシジブロビオノイルオキシホ
ウ素、ジメトキシアセトキシホウ素、ジメトキシプロピ
オノイルオキシホウ素、ジェトキシアセトキシホウ素、
ジェトキシプロピオノイルオキシホウ素、メチルジアセ
トキシホウ素、メチルジプロピオノイルオキシホウ素、
エチルジアセトキシホウ素、エチレンプロピオノイルオ
キシホウ素、フエニルジアセトキシホウ素、フエニルジ
プロピオフィルオキシホウ素、エチレンアセトキシホウ
素、エチレンプロピオノイルオキシホウ素、1,2−プ
ロピレンアセトキシホウ素、1−22−プロピレンプロ
ピオノイルオキシホウ素、2゜?1 ブチレンアセトキ
シホウ素、2.3−ブチし・−プロピオノイルオキシホ
ウ素、、1.3−プロピし、′/アセトキシホウ素、1
.3〜プロピレンプロ)−”−+/イルオキシホウ素、
2,2−ジメ千、ル9−1□;3−プロピレンアセトキ
シホウ素、2,2−ジメチ、〆1...−、1. 、 
3−プロピしンブロビオノイルオtシ、)、: I′”
7素などが挙げられる。
Examples of alkanoyloxyboron compounds include triacetoxyboron, tripropionoyloxyboron, hydroxydiacetoxyboron, hydroxydipropionoyloxyboron, methoxydiacetoxyboron, methoxydipropionoyloxyboron, ethoxydiacetoxyboron, ethoxydipropyloxyboron, pionoyloxyboron,
n-propoxydiacetoxyboron, n-propoxydipropionoyloxyboron, isopropoxydiacetoxyboron, isoproboxydibrobionoyloxyboron, dimethoxyacetoxyboron, dimethoxypropionoyloxyboron, jetoxyacetoxyboron,
Jetoxypropionoyloxyboron, methyldiacetoxyboron, methyldipropionoyloxyboron,
Ethyldiacetoxyboron, ethylenepropionoyloxyboron, phenyldiacetoxyboron, phenyldipropiophyloxyboron, ethyleneacetoxyboron, ethylenepropionoyloxyboron, 1,2-propyleneacetoxyboron, 1-22-propylene Propionoyloxyboron, 2°? 1 Butylene acetoxyboron, 2.3-butylene-propionoyloxyboron, 1.3-propylene,'/acetoxyboron, 1
.. 3~propylenepro)-”-+/yloxyboron,
2,2-dimethylene, 9-1□; 3-propyleneacetoxyboron, 2,2-dimethy, 〆1. .. .. -, 1. ,
3-Propylenebrobionyl,): I'"
Examples include 7 elements.

伜:光層へのアルカノイルオキシホウ素化合物の添+j
ll [7、!:し7ては、感光層の成分全体に一]シ
、て0゜5〜・50重量%が好ましく、さらに好まシ、
<は]−= 30重量%である。
伜:Addition of alkanoyloxyboron compound to the optical layer +j
ll [7,! : The content of the photosensitive layer is preferably from 5 to 50% by weight, more preferably from
<is] -=30% by weight.

本発明に用いられる感光層の感光性は、1感光性成ノ、
ト、l−1で光硬化性成分を感光層に導入4″ることに
より得られる。感光性成分は水酸基を側鎖に含有する重
合体に側鎖などの形で導入されてもよい(95、感光層
中の組成として単に混合されてもよい3、感光性成分と
しては、公知のものを用いることができ1.、水酸基を
側鎖に含有する重合体に導入する場合には、導入できる
官能基として、例えば、次のような官能基およびその硬
化剤の組合ね世が挙げl=、れる。
The photosensitivity of the photosensitive layer used in the present invention is as follows:
It can be obtained by introducing a photocurable component into the photosensitive layer in step 1-1.The photosensitive component may be introduced in the form of a side chain into a polymer containing a hydroxyl group in the side chain (95 , may be simply mixed as a composition in the photosensitive layer 3. As the photosensitive component, known ones can be used 1. When introduced into a polymer containing a hydroxyl group in the side chain, it can be introduced. Examples of the functional group include the following combinations of the functional group and its curing agent.

(1)不飽和結合を有する基と光増感剤不飽和結合を有
する基としては(メタ)アクリロイル基(以下、(メタ
)ロロロはロロロまたはメタロロロを表わすものとする
)およびその誘導体、ビニル基およびその誘導体、など
が挙げられる。光増感剤としては、ベンゾフェノン誘導
体、ベンゾイン誘導体、アントラキノン誘導体、アルデ
ヒド、ケトン、イオウ化合物、ハロゲン化合物、または
、メチジノンブルー、リボフラビンなどの染料か使用で
きる。
(1) Groups with unsaturated bonds and photosensitizers Groups with unsaturated bonds include (meth)acryloyl groups (hereinafter, (meth)rororo refers to rororo or metalororo), derivatives thereof, and vinyl groups. and derivatives thereof. As the photosensitizer, benzophenone derivatives, benzoin derivatives, anthraquinone derivatives, aldehydes, ketones, sulfur compounds, halogen compounds, or dyes such as methidinone blue and riboflavin can be used.

(2)不飽和結合を有する基と三官能以上のチオール化
合物および光ラジカル発生剤 不飽和結合を有する基としては(メタ)アクリロイル基
、ビニル基、アリル基などが挙げられる。
(2) Group having an unsaturated bond, trifunctional or higher functional thiol compound, and photoradical generator Examples of the group having an unsaturated bond include a (meth)acryloyl group, a vinyl group, an allyl group, and the like.

三官能以上のチオール化合物としては、脂肪族ジチオー
ル、芳香族ジチオール、多官能アルコールとメルカプト
カルボン酸のエステル、多官能アミンとメルカプトカル
ボン酸のアミド、多官能カルボン酸とメルカプトアルコ
ールのエステル、メルカプトアルキル基を側鎖に含有す
るポリシロキサンなどが用いられる。光ラジカル発生剤
としては、公知の光ラジカル重合開始剤を用いることが
でき、過酸化〜t−ブチル、過酸化ベンゾイルなどの過
酸化物、アゾビスイソブチロニトリルなどのアゾ仕合物
、ベンゾイン誘導体などが使用できる。
Examples of trifunctional or higher-functional thiol compounds include aliphatic dithiols, aromatic dithiols, esters of polyfunctional alcohols and mercaptocarboxylic acids, amides of polyfunctional amines and mercaptocarboxylic acids, esters of polyfunctional carboxylic acids and mercapto alcohols, and mercaptoalkyl groups. Polysiloxane containing in the side chain is used. As the photoradical generator, known photoradical polymerization initiators can be used, including peroxides such as peroxide to t-butyl and benzoyl peroxide, azo compounds such as azobisisobutyronitrile, and benzoin derivatives. etc. can be used.

(3)メルカプト基を有する基と二官能以りの不飽和化
合物および光ラジカル発生剤 メルカプト基を有する基としては、メルカプト基、メル
カプトアルキル基およびその誘導体、チオフェ、=、ル
基およびその誘導体などが用いられる。
(3) A group having a mercapto group, a difunctional or higher unsaturated compound, and a photoradical generator. Examples of the group having a mercapto group include a mercapto group, a mercaptoalkyl group and its derivatives, a thiophe, =, a group and its derivatives. is used.

三官能以上の不飽和化合物は、ビニル基、アリル基、(
メタ)アクリロイル基などを二個以上含む化合物であり
、(メタ)アクリル酸と多価アルコール、多価アミンと
の縮合物、(メタ)アクリル酸と多官能エポキシ化合物
との付加物、グリシジル(メタ)アクリレートと多価ア
ルコール、多価アミン、多価カルボン酸との付加物、ア
リルアルコールと多価カルボン酸との縮合物、アリルア
ルコールと多官能エポキシ化合物との付加物、アリルハ
ライドと多価アルコールとの縮合物、ビニル基を側鎖に
含有するポリシロキサンなどが用いられる。光ラジカル
発生剤は前項(2)で上げたものを用いることができる
Trifunctional or higher-functional unsaturated compounds include vinyl groups, allyl groups, (
Compounds containing two or more meth)acryloyl groups, etc., such as condensates of (meth)acrylic acid and polyhydric alcohols or polyvalent amines, adducts of (meth)acrylic acid and polyfunctional epoxy compounds, glycidyl (meth) ) Adducts of acrylates and polyhydric alcohols, polyhydric amines, and polycarboxylic acids, condensates of allyl alcohol and polycarboxylic acids, adducts of allyl alcohols and polyfunctional epoxy compounds, allyl halides and polyhydric alcohols and polysiloxanes containing vinyl groups in their side chains. As the photoradical generator, those listed in the previous section (2) can be used.

(4)エポキシ基を有する基と光によりルイス酸を発生
させる化合物 エポキシ基を有する基としては、エポキシ基、グリシジ
ル基およびその誘導体が上げられ、末端にエポキシ基が
結合したポリアルキレン鎖やポリシロキサン鎖なども含
まれる。光によりルイス酸を発生させる化合物としては
、ジアゾニウム、ヨードニウム、スルフオニウムなどの
四フッ化ホウ素塩、六フッ化リン塩、六フッ化アンチモ
ン塩などが用いられる。
(4) Groups with epoxy groups and compounds that generate Lewis acids when exposed to light Examples of groups with epoxy groups include epoxy groups, glycidyl groups, and their derivatives, such as polyalkylene chains and polysiloxanes with epoxy groups attached to their terminals. This also includes chains. Examples of compounds that generate Lewis acids when exposed to light include boron tetrafluoride salts such as diazonium, iodonium, and sulfonium, phosphorous hexafluoride salts, and antimony hexafluoride salts.

(5)シンナモイル基と光増感剤 光増感剤としては、アントラキノン誘導体、アセナフテ
ン誘導体、ナフタリン誘導体、アントラセン誘導体、フ
ルオレノン誘導体などが用いられる。
(5) Cinnamoyl group and photosensitizer As the photosensitizer, anthraquinone derivatives, acenaphthene derivatives, naphthalene derivatives, anthracene derivatives, fluorenone derivatives, etc. are used.

(6)アジド基と光増感剤 光増感剤としては、ピリリウム塩、チアピリリウム塩な
どが用いられる。
(6) Azide group and photosensitizer As the photosensitizer, pyrylium salt, thiapyrylium salt, etc. are used.

また、感光層中に単に混合される場合の感光性成分とし
ては、次のようなものが用いられるかこれらに限定され
るものではない。
Further, as the photosensitive component when simply mixed into the photosensitive layer, the following may be used, but the invention is not limited to these.

(1−)不飽和単量体あるいはそれらのオリゴマと光増
感剤。
(1-) Unsaturated monomers or oligomers thereof and photosensitizers.

不飽和単量体としては(メタ)アクリル酸およびそのエ
ステル類、(メタ)アクリルアミド類、スチレン類、マ
レイン酸類およびそのエステル類などが挙げられる。光
増感剤としては、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾイン誘
導体、アントラキノン誘導体、アルデヒド、ケトン、イ
オウ化合物、ハロゲン化合物、または、メチレンブルー
、リボフラビンなどの染料が使用できる。
Examples of the unsaturated monomer include (meth)acrylic acid and its esters, (meth)acrylamides, styrenes, maleic acids and its esters. As the photosensitizer, benzophenone derivatives, benzoin derivatives, anthraquinone derivatives, aldehydes, ketones, sulfur compounds, halogen compounds, or dyes such as methylene blue and riboflavin can be used.

(2)三官能以上の不飽和化合物と三官能以上のチオー
ル化合物 三官能以上のチオール化合物としては、脂肪族ジチオー
ル、芳香族ジチオール、多官能アルコールとメルカプト
カルボン酸とのエステル、多官能アミンとメルカプトカ
ルボン酸とのアミド、多官能カルボン酸とメルカプトア
ルコールとのエヘーテル、メルカプトアルキル基を側鎖
に含有するボr1シロキサン、チオールを側鎖に含有す
る重合体ノ、i”とを用ることかできる。二官能以−1
や”)不り11相化菖物は、ビニル基、アリル基、(メ
タ)アクリ[:J・1゛ル基などを二個以上含む化合物
であり、(メタ)アクリル酸と多価アルコール、多価ア
ミンとσ)縮合物、(メタ)アクリル酸と多官能Lポキ
シ化合物との付加物、グリシジル(メタ)アクリし・−
トと多価アルコール、多価アミン、多価カルボ゛、酸と
の付加物、アリルアルコールと多価カルボ]7・酸との
縮合物、アリルアルコールと多官能、工」’ ”i”−
::・化合物との付加物、アリルハライドと多価アルコ
ールとの縮合物、ビニル基を側鎖に含有するポリシロキ
サン、ビニル基を側鎖に含有する重合体などが用いられ
る。
(2) Trifunctional or more unsaturated compounds and trifunctional or more thiol compounds Trifunctional or more thiol compounds include aliphatic dithiols, aromatic dithiols, esters of polyfunctional alcohols and mercaptocarboxylic acids, polyfunctional amines and mercaptocarboxylic acids. Amides of carboxylic acids, ethers of polyfunctional carboxylic acids and mercapto alcohols, bor1 siloxanes containing mercaptoalkyl groups in their side chains, and polymers containing thiols in their side chains can be used. .Bifunctional or more-1
The 11-phase iris is a compound containing two or more vinyl groups, allyl groups, (meth)acrylic [:J. Condensate of polyvalent amine and σ), adduct of (meth)acrylic acid and polyfunctional L-poxy compound, glycidyl (meth)acrylic acid-
7. Condensation products of allyl alcohol and polyhydric alcohols, polyhydric alcohols, polyhydric amines, polyhydric carboxylic acids, allyl alcohol and polyhydric carboxylic acids, allyl alcohol and polyfunctional carboxylic acids,
::・Adducts with compounds, condensates of allyl halides and polyhydric alcohols, polysiloxanes containing vinyl groups in their side chains, polymers containing vinyl groups in their side chains, etc. are used.

(3)少なくとも三官能以上のエポキシ化合物と光によ
りルイス酸を発生させる化合物三官能以上のエポキシ化
合物としfi、N、N−ジグリシジルアミノ基を含有す
る芳香族あるいは脂肪族化合物、グリシジル(メタ)ア
クリレートの重合体、あるいはグリシジル(メタ)アク
リレートとエチレン性不飽和化合物との共重合体(オリ
ゴマーを含む)、側鎖にエポキシ基を含有するポリシロ
キサンなどを用いることができる。光によりルイス酸を
発生させる化合物としては、ジアゾニウム・、ヨードニ
ウム、スルフオニウムなどの四フッ化ホウ素塩、六フッ
化リン塩、六フッ化アンチモン塩などが用いられる。
(3) At least a trifunctional or higher functional epoxy compound and a compound that generates a Lewis acid when exposed to light.A trifunctional or higher functional epoxy compound, an aromatic or aliphatic compound containing fi, N, N-diglycidylamino groups, glycidyl (meth) Acrylate polymers, copolymers (including oligomers) of glycidyl (meth)acrylate and ethylenically unsaturated compounds, polysiloxanes containing epoxy groups in side chains, and the like can be used. Examples of compounds that generate Lewis acids when exposed to light include boron tetrafluoride salts such as diazonium, iodonium, and sulfonium, phosphorous hexafluoride salts, and antimony hexafluoride salts.

(4)光二量化型の感光性樹脂と増感剤光二量化型の感
光性樹脂としては、桂皮酸ビニルの重合体、あるいは桂
皮酸ビニルとエチレン性不飽和化合物との共重合体など
を用いることができ、光増感剤としては、アントラキノ
ン誘導体、アセナフテン誘導体、ナフタリン誘導体、ア
ントラセン誘導体、フルオレノン誘導体などが用いられ
る。
(4) Photodimerizable photosensitive resin and sensitizer As the photodimerizable photosensitive resin, a polymer of vinyl cinnamate or a copolymer of vinyl cinnamate and an ethylenically unsaturated compound may be used. As the photosensitizer, anthraquinone derivatives, acenaphthene derivatives, naphthalene derivatives, anthracene derivatives, fluorenone derivatives, etc. are used.

(5)有機溶媒可溶性ジアゾ樹脂 有機溶媒可溶性ジアゾ樹脂としては、p−ジアゾジフェ
ニルアミン、またはp−ジアゾジフェニルアミンの誘導
体(例えば、3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミ
ン、4−メトキシ=11”−ジアゾジフェニルアミンな
ど)とホルムアルデヒド、またはアセトアルデヒドとの
縮合物と、ヘキサフルオロリン酸塩、テトラフルオロホ
ウ酸塩との反応生成物、あるいは、前記縮合物と、フォ
スフイン酸、またはその塩;スルフォン酸、またはその
塩;2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン・、2−ヒド
ロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルフォン
酸、またはその塩などのヒドロキシル基含有化合物との
反応生成物などが挙げられる。
(5) Organic solvent-soluble diazo resin As the organic solvent-soluble diazo resin, p-diazodiphenylamine or a derivative of p-diazodiphenylamine (for example, 3-methoxy-4-diazodiphenylamine, 4-methoxy=11''-diazodiphenylamine, etc.) ) and formaldehyde or acetaldehyde, and a reaction product of hexafluorophosphate or tetrafluoroborate, or the condensate and phosphinic acid, or a salt thereof; sulfonic acid, or a salt thereof; Examples include reaction products with hydroxyl group-containing compounds such as 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid, or salts thereof.

(6)アジド化合物と環化ゴム、あるいはポリビニルア
ルコールのアジドフタル酸エステル、アジド安息香酸エ
ステル、あるいはスチレン−無水マレイン酸共重合体と
芳香族アンド系アルコールなど。
(6) Azide compound and cyclized rubber, azidophthalate or azidobenzoate of polyvinyl alcohol, or styrene-maleic anhydride copolymer and aromatic and-based alcohol.

(7)芳香族ビスアジド化合物、例えば4,4′−ジア
ジドビフェニルなどと環化ゴム、および増感剤として、
1−二トロピレンなど。
(7) an aromatic bisazide compound, such as 4,4′-diazidobiphenyl, a cyclized rubber, and a sensitizer;
1-ditropylene etc.

本発明の感光層には感光性成分が感光層の成分全体に対
して0.1〜99.5重量%、好ましくは1〜90重量
%含まれている。
The photosensitive layer of the present invention contains a photosensitive component in an amount of 0.1 to 99.5% by weight, preferably 1 to 90% by weight, based on the total components of the photosensitive layer.

本発明の平版印刷用原版に用いられる基板としては、平
版印刷用原版に形態保持性を与え、印刷に耐え得るもの
であればどのようなものでもよく、高分子フィルム、金
属板、紙、あるいはこれらの複合材料などが用いられる
The substrate used in the lithographic printing original plate of the present invention may be any substrate as long as it gives the lithographic printing original plate shape retention and can withstand printing, such as a polymer film, metal plate, paper, or Composite materials of these materials are used.

本発明の平版印刷用原版の感光層の厚さは、0゜1−〜
10μmが好ましく、より好ましくは、0゜3〜5μm
である。また、インキ反発層の厚さは、0.5〜1.0
0Iim、より好ましくは、1−〜50μmである。
The thickness of the photosensitive layer of the lithographic printing original plate of the present invention is 0°1-~
10 μm is preferable, more preferably 0°3 to 5 μm
It is. In addition, the thickness of the ink repellent layer is 0.5 to 1.0
0Iim, more preferably 1-50 μm.

[実施例] 以下実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明
はこれらに限定されない。
[Examples] The present invention will be specifically described below with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.

実施例1 メチルメタクリレート1.00g、2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート13gをメチルイソブチルケトン50
0gに溶解し、アゾビスイソブチコニトリルを用いて重
合して、側鎖に水酸基を持つ重合体1を得た。
Example 1 1.00 g of methyl methacrylate and 13 g of 2-hydroxyethyl methacrylate were mixed with 50 g of methyl isobutyl ketone.
0 g and polymerized using azobisisobuticonitrile to obtain a polymer 1 having a hydroxyl group in the side chain.

厚さ0.24mmの砂目室てアルミ板上に、次の組成の
室温硬化型シリコーンガム組成物を!<−コーターを用
いて塗布し、100℃で2分、加熱硬化して、シリコー
ンゴム層を設けた。
A room temperature curing silicone gum composition with the following composition was placed on an aluminum plate in a grained chamber with a thickness of 0.24 mm. <- It was coated using a coater and cured by heating at 100° C. for 2 minutes to provide a silicone rubber layer.

両末端シラノールポリシロキサンPS347゜5(チッ
ソ(株)製)    100重量部エチルトリアセトキ
シシラン  1−2重量部トルエン         
 325重量部得られたシリコーンゴム層の厚さは、4
.511mであった。このシリコーンゴム層上に、つぎ
の組成の光硬化性組成物の溶液をバーコーターで塗布し
、60°Cで2分間乾燥して、感光層を設けた。
Dual-terminated silanol polysiloxane PS347°5 (manufactured by Chisso Corporation) 100 parts by weight Ethyltriacetoxysilane 1-2 parts by weight Toluene
The thickness of the silicone rubber layer obtained was 325 parts by weight.
.. It was 511m. On this silicone rubber layer, a solution of a photocurable composition having the following composition was applied using a bar coater and dried at 60°C for 2 minutes to provide a photosensitive layer.

重合体1          70重量部フエニルジア
セトキシホウ素  20重量部“アロニックス”M−3
10(東亜合成化学工業(株)製:光重合性モノマー)
 30重量部“フロラード“FC−431(3M社製)
5重量部 “イルガキュア”651(チバガイギー製)5重量部 メチルイソブチルケトン   400重量部この感光層
は、2゜5μmの厚さで、シリコーンゴム層上に問題な
く塗布でき、容易に湿し水不要平版印刷用原版を得るこ
とができた。
Polymer 1 70 parts by weight Phenyldiacetoxyboron 20 parts by weight "Aronix" M-3
10 (manufactured by Toagosei Chemical Industry Co., Ltd.: photopolymerizable monomer)
30 parts by weight “Florado” FC-431 (manufactured by 3M)
5 parts by weight "Irgacure" 651 (manufactured by Ciba Geigy) 5 parts by weight Methyl isobutyl ketone 400 parts by weight This photosensitive layer has a thickness of 2.5 μm and can be coated on the silicone rubber layer without any problems, and can be easily used in planographic printing without the need for dampening water. We were able to obtain the original printing plate.

得られた湿し水不要平版印刷用原版について、セロテー
プの粘着性を利用した剥離試験によって、感光層とシリ
コーン層の接着力を評価した。その結果、感光層とシリ
コーン層の接着は強力で、セロテープによって、感光層
が剥離されることはなかった。この湿し水不要平版印刷
用原版にネガフィルムを真空密着し、高圧水銀灯で露光
を行なった後、アセトンで現像を行なった。露光部の感
光層はトルエン不溶となり、シリコーンゴム層と強固に
接着していた。未露光部の感光層は、物理的な力を必要
とせずに溶解除去され、容易に現像できることがわかっ
た。この現像によってネガフィルムの画像に忠実な印刷
版を得ることができた。
For the obtained lithographic printing original plate that does not require dampening water, the adhesive strength between the photosensitive layer and the silicone layer was evaluated by a peel test using the adhesiveness of cellophane tape. As a result, the adhesion between the photosensitive layer and the silicone layer was strong, and the photosensitive layer was not peeled off by cellophane tape. A negative film was vacuum-adhered to this lithographic printing original plate that did not require dampening water, exposed to light using a high-pressure mercury lamp, and then developed with acetone. The photosensitive layer in the exposed area became insoluble in toluene and was firmly adhered to the silicone rubber layer. It was found that the unexposed areas of the photosensitive layer could be dissolved and removed without the need for physical force and could be easily developed. Through this development, a printing plate faithful to the image of the negative film could be obtained.

この印刷版をハマダスターオフセット印刷機に取付け、
湿し水を用いずにオフセット印刷を行なったところ、ネ
ガフィルムの画像を忠実に再現した印刷物が得られ、5
000枚以上の印刷が可能であることがわかった。
Attach this printing plate to the Hamada Star offset printing machine,
When offset printing was performed without using dampening water, prints that faithfully reproduced the negative film image were obtained, and 5
It was found that it was possible to print more than 1,000 sheets.

比較例1 重合体1の代りに、側鎖に水酸基を持たない重合体であ
るポリメチルメタクリレートを用い、アセトキシホウ素
化合物を感光層に添加しなかった以外は、実施例1とま
ったく同様の方法で湿し水不要平版印刷用原版を得た。
Comparative Example 1 A process was carried out in exactly the same manner as in Example 1, except that polymethyl methacrylate, which is a polymer without hydroxyl groups in the side chain, was used instead of Polymer 1, and an acetoxyboron compound was not added to the photosensitive layer. An original plate for lithographic printing that does not require dampening water was obtained.

得られた湿し水不要平版印刷用原版について、セロテー
プの粘着性を利用した剥離試験によって、感光層とシリ
コーン層の接着力を評価した。その結果、感光層とシリ
コーン層の接着は弱く、セロテープによって、感光層が
容易に剥離された。この湿し水不要平版印刷用原版にネ
ガフィルムを真空密着し、高圧水銀灯で露光を行なった
後、アセトンで現像を行なった。露光部の感光層はトル
エン不溶となり、未露光部の感光層は、物理的な力を必
要とせずに溶解除去され、現像できることかわかった。
For the obtained lithographic printing original plate that does not require dampening water, the adhesive strength between the photosensitive layer and the silicone layer was evaluated by a peel test using the adhesiveness of cellophane tape. As a result, the adhesion between the photosensitive layer and the silicone layer was weak, and the photosensitive layer was easily peeled off with cellophane tape. A negative film was vacuum-adhered to this lithographic printing original plate that did not require dampening water, exposed to light using a high-pressure mercury lamp, and then developed with acetone. It was found that the exposed areas of the photosensitive layer became insoluble in toluene, and the unexposed areas of the photosensitive layer could be dissolved and removed without the need for physical force, allowing for development.

この現像によってネガフィルムの画像を再現した印刷版
を得ることができたが、露光、現像操作中に感光層が一
部脱落し、版面に傷が入った。この印刷版をハマダスタ
ーオフセット印刷機に取付け、湿し水を用いずにオフセ
ット印刷を行なったところ、ネガフィルムの画像を再現
した印刷物が得られたが、前述の版面の傷が印刷物に現
われた。また、200枚程度の印刷で、感光層がさらに
脱落しはじめ、正常な印刷が行なえな(なった。
Although it was possible to obtain a printing plate that reproduced the image of the negative film through this development, a portion of the photosensitive layer fell off during the exposure and development operations, and the plate surface was scratched. When this printing plate was attached to a Hamada Star offset printing machine and offset printing was performed without using dampening water, a print that reproduced the image of the negative film was obtained, but the scratches on the plate surface described above appeared on the print. . Further, after printing about 200 sheets, the photosensitive layer further began to fall off, and normal printing could no longer be performed.

実施例2 両末端シラノールポリジメチルシロキサン(PS340
 :チッソ■製)120g、3−メタクリロキシプロピ
ルジメチルクロロシラン36gをトリエチルアミン存在
で、乾燥窒素下、トルエン中で反応させ、シラノール基
を含有するメタクリレートモノマ1を得た。さらに、さ
らに、このモノマ75gとビニルジメチルクロロシラン
4.Ogとをトリエチルアミン存在下で、乾燥窒素下、
トルエン中で反応させ、ビニル基を含有したメタクリレ
ートモノマ2を得た。
Example 2 Both-terminated silanol polydimethylsiloxane (PS340
(manufactured by Chisso Corporation) and 36 g of 3-methacryloxypropyldimethylchlorosilane were reacted in toluene under dry nitrogen in the presence of triethylamine to obtain methacrylate monomer 1 containing silanol groups. Furthermore, 75 g of this monomer and 4.0 g of vinyldimethylchlorosilane were added. Og in the presence of triethylamine under dry nitrogen,
The reaction was carried out in toluene to obtain methacrylate monomer 2 containing a vinyl group.

25gのメチルメタクリレート、20gのモノマ1.2
0gのモノマ2を、300gのトルエンに溶解し、アゾ
ビスイソブチロニトリルを用いて共重合して、水酸基と
してシラノール基を持つ重合体2を得た。また、ヘキサ
メチルシクロトリノロキサン100g、)リス(3−メ
ルカプトプロピル)トリメチルシクロトリシロキサン1
.8g、両末端シラノールポリシロキサンオリゴマー1
゜0gをアルカリ触媒を用いて重合し、側鎖にメルカプ
ト基を含有するポリシロキサン1を得た。
25g methyl methacrylate, 20g monomer 1.2
0 g of Monomer 2 was dissolved in 300 g of toluene and copolymerized using azobisisobutyronitrile to obtain Polymer 2 having silanol groups as hydroxyl groups. In addition, 100 g of hexamethylcyclotrioloxane, 1 liter of lis(3-mercaptopropyl)trimethylcyclotrisiloxane
.. 8g, both-terminated silanol polysiloxane oligomer 1
0 g was polymerized using an alkali catalyst to obtain polysiloxane 1 containing mercapto groups in the side chains.

厚さ0.24rrimの砂目立てアルミ板上に、室温硬
化型の次の組成のシリコーンガム組成物をバーコーター
を用いて塗布し、100°Cで2分間、加熱硬化して、
シリコーンゴム層を設けた。
On a grained aluminum plate with a thickness of 0.24 rrim, a room temperature curing silicone gum composition having the following composition was applied using a bar coater, and heated and cured at 100°C for 2 minutes.
A silicone rubber layer was provided.

ポリシロキサン1     100重量部ビニルトリア
セトキシシラン  12重量部トルエン       
   325重量部得られたシリコーンゴム層の厚さは
5μmであった。このシリコーンゴム層上に、っぎの組
成の感光層溶液をバーコーターで塗布した。これを60
℃で2分間乾燥し、感光層を設け、湿し水不要平版印刷
用原版を得た。
Polysiloxane 1 100 parts by weight Vinyltriacetoxysilane 12 parts by weight Toluene
The thickness of the silicone rubber layer obtained in an amount of 325 parts by weight was 5 μm. A photosensitive layer solution having the following composition was applied onto this silicone rubber layer using a bar coater. This is 60
It was dried at .degree. C. for 2 minutes, a photosensitive layer was provided, and a lithographic printing original plate requiring no dampening water was obtained.

重合体2         10・0重量部エトキシジ
アセトキシホウ素  20重量部ペンタエリスリトール
テトラキス(チオグリコレート)(多官能メルカプト化
合物;淀化学(株)製)           10重
量部“フロラード”FC−431(3M社製)5重量部 “イルガキュア”651(チバガイギー製)5重量部 トルエン          400重量部得られた感
光層の厚さは1.0μmであった。
Polymer 2 10.0 parts by weight Ethoxydiacetoxyboron 20 parts by weight Pentaerythritol tetrakis (thioglycolate) (polyfunctional mercapto compound; manufactured by Yodo Kagaku Co., Ltd.) 10 parts by weight "Florado" FC-431 (manufactured by 3M Company) 5 parts by weight "Irgacure" 651 (manufactured by Ciba Geigy) 5 parts by weight Toluene 400 parts by weight The thickness of the photosensitive layer obtained was 1.0 μm.

得られた湿し水不要平版印刷用原版について、セロテー
プの粘着性を利用した剥離試験によって、感光層とシリ
コーン層の接着力を評価した。その結果、感光層とシリ
コーン層の接着は強力で、セロテープによって、感光層
が剥離されることはなかった。この湿し水不要平版印刷
用原版にネガフィルムを真空密着し、高圧水銀灯で露光
を行なった後、アセトンで現像を行なった。露光部の感
光層はトルエン不溶となり、シリコーンゴム層と強固に
接着していた。未露光部の感光層は、物理的な力を必要
とせずに溶解除去され、容易に現像できることがわかっ
た。この現像によってネガフィルムの画像に忠実な印刷
版を得ることができた。
For the obtained lithographic printing original plate that does not require dampening water, the adhesive strength between the photosensitive layer and the silicone layer was evaluated by a peel test using the adhesiveness of cellophane tape. As a result, the adhesion between the photosensitive layer and the silicone layer was strong, and the photosensitive layer was not peeled off by cellophane tape. A negative film was vacuum-adhered to this lithographic printing original plate that did not require dampening water, exposed to light using a high-pressure mercury lamp, and then developed with acetone. The photosensitive layer in the exposed area became insoluble in toluene and was firmly adhered to the silicone rubber layer. It was found that the unexposed areas of the photosensitive layer could be dissolved and removed without the need for physical force and could be easily developed. Through this development, a printing plate faithful to the image of the negative film could be obtained.

この印刷版をハマダスターオフセット印刷機に取付け、
湿し水を用いずにオフセット印刷を行なったところ、ネ
ガフィルムの画像を忠実に再現した印刷物が得られ、1
0000枚以上の印刷が可能であることがわかった。
Attach this printing plate to the Hamada Star offset printing machine,
When offset printing was performed without using dampening water, printed matter that faithfully reproduced the negative film image was obtained.
It was found that it was possible to print more than 0,000 sheets.

実施例3 厚さ0.24rnrnの砂目立てアルミ板上に、次の組
成の室温硬化型シリコーンガム組成物をバー・コーター
を用いて塗布し、100℃で2分間、加熱硬化して、シ
リコーンゴム層を設けた。
Example 3 A room temperature curable silicone gum composition having the following composition was applied onto a grained aluminum plate with a thickness of 0.24rnrn using a bar coater, and heated and cured at 100°C for 2 minutes to form a silicone rubber. Layers were provided.

両末端シラノールポリシロキサンPS347゜5(チッ
ソ(株)製’)     〕−00重量部ビニルトリス
(メチルエチルケトオキシム)シラン        
       8重量部トルエン          
325重量部得られたシリコーンゴム層の厚さは、5μ
mであった。このシリコーンゴム層上に、フェノール性
水酸基を含む次の組成の光硬化性組成物の溶液をバーコ
ーターで塗布し、60’Cで2分間乾燥して、感光層を
設けた。
Dual-terminated silanol polysiloxane PS347゜5 (manufactured by Chisso Corporation) -00 parts by weight Vinyl tris(methyl ethyl ketoxime) silane
8 parts by weight toluene
The thickness of the silicone rubber layer obtained was 325 parts by weight.
It was m. A solution of a photocurable composition having the following composition containing a phenolic hydroxyl group was applied onto this silicone rubber layer using a bar coater and dried at 60'C for 2 minutes to provide a photosensitive layer.

ポリ−p−ヒドロキシスチレン 70重量部エチレンア
セトキシホウ素   1.0重量部“アロニックス”M
−310(東亜合成化学工業(株)製:光重合性モノマ
ー) 30重量部“フロラード”FC−431(3M社
製)5重量部 “イルガキュア”651(チバガイギー製)5重量部 メチルイソブチルケトン   400重量部この感光層
は、1.5μmの厚さで、シリコーンゴム層上に問題な
く塗布でき、容易に湿し水不要平版印刷用原版を得るこ
とができた。
Poly-p-hydroxystyrene 70 parts by weight Ethylene acetoxyboron 1.0 parts by weight "Aronix" M
-310 (manufactured by Toagosei Kagaku Kogyo Co., Ltd.: photopolymerizable monomer) 30 parts by weight "Florado" FC-431 (manufactured by 3M) 5 parts by weight "Irgacure" 651 (manufactured by Ciba Geigy) 5 parts by weight Methyl isobutyl ketone 400 parts by weight This photosensitive layer had a thickness of 1.5 .mu.m and could be coated on the silicone rubber layer without any problems, making it possible to easily obtain a lithographic printing original plate that did not require dampening water.

得られた湿し水不要平版印刷用原版について、セロテー
プの粘着性を利用した剥離試験によって、感光層とシリ
コーン層の接着力を評価した。その結果、感光層とシリ
コーン層の接着は強力で、セロテープによって、感光層
が剥離されることはなかった。この湿し水不要平版印刷
用原版にネガフィルムを真空密着し、高圧水銀灯で露光
を行なった後、アセトンで現像を行なった。露光部の感
光層はトルエン不溶となり、シリコーンゴム層と強固に
接着していた。未露光部の感光層は、物理的な力を必要
とせずに溶解除去され、容易に現像できることがわかっ
た。この現像によってネガフィルムの画像に忠実な印刷
版を得ることができた。
For the obtained lithographic printing original plate that does not require dampening water, the adhesive strength between the photosensitive layer and the silicone layer was evaluated by a peel test using the adhesiveness of cellophane tape. As a result, the adhesion between the photosensitive layer and the silicone layer was strong, and the photosensitive layer was not peeled off by cellophane tape. A negative film was vacuum-adhered to this lithographic printing original plate that did not require dampening water, exposed to light using a high-pressure mercury lamp, and then developed with acetone. The photosensitive layer in the exposed area became insoluble in toluene and was firmly adhered to the silicone rubber layer. It was found that the unexposed areas of the photosensitive layer could be dissolved and removed without the need for physical force and could be easily developed. Through this development, a printing plate faithful to the image of the negative film could be obtained.

この印刷版をハマダスターオフセット印刷機に取付け、
湿し水を用いずにオフセット印刷を行なったところ、ネ
ガフィルムの画像を忠実に再現した印刷物が得られ、5
500枚以上の印刷が可能であることがわかった。
Attach this printing plate to the Hamada Star offset printing machine,
When offset printing was performed without using dampening water, prints that faithfully reproduced the negative film image were obtained, and 5
It was found that it was possible to print more than 500 sheets.

[発明の効果] 本発明は上述のごとく構成したので、現像が容易で、シ
リコーンゴム層と感光層との接着力が強く、耐刷性が向
上した湿し水不要平版印刷用原版を得ることができた。
[Effects of the Invention] Since the present invention is configured as described above, it is possible to obtain a lithographic printing original plate that does not require dampening water and is easy to develop, has strong adhesive strength between the silicone rubber layer and the photosensitive layer, and has improved printing durability. was completed.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 基板上にシリコーンゴム層および感光層をこの順に
設けてなる湿し水不要平版印刷用原版において、該感光
層が、水酸基を側鎖に含有する重合体、および、アルカ
ノイルオキシホウ素化合物を成分として含んでいること
を特徴とする湿し水不要平版印刷用原版。
1. In a lithographic printing original plate that does not require dampening water and is formed by providing a silicone rubber layer and a photosensitive layer in this order on a substrate, the photosensitive layer contains a polymer containing a hydroxyl group in its side chain and an alkanoyloxyboron compound as a component. An original plate for lithographic printing that does not require dampening water.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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